「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 26 27 次へ＞- A projection system is configured to project a radiation beam with a pattern onto the substrate.
投影システムは、基板上にパターン付放射ビームを投影するように構成される。 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE WITH RESIST FILM, AND PATTERN FORMING METHOD
感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法 - 特許庁 - The measured target spectrum is generated by inducing radiation beam into the target pattern.
測定ターゲットスペクトルは放射ビームをターゲットパターンに誘導することによって生成される。 - 特許庁 - PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - Though the light source 71 has a two-dimensional radiation pattern which is a radiation pattern having luminosity changing as the function of a position, a two-dimensional luminosity pattern at the position of the exit aperture 76 is made comparatively uniform by the condensing unit 72.
光源（７１）は位置の関数として変化する光度を持つ放射パターンである二次元放射パターンを有するが、出口開口（７６）の位置での二次元光度パターンは集光器（７２）によって比較的均一となる。 - 特許庁 - The patch pattern 7' includes a starting end 7'a to be detected which is longer than a major axis length of the oval shape in the radiation pattern IR'.
パッチパターン７’は照射パターンIR’の長円形状の長径方向長さより長い被検出開始端７’ａを有する。 - 特許庁 - To automatically extract such a ground pattern and a power source pattern that have a possibility of causing unnecessary radiation in a design stage of a printed board.
基板の設計段階で不要放射を生じる恐れのあるグラウンドパターン及び電源パターンを自動的に抽出する。 - 特許庁 - Also, a radiating pattern 6 for the radiation of the bare chip 5 is formed integrally with the conductive pattern 3 in the lowermost base member 7.
また、最下層の基材７に、半導体ベアチップ５の放熱用の放熱パターン６を導体パターン３と一体的に形成する。 - 特許庁 - The RF circuit 4 has a circuit pattern 5 and part of the circuit pattern 5 is placed at a gap between the radiation electrodes 3a, 3b.
ＲＦ回路４は回路パターン５を有し、回路パターン５の一部は放射電極３ａ，３ｂ間の間隙に配置する。 - 特許庁 - To provide an omnidirectional antenna in which a radiation pattern hardly causing decline in radiation in any direction is generated.
本発明は、無指向性アンテナに関し、何れの方向にも放射の落ち込みがほとんど生じない放射パターンを生成することにある。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜およびパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a heat radiation substrate in which a fine circuit pattern can be formed and which is improved in heat radiation characteristics, and to provide a method of manufacturing the same.
微細回路パターンの形成が可能であるうえ、放熱特性が向上した放熱基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANKS, AND PATTERN FORMATION METHOD
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法 - 特許庁 - The device manufacturing method includes generating a first type radiation using a second-type radiation beam, monitoring the quality of the second-type radiation and projecting the radiation beam with a first-type pattern onto a substrate.
デバイス製造方法は、第１タイプの放射を第２タイプの放射ビームを用いて発生することと、第２タイプの放射の品質をモニタすることと、第１タイプのパターン付き放射ビームを基板上に投影することを含む。 - 特許庁 - To provide a wireless communications system where a service provider measures the radiation pattern of a base station antenna and automatically re-adjusts the radiation pattern by taking non-uniformity of an RF characteristic into account.
ワイヤレス通信システムのサービスプロバイダが、ＲＦ特性の不均一性を考慮に入れて、基地局アンテナの放射パターンを測定し自動的に再調整することを可能にする。 - 特許庁 - The LED device is provided with a substrate, a metallic radiation pattern which is formed on the substrate and whose thickness is 100 to 300 μm, and an LED element mounted on the radiation pattern.
基板と、 前記基板上に形成される、厚さが１００〜３００μｍの金属製の放熱パターンと、 前記放熱パターン上に実装されるＬＥＤ素子と、 を備えるＬＥＤ装置とする。 - 特許庁 - These through holes 13 are formed so as to surround the mounting area 11A of the surface side radiation pattern 11, and connected to the surface side radiation pattern 11 so as to transmit heat.
そして、スルーホール１３は、表面側放熱パターン１１の装着領域１１Ａを囲むように形成され、表面側放熱パターン１１と熱伝達可能に接続されている。 - 特許庁 - To provide an antenna system which controls a radiation pattern within a perpendicular plane even in a low elevating angle direction, a radiation pattern within a horizontal plane, and also a radiation pattern within the vertical plane at the same time, and also to provide communication terminal equipment provided with the antenna system.
垂直面内の放射パターンをより低仰角方向へも制御できるようにし、また、水平面内の放射パターンを制御するとともに垂直面内の放射パターンを同時に制御できるようにしたアンテナ装置およびそれを備えた通信端末装置を構成する。 - 特許庁 - The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.
ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁 - To provide: a negative radiation-sensitive composition capable of forming a cured pattern having a low relative dielectric constant; a cured pattern forming method using the same; and a cured pattern obtained by the cured pattern forming method.
低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a resist pattern which sufficiently satisfies MEEF, LWR and CDU and pattern collapse resistance properties, and to provide a method for forming the resist pattern using the radiation sensitive resin composition.
ＭＥＥＦ、ＬＷＲ、ＣＤＵ及び耐パターン倒れ性を十分に満足するレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To adjust the radiation pattern of a radio wave from an antenna in accordance with the installation.
設置状況に応じてアンテナから放射される電波の放射パターンを調整できるようにする。 - 特許庁 - ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME
感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME
感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a method of predicting a radiation pattern emitted by an energy applicator.
本発明は、エネルギーアプリケータにより放出される放射パターンを予測する方法を提供する。 - 特許庁 - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM FORMING METHOD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR REDUCING RADIATION PATTERN VARIATION OF LONG- DISTANCE ELECTROMAGNETIC FIELD FOR FLIP CHIP LIGHT- EMITTING DIODE
フリップチップ発光ダイオードにおける遠距離電磁界の放射パターンの変化を低減する方法 - 特許庁 - The material of the heat radiation pattern 4 is same as the material for forming an array of the liquid crystal panel 1.
放熱パターン４の材料を液晶パネル１のアレーを形成する材料と同一とする。 - 特許庁 - ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線または感放射線樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC-RAY OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線または感放射線樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
ネガ型パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁 - To provide a resist composition suitable for use in fine pattern formation with an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.
電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - the enhanced response of an antenna in a given direction as indicated by a loop in its radiation pattern
電磁波照射パターンで輪によって示される特定の方向へのアンテナの高められた応答 - 日本語WordNet - RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ION IMPLANTATION AND PATTERN FORMING METHOD FOR ION IMPLANTATION
イオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物、及びイオンインプランテーション用パターン形成方法 - 特許庁 - To restrict an unwanted electromagnetic radiation which arises from each pattern of a power source layer and a ground layer.
電源層とグランド層との各パターンから発生する不要電磁放射を抑制すること。 - 特許庁 - RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM OR EUV (EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION) AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
電子線またはＥＵＶ（極端紫外光）用レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE-RAY SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
