「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 26 27 次へ＞- In step 140, the reflected waves of the infrared radiation are received at the receiving section 5, and the received pattern is verified.
ステップ１４０では、その赤外線の反射波を受信部５で受光し、その受信パターンを確認する。 - 特許庁 - In this radiation electromagnetic wave inhibition printed circuit board, dielectric constant differs depending on a position on a flat pattern.
ベタパターン面上の位置によって誘電率が異なることを特徴とする放射電磁波抑制プリント基板。 - 特許庁 - The apparatus includes an illumination system for adjusting a radiation beam, and a supporting structure for supporting a pattern formation device.
この装置は、放射線ビームを調整する照明系と、パターン形成デバイスを支持する支持構造とを含む。 - 特許庁 - RADIATION CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING FINE STRUCTURE USING THE SAME
微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び該組成物を用いた微細構造体の製造方法 - 特許庁 - To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.
高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁 - To provide an active light sensitive or a radiation sensitive resin composition which provides a fine pattern superior in exposure latitude and a pattern form, and to provide a pattern forming method using the same.
露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enables formation of a pattern having good pattern collapse resistance and few development defects, and a pattern forming method using the composition.
パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent a head part from receiving a radiated radio wave and to prevent the directivity of a radiation pattern from being disturbed by preventing an antenna radiation source from approaching the head part during the use of a portable telephone set.
携帯電話の使用中に、アンテナ輻射源が頭部に接近しないようにして、頭部に輻射電波を受けず、且つ、輻射パターンの指向性が乱れないようする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for a display element from which a hardened resin pattern with high resolution and high transparency can be formed and sensitivity to radiation can be improved.
高解像で透明性の高い硬化樹脂パターンを形成し得て、また放射線に対する感度が高い表示素子用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION
ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - By a radiation dosage adjuster for making the radiation dosage in the width direction of the target portion change, the uneven limit dimension profile of the pattern forming equipment is compensated.
ターゲット部分の幅方向の放射線量を変化させるための線量可変装置により、平坦ではないパターン形成装置の限界寸法プロファイルが補償される。 - 特許庁 - The patterning device MA provides a pattern in a cross section of a radiation beam to form a patterned radiation beam and comprises polarization sensitive features 44.
パターニングデバイスＭＡは、放射ビームの断面内にパターンを与えることができてパターニングされた放射ビームを形成し、また、偏光感応フィーチャ４４を備えている。 - 特許庁 - A diffractive optical element (DOE) is mounted in the package to receive and diffract the radiation from the radiation source into a predefined pattern comprising multiple diffraction orders.
回折光学素子（ＤＯＥ）が、前記放射源からの放射を受け取り、そして多重の回折次元を有する既定のパターンに回折するため、前記パッケージ内に載置される。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which can form a transparent hardened resin pattern having high transmittance for visible light and high sensitivity to radiation.
可視光に対する透過率が高く、かつ放射線に対する感度が高い透明硬化樹脂パターンを形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To form a pattern by projecting a projection beam of radiation from a radiation beam system only on a function area of an array of independently controllable elements in lithography apparatus.
リソグラフィ装置において、放射線システムからの放射線の投影ビームを、個別制御可能な要素のアレイの作用領域のみに投影してパターンを形成すること。 - 特許庁 - To provide a method for compensating for the effect of flare due to stray radiation in use of a projection system of lithographic apparatus to produce a pattern image on an image plane with a patterned radiation beam.
パターン化放射線ビームで像面にパターン像を生成するために、リソグラフィ装置の投影システムの迷光放射線によるフレアの効果を補償する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for measuring the radiation angle of a semiconductor laser, which is easy to align a measuring axis with the center of a radiation pattern and allows the measuring time to be reduced.
放射パターンの中心へ測定軸を一致させる軸合わせが容易で、また、測定時間を短縮できる半導体レーザの放射角度測定装置等を提供する。 - 特許庁 - A radiation part 402a is pattern-formed on the radiation board 420 and a power feeding part 402b is formed to be a through hole and connected to a transmission line 404.
放射部４０２ａは放射基板４２０上にパターンで形成されており、給電部４０２ｂはスルーホールで形成されて伝送線路４０４に接続されている。 - 特許庁 - ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - A feeding pattern 5 is formed to the grounded substrate 2 on which the feeding radiation electrode 3 is allocated at the part facing to the open end α of the feeding radiation electrode 3.
給電放射電極３が配設される接地基板２には、給電放射電極３の開放端部αが対向する部分に給電用パターン５を形成する。 - 特許庁 - To provide a negative-type radiation-sensitive composition that has a high resolution, has a wide depth of focus (DOF), provides a proper pattern shape, and forms a curing pattern of a low-relative dielectric constant, and to provide a curing pattern that uses the pattern and a forming method of the curing pattern.
高解像度であり、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、得られるパターン形状が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁 - In this pattern forming method, a resist pattern is formed by generating an acid from a radiation-sensitive acid generation group-containing resin contained as a resin component in a radiation-sensitive resin composition by irradiation with an actinic ray or radiation to increase the solubility of the radiation-sensitive acid generation group-containing resin in a developer.
本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent, high sensitivity and giving a favorable resist pattern profile, and to provide a method for manufacturing the composition and a method for forming a resist pattern using the radiation-sensitive composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、良好なレジストパターン形状を与える感放射線性組成物、その製造方法および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent and high sensitivity, and ensuring a good resist pattern shape, and also to provide a method for producing the same, and a resist pattern forming method using the radiation-sensitive composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な感放射線性組成物、その製造方法、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving a spread bottom profile of a resist pattern, with which a pattern having few pattern collapse defects is formed, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive composition suitable for forming a cured pattern that constitutes an interlayer insulating film low in dielectric constant, and to provide a method for forming a cured pattern using the composition, and a cured pattern obtained by the method for forming a cured pattern.
比誘電率の低い層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。 - 特許庁 - The resist pattern forming method comprises the steps of forming a resist film on a substrate, exposing the resist film so as to form a pattern, developing the resist film, applying radiation to the whole surface or part of the surface of the resist pattern after developed, and baking the resist pattern after the radiation irradiation to vary a size of the pattern.
本発明は、基板上にレジスト膜を形成する工程と、パターンを形成するように該レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、該現像後のレジストパターンの全面または一部面に放射線を照射する工程と、該放射線照射後のレジストパターンにベークを施して該パターンの寸法を変化させる工程とを包含する、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a new radiation-sensitive acid generator having excellent storage stability, high transparency for radiation and high sensitivity, and to provide a positive radiation-sensitive resin composition containing the above radiation-sensitive acid generator and being excellent in the storage stability, sensitivity, resolution, pattern profile and so on.
保存安定性に優れ、放射線に対する透明性が高く、かつ高感度の新規感放射線性酸発生剤、並びに該感放射線性酸発生剤を含有し、保存安定性、感度、解像度、パターン形状等に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a compound having a sulfonyl structure, giving excellent resist pattern and useful as an acid generating agent sensitive to active radiation such as far ultraviolet radiation, a radiation-sensitive acid generating agent produced by using the compound and a positive-type or negative-type chemical- amplification radiation-sensitive resin composition.
遠紫外線等の活性放射線に感応する酸発生剤として有用で、優れたレジストパターンを可能にするスルホニル構造を有する化合物、それを用いた感放射線性酸発生剤並びに化学増幅型のポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁 - To provide a pattern-formed body where a pattern composed of parts, having different wettability by the radiation of energy, is formed efficiently.
本発明は、エネルギーの照射による濡れ性の異なる部位からなるパターンを効率よく形成したパターン形成体を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which forms a resist pattern with small LWR (line width roughness) and an excellent pattern shape.
ＬＷＲ（Ｌｉｎｅ Ｗｉｄｔｈ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）が小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with superior LWR, pattern collapse property and DOF, and to provide a method for forming a pattern using the same.
ＬＷＲ、パターン倒れ性能及びＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The V-shaped projections 11a or V-shaped recessed grooves are formed in a circular pattern concentrically about the light source 15 or in a radiation pattern about the light source 15.
Ｖ字形突起１１ａ又はＶ字形凹溝は光源１５を中心に同心円のサークル状の模様に、又は光源１５を中心に放射目状の模様に形成する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for nanoimprint and a pattern formation method using it, excellent in mold packing property, in pattern formation by a nanoimprint method.
ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation-sensitive composition developable with an aqueous alkali developing solution without swelling a fine pattern and excellent also in shelf stability and to provide a pattern forming method using the composition and a method for producing a semiconductor device using the composition.
水性アルカリ現像液で微細パタンが膨潤することなく現像でき、かつ保存安定性にも優れた感放射線組成物を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which is a resist excellent in sensitivity and resolution, ensuring small line edge roughness of a pattern, and capable of well maintaining the pattern shape.
感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition, a pattern formation method, a polymer and a compound which are excellent in pattern formation property, MEEF performance and etching resistance.
パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。 - 特許庁 - A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁 - To provide a mobile phone capable of preventing deterioration in radiation efficiency by suppressing radiation from an antenna in a direction of a human body in the case of using the mobile phone of a two-case type for a speech and obtaining a radiation pattern close to omnidirectivity except for the time when the speech is made.
２筐体型の携帯電話機を通話に用いるときはアンテナの人体方向への放射を抑制して放射効率の低下を防ぎ、通話時を除いては無指向性に近い放射パターンが得られるようにする。 - 特許庁 - The molten material surface of the molten iron tapping flow, is formed as a dappled pattern having the low portion and the high portion of the radiation brightness.
出銑流の溶融物表面は、放射輝度の低い部分と高い部分のまだら模様を形成している。 - 特許庁 - To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁 - COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, FORMATION METHOD OF PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND SOLID STATE IMAGE SENSOR
着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、および固体撮像素子 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - The lighting apparatus unit body 18 is supported by a lamp body and is caused to widely carry out beam radiation in a base light distribution pattern P1.
灯具ユニット本体１８はランプボディに支持せしめ、ベース配光パターンＰ１で幅広くビーム照射を行わせる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, dependency on pattern density distribution and surface smoothness.
感度、解像度、パターン疎密度への依存性、表面平滑性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Then, the filtering processing means 120 removes only a spatial frequency component of the periodic pattern, from the radiation image P.
このとき、フィルタ処理手段１２０は周期的パターンの空間周波数成分のみを放射線画像Ｐから除去する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplifying negative resist composition excellent in the performance for isolated pattern when active rays or radiation are used.
活性光線や放射線の使用に対して孤立性能に優れた化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
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