「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)

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  • The lithographic apparatus includes a radiation source for generating radiation, an illumination system for controlling radiation, a pattern applying device for applying a pattern to the controlled radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation to a target portion of a substrate.
    本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁
  • This method includes steps of providing a radiation source 14 capable of emitting a beam pattern, positioning a detector 16 to receive radiation emitted from the radiation source, and causing the radiation source 14 to emit the beam pattern.
    本方法は、ビームパターンを照射することができる放射線源１４を設けるステップと、放射線源から照射された放射線を受けるように検出器１６を位置決めするステップと、放射線源１４にビームパターンを照射させるステップとを含む。 - 特許庁
  • POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
  • POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
  • RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
    感放射線組成物及びパタン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING THE COMPOSITION
    ポジ型感放射線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁
  • RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    感放射線組成物及びパタン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND BLOCK COPOLYMER
    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、及びブロック共重合体 - 特許庁
  • POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN BY USING THE SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
    感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
  • RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND COMPOUND
    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD, PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
    パタン形成方法および半導体装置の製造方法および感放射線組成物 - 特許庁
  • The radiation pattern of the antenna remains omnidirectional when all the switches 14 are turned off.
    全スイッチ１４をＯＦＦにすればアンテナの放射パターンは無指向性のままとなる。 - 特許庁
  • POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
  • A heat buffer pattern 60 and a heat radiation pad 61, etc., dedicated to heat radiation are provided in an area with no circuit pattern 40, etc., required for power supply and signal transmission.
    電力供給や信号伝達のために必要な回路パターン４０等が空いているところに放熱専用の熱バッファパターン６０や放熱パッド６１等を設ける。 - 特許庁
  • METHOD OF FORMING PATTERN, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND RADIATION-SENSITIVE COMPD.
    パターン形成方法及び半導体装置の製造方法及び感放射線組成物 - 特許庁
  • POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
  • POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
  • POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • In use, the pattern is illuminated in illumination mode containing off-axis radiation beam.
    使用するとき、パターンは、オフアクシス放射ビームを含む照明モードで照明される。 - 特許庁
  • the radiation source in the machine rotates around the patient in a spiral pattern.
    装置に組み込まれた放射線源が患者の周囲でらせん状に回転する。 - PDQ®がん用語辞書 英語版
  • METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION USED FOR METHOD
    レジストパターン形成方法及びそれに用いるポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁
  • POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME
    ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
  • PIGMENT-DISPERSED RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND COLORED PATTERN FORMING METHOD
    顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法 - 特許庁
  • RESIST PATTERN-FORMING METHOD AND POSITIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED FOR THE SAME
    レジストパターン形成方法及びそれに用いるポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁
  • To obtain a radiation sensitive composition excellent in sensitivity, resolution and pattern shape and to provide a pattern forming method using the composition.
    感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The heat radiation pattern 15 is physically separated from both of the IC chip 11 and the pattern, and has a surface area larger than that of the lead-out wiring pattern.
    放熱用パターン１５は、ＩＣチップ１１、パターンのいずれとも物理的に離間されており、引き出し配線パターンに比べて大きな表面積を有する。 - 特許庁
  • ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD
    感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁
  • The resist layer may be exposed to radiation having a pattern generated using a reticle and a radiation source in a process 830.
    レジスト層は、レクチル及び放射線源を用いて生成されたパターンを有する放射線によって露光されて良い８３０。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATION GROUP-CONTAINING RESIN FOR USE IN THE SAME
    パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂 - 特許庁
  • In the method, the resin material is irradiated with radiation, and the radiation diffracted by the resin material is measured, thereby obtaining a diffraction pattern.
    樹脂素材に放射線を照射したときに当該樹脂素材により回折される放射線を測定し、回折パターンを得る。 - 特許庁
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD
    感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method suitable for fine pattern formation with an electron beam, X-ray or extreme ultraviolet radiation, and a radiation-sensitive resin composition and a radiation-sensitive acid generation group-containing resin for use in the same.
    電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
    パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁
  • FORMATION METHOD OF PIXEL PATTERN, COLOR FILTER, DISPLAY ELEMENT AND COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
    画素パターンの形成方法、カラーフィルタ、表示素子及び着色感放射線性組成物 - 特許庁
  • To quickly recover deterioration in a radiation pattern on the occurrence of a fault in an antenna element.
    アンテナ素子の故障時において、迅速に放射パターンの劣化を迅速に回復する。 - 特許庁
  • RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
    感放射線性組成物、化合物、化合物の製造方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • To reduce a first side lobe level of an E surface in the radiation pattern of a tapered slot antenna.
    テーパードスロットアンテナの放射パターンにおいてＥ面の第１サイドロブレベルを低減する。 - 特許庁
  • To provide a light emitting device for obtaining a radiation pattern having superior emitted light.
    良好な出射光の放射パターンを得ることができる発光素子を提供する。 - 特許庁
  • CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • Switching the switch elements 4a, 4b controls the radiation pattern within the vertical plane.
    このスイッチ素子４ａ，４ｂの断続によって、垂直面内の放射パターンの制御を行う。 - 特許庁
  • To provide a high-frequency sensor device having an antenna whose radiation pattern is easily controlled.
    放射パターンの制御が容易なアンテナを備えた高周波センサ装置を提供すること。 - 特許庁
  • PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
    パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁
  • To provide a collinear antenna capable of obtaining a radiation pattern suitable for communication in multiple frequencies.
    多周波において通信に適する放射パターンを得ることができるコーリニアアンテナとする。 - 特許庁
  • Radiation is transmitted toward the alignment mark and diffracted by a pattern in the alignment mark.
    放射がアライメントマークに向かって伝送され、アライメントマーク内のパターンによって回折される。 - 特許庁
  • ANTENNA RADIATION PATTERN CONTROL METHOD OF BASE STATION IN MOBILE COMMUNICATION SYSTEM, AND THE SYSTEM
    移動通信システムにおける基地局アンテナ放射パターン制御方法及びそのシステム - 特許庁
  • The radiation from the antenna element is operated from a slot-shaped opening formed at the conductor pattern.
    アンテナ素子からの放射は、前記導体パターンに設けたスロット状の開口部から行う。 - 特許庁
  • RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR APPARATUS
    感放射線組成物およびパタン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
  • RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD, POLYMER AND COMPOUND OF THE SAME
    感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁
  • To improve isolation characteristics while suppressing distortion of a radiation pattern in a patch antenna.
    パッチアンテナにおける放射パターンの歪みを抑制しつつアイソレーション特性を向上させる。 - 特許庁
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