「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 26 27 次へ＞- A plurality of transmission antennas 21 and 22 having unidirectivity whose radiation power pattern half-value angle is 70 degrees or below are placed sequentially so that the other transmission antenna 22 is placed within the radiation power pattern half-value angle of the transmission antenna 21 in the same direction.
放射電力パターン半値角が７０度以下である単一指向性を有する複数の送信アンテナ２１，２２を、一の送信アンテナ２１の放射電力パターン半値角内に、前記他の一の送信アンテナ２２が位置するように、かつ、同一方向に向けて逐次配置されたアンテナ装置。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent PED (post exposure time delay) stability and allowing formation of a pattern with a good profile, and to provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition, and a pattern forming method using the composition.
ＰＥＤ安定性に優れ、形状が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a good pattern shape excellent in roughness characteristics without film reduction or trailing, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.
ラフネス特性に優れ、且つ、膜減りや裾引きのない良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can attain high sensitivity, a favorable pattern shape, favorable roughness characteristics and reduction of residue defects, and to provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin film therefrom and a method of forming a pattern using the composition.
高感度、良好なパターン形状、良好なラフネス特性、及び残渣欠陥の低減を達成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micro dimensions and capable of avoiding partial insolubilization in over-exposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.
パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.
本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁 - The body 11 also has an antenna base 14 made to rotate, for example, clockwise at a prescribed angle and mounted, and an antenna pattern 17 having the radiation characteristics of the pattern 17 tilted by the prescribed angle to the road side.
また、アンテナ本体１１は、アンテナ基板１４を例えば時計回りに所定角度回転させて取り付けると共に、アンテナパターン１７の放射特性を道路側に所定角度チルトさせている。 - 特許庁 - To provide a radiation-curing composition giving a cured object excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film and a method for forming a pattern.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation curable composition for obtaining a hardener superior in pattern precision even when an exposure amount is comparatively small, and to provide its storing method, a cured film forming method, and a pattern forming method.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a dot pattern forming method of forming a fine dot pattern using a positive radiation-sensitive resin composition, and to provide a method of manufacturing a conductive shaped article using the dot patten forming method.
ポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて微細なドットパターンを形成する方法、及び、このドットパターン形成方法を利用して導電性造形物を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive resin composition which easily and efficiently forms a fine resist pattern without practically generating scum between parts of an insolubilized first resist pattern.
不溶化処理された第一のレジストパターンの間にスカムをほとんど生じさせることなく、微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition excellent in a pattern profile, reproducibility of a beam form and resolution relating to pattern formation by irradiation of active rays or radiation, particularly electron beams, X-rays or EUV light.
活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a new radiation sensitive composition for color filter not only having sufficient hardening property even with a low exposure but also having an excellent pattern shape, further forming a pixel pattern with a narrow line width.
低露光量でも十分な硬化性を有するのみならず、パターン形状に優れかつ線幅が狭く画素パターンを形成することができる新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.
放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁 - The flexible parts 2 have a wiring pattern for electrically connecting between adjacent circuit formation parts 3, and have a radiation pattern for radiating heat generated from the circuit formation parts 3.
フレキシブル部２には、隣り合う回路形成部３間を電気的に接続させるための配線パターンを設けると共に、回路形成部３から発せられる熱を放熱させるための放熱パターンを設ける。 - 特許庁 - To provide a radiation curable composition for obtaining a hardener superior in pattern precision even when an exposure amount is comparatively small, and to provide its storing method, a cured film forming method and a pattern forming method.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Thereafter, radiation of the energy beam 12 is stopped, and the heat is radiated from the surface of the raw material substrate 10 to deposit iron at a position corresponding to the thermal pattern 11 to form a pattern of deposition range.
そののち、エネルギービーム１２の照射を止めて素材基板１０の表面を放熱させることにより、熱分布１１に応じた位置に鉄を析出させて析出領域のパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in in-plane uniformity (CDU) of line width, and a pattern forming method using the composition.
線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having sensitivity to active light rays such as far-ultraviolet light represented by an ArF excimer laser, for example, superior in the flatness of a pattern surface without impairing fundamental material properties such as transparency to radiation, sensitivity, a resolution, and a pattern shape, and useful as a chemical amplification type resist which is improved against pattern collapse on a substrate.
活性光線、例えばＡｒＦエキシマレーザー等に代表される遠紫外線等に感応し、放射線に対する透明性、感度、解像度、パターン形状等の基本物性を損なわずに、パターン表面の平滑性に優れ、かつ基板上でのパターン倒れが改善された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - When determining to have resemblance to the sensor pattern B, the equipment determines a time T(1+α) obtained by adding a prescribed extra time to the radiation irradiation time T and, after the lapse of the irradiation time T(1+α), stops the radiation irradiation from the radiation source 6.
センサパターンＢに類似していると判定した場合、この放射線照射時間Ｔに一定の延長時間を加算した時間Ｔ（１＋α）を放射線照射時間として決定し、照射時間Ｔ（１＋α）の経過後、放射線源６からの放射線照射を停止する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁 - The lithographic method includes using an illumination system to provide a radiation beam having an illumination mode, using a patterning device to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, and projecting the patterned radiation beam onto a plurality of substrates.
リソグラフィ方法が提供され、同方法は、照明システムを使用して照明モードを有する放射ビームを供給すること、パターニングデバイスを使用して放射ビームに断面においてパターンを与えること、複数の基板上に前記パターニングされた放射ビームを投影すること、を含む。 - 特許庁 - Test boards TB1-TB3, which are housed in a non-radiation detecting region NR having a test pattern for performing the quality control test formed thereto and slidable into a radiation detecting region RR at the time of photographing of a subject, are arranged to a photographing stand 5 in which a radiation detector 10 is housed.
放射線検出器１０を収容した撮影台５に品質管理試験を行うためのテストパターンが形成された、非放射線検出領域ＮＲに収容され被写体の撮影時に放射線検出領域ＲＲ内へスライド可能なテスト基板ＴＢ１〜ＴＢ３が配置されている。 - 特許庁 - The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁 - The length of the pass-through of one part 105A of a first feeder line 105 and a second feeder line 106 through a radiation section board 101, namely, the thickness of the radiation section board 101, is set at substantially 1/4 of the conduit wavelength λg, and with this structure, superior radiation pattern can be obtained.
第１の給電線路１０５の一部１０５Ａと第２の給電線路１０６とが放射部基板１０１を貫通する長さ、すなわち放射部基板１０１の厚さを管路波長λｇの略４分の１に設定することにより、良好な放射パターンが得られるように構成している。 - 特許庁 - The lithography apparatus includes: a projection system configured to project a beam of radiation as an array of sub-beams of radiation and an array of individually controllable elements configured to modulate the sub-beams of radiation to form a requested dose pattern on a substrate.
一連の放射線のサブビームとして放射線のビームを投影するように構成された投影システムと、要求ドーズ・パターンを基板上で形成するために、放射線のサブビームを変調するように構成された個別に制御可能な要素のアレイとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁 - A pattern forming method is characterized in that a substrate is coated with the radiation sensitive resin composition for the slit spin coat by the slit spin coat method.
このスリットスピンコート用感放射線性樹脂組成物を、スリットスコート法により基板に塗布することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive resin composition having high resolution and useful as a chemically amplified resist excellent in a margin for pattern collapse.
高解像度であり、且つパターン倒れマージンに優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - At the same time, the low-k dielectric film maintains a concentration of the porogen material substantially the same before and after exposure to the first ultraviolet radiation pattern.
このとき同時に、この第一の紫外線照射パターンへの露光の前後で、ポロゲン材料の濃度は、実質的に同一に維持している。 - 特許庁 - When the 1st and 2nd divisions are exposed to electromagnetic radiation, a line or dot pattern is generated in the boundary part between the divisions by the cancellation of light.
第１と第２の区分は、電磁放射に露光されるとき、光の相殺により区分の境界部に線または点のパターンを発生する。 - 特許庁 - To provide a radio module that can enhance the reduction effect of a current flowing to a ground pattern of a circuit board so as to improve the antenna radiation characteristics.
回路基板の接地パターンに流れる電流の低減効果をさらに高め、これによりアンテナ放射特性のより一層の向上を図る。 - 特許庁 - To provide a gas radiation detector that is constituted by a micro pattern, has a high gas amplification factor, and operates stably.
マイクロパターンにより構成されるガス検出器において、高いガス増幅率を持ち、かつ安定動作するガス放射線検出器を提供する。 - 特許庁 - To remove only a periodic pattern of a scattered ray removal grid installed at an optional angle, without removing a subject image in a radiation image.
放射線画像内の被写体像を除去することなく、任意の角度で設置する散乱線除去グリッドの周期的パターンのみ除去する。 - 特許庁 - To improve component mounting density in an electronic circuit member, to improve heat radiation efficiency, and to improve the degree of freedom of laying of a wiring pattern.
電子回路部材における部品実装密度の向上と、放熱効率の向上と、配線パターン引き回しの自由度を向上させる。 - 特許庁 - The slit type image is configured to generate a curved pattern image of a patterned radiation beam on the image flat plane of a projection system.
スリット型の像は、パターニングされた放射ビームの湾曲パターンイメージ部分を投影システムの像平面に生成するように構成されている。 - 特許庁 - The optical film has a rugged pattern formed on the surface with a resin which exhibits adhesion when irradiated with ionizing radiation.
電離放射線が照射されることにより粘着性能を発現する樹脂によって表面に凹凸パターンが形成されている光学フィルム。 - 特許庁 - A pattern forming method is also provided in which a substrate is coated with the radiation sensitive resin composition by the spinless slit coat method.
このスピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物を、スリットスコート法により基板に塗布することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - Further, the emitter electrode 12 is thermally connected to a heat radiation pattern 8 on the insulation substrate 2 by a metal wire 22 (thermal connection member).
さらに、エミッタ電極１２は、金属ワイヤ２２（熱的接続部材）により絶縁基板２上の放熱用パターン８に熱的に接続されている。 - 特許庁 - A compression means 151 applies compression processing to the radiation image from which the grid pattern information has been eliminated by the elimination means 116, 117.
圧縮手段１５１は、除去手段１１６、１１７によりグリッド縞情報が除去された後の放射線画像を圧縮処理する。 - 特許庁 - The radiation element includes: a dielectric substrate (12) having a principal plane (12a); and an antenna pattern (18) formed on the principal plane of the dielectric substrate.
放射素子は、主面（１２ａ）を持つ誘電体基板（１２）と、この誘電体基板の主面上に形成されたアンテナパターン（１８）とからなる。 - 特許庁 - Also, in this pattern antenna, a microstrip line 13 for power feed is formed on the surface opposite to a planar radiation conductor 5 of the resin substrate 1.
また、このパターンアンテナでは、給電用のマイクロストリップ線１３が樹脂基板１の平面放射導体部５と反対側の面に形成される。 - 特許庁 - COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, MANUFACTURING METHOD OF COLORING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, SOLID-STATE IMAGE SENSOR, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
着色感放射線性組成物、カラーフィルタ、着色パターンの製造方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示装置 - 特許庁 - To provide a dry film which is useful for pattern formation of a radiation-sensitive resin composition layer, which requires high-accuracy fine working, and which gives a radiation-sensitive resin composition layer excellent in surface smoothness and resolution.
高精度の微細加工が要求される感放射線性樹脂組成物層のパターン形成に有用な、表面平滑性、解像度に優れる感放射線性樹脂組成物層を与えるドライフィルムの提供。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and suitable for use as a chemically sensitized resist excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A substrate can be exposed in the process windows by using a patterning means having a pattern corrected in accordance with the determined optical proximity correction rules and by using the radiation source having the intensity distribution of the radiation source.
前記決定した光学的近接補正規則に従って修正したパターンを有するパターニング手段と前記線源強度分布の線源を使って前記プロセスウインドウ内で基板を露出することもできる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition giving a reduced fluctuation range of resist pattern width, having high sensitivity to radiation and exhibiting excellent etching resistance, and a copolymer suitably employable for the resin composition.
レジストパターンの幅の変動が小さく、放射線に対する感度が高く、更にエッチング耐性に優れた感放射線性樹脂組成物及びこの樹脂組成物に好適に用いることができる共重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide a composition excellent in sensitivity to actinic radiation, radiation or heat, a resist film formed using the composition, a method for forming a pattern using the composition and an inkjet recording method using the composition.
活性光線若しくは放射線又は熱に対する感度に優れた組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法及びインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁 - Also, the first ground conductor 6 of the ground of the first radiation conductor 3, and the second ground conductor 7 ground of the second radiation conductor 5, are concentrically formed into a pattern on the other surface of the dielectric substrate 2.
また、誘電体基板２の他面には、第１の放射導体３のグラウンドである第１の接地導体６と、第２の放射導体５のグラウンドである第２の接地導体７とが、同心状にパターン形成されている。 - 特許庁
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