「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 次へ＞- To provide a radiation sensitive resin composition for forming microlens which can form a microlens which has an excellent film thickness, resolution, pattern shape, transparency, heat resistance, heat discoloring resistance and solvent resistance or the like and a favorable preservation stability.
膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好なマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The position on the mask is heated at each line strength by an irradiation projector containing a radiation device 300 located outside a lithography beam path, and the heating of the masks generates a distortion in a mask pattern by local thermal expansion.
マスク上の位置はリソグラフィービーム経路の外に配置された放射線装置３００を含む照射投光器によりそれぞれの線強度で加熱され、マスクの加熱は局部熱膨張によりマスクパターンに歪みを発生する。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition capable of improving roughness characteristics, an exposure latitude and a development defect performance, and suppressing a standing wave, and to provide a pattern forming method using the composition.
ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has improved performance of Line Width Roughness and Depth of Focus and also adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and to provide a pattern forming method employing the same.
ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.
９０ｎｍ以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、ＤＯＦとＭＥＥＦのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with reduced blob defects, which is suitable for not only a normal dry process but for an immersion process, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、ブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Then, a field conversion method is applied to the measuring point group in the three-dimensional space, to thereby determine a radiation pattern from the measuring point group in a position separated by an optional distance from the measuring object (1).
続いて、三次元空間的な前記計測点群にフィールド変換法を適用することによって、前記計測点群から、前記測定対象物（１）から任意の距離だけ離れた位置における放射パターンを求めることができる。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.
ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In the antenna device, electric length of the radiation element 2 is changed by applying a predetermined electric field from the first electrode pattern 51 to the first dielectric layer 11 thereby changing the dielectric constant of the first dielectric layer 11.
本発明にかかるアンテナ装置では、第１の電極パターン５１から第１の誘電体層１１に所定の電界を印加することで第１の誘電体層１１の誘電率を変化させて放射素子２の電気長を変化させる。 - 特許庁 - To provide a mobile communication terminal device and an antenna for the device wherein direction of a radiation pattern of electric wave becomes always stated direction to a mobile telephone body, variation is eliminated and antenna performance can be improved.
電波の放射パターンの向きが携帯電話機本体に対して常に一定の向きとなって、ばらつきが無くなり、アンテナ性能を向上することができるようにした移動通信端末装置および同装置用アンテナを提供する。 - 特許庁 - In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.
パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁 - To provide an optically controlled phase array antenna which easily creates light intensity distribution of an arbitrary form on the front-side focusing plane of a Fourier transform lens at a high speed, and easily generates an array antenna radiation beam of a desired pattern.
フーリエ変換レンズの前側焦点面上に任意の形状の光強度分布を容易にかつ高速に生成し所望のパターンのアレーアンテナ放射ビームを容易に生成する光制御型フェーズドアレーアンテナを提供する。 - 特許庁 - Auxiliary ceramic sheets 112 and 112' are laminated on the ceramic substrate, to cover the respective heat radiation holes and an upper ceramic sheet 117 is laminated so that the part of the pattern electrode and the whole or part of the auxiliary ceramic sheet are exposed.
セラミック基板上に補助セラミックシート１１２、１１２'を積層して各々の放熱穴を覆い、パターン電極の一部と補助セラミックシートの全部または一部とが露出されるよう上部セラミックシート１１７を積層する。 - 特許庁 - A feed phase is made different by 90° between the pair of dipole antennas connected by conductors 31 and 32 and the pair of dipole antennas connected by conductors 33 and 34, whereby the horizontal radiation pattern can be made omnidirectional.
導体３１，３２により接続された１組のダイポールアンテナと導体３３，３４により接続された１組のダイポールアンテナとで給電位相を９０度異ならせることにより水平面指向性を無指向性とすることができる。 - 特許庁 - The modular bus array comprises first and second speaker modules 22-1 and 22-2 arranged to radiate a sound wave in response to an audio signal and forms a radiation pattern by combining the sound waves radiated from the first and second modules.
オーディオ信号に応答して音波を放射するように配置された第１及び第２のスピーカ・モジュール２２−１，２２−２を備え、第１及び第２のモジュールから放射される音波を合成して放射パターンを形成する。 - 特許庁 - This is a resist pattern surface modifying method to radiate either an ionizing radiation ray or a far-ultraviolet ray to the resist layer after forming asperities to increase the carbon-carbon bonding density at least on the outermost surface of the resist layer.
凹凸パターン形成後のレジスト層に電離性放射線及び遠紫外光のいずれかを照射し、該レジスト層の少なくとも最表面部分の炭素−炭素結合密度を増加させるレジストパターンの表面改質方法である。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or a radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, excellent roughness characteristics and the reduction of development defects, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.
高感度、高解像度、良好なラフネス特性、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is superior in various properties, including film thickness, resolution, pattern shape, transparency, heat resistance and solvent resistance, in particular, in the heat resistance, and which is able to form a microlens that is superior in balance of the various properties.
膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等の諸性能、特に耐熱性に優れ、且つ諸性能のバランスに優れたマイクロレンズを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - AEC detectors 65-67 are arranged in a stripe pattern in a space between pixels converting incident radiation into an electric signal, and the stripes of the AEC (automatic exposure control) detectors are arranged so as not to be parallel to those stripes of a grid 64.
入射した放射線を電気信号に変換する画素の間隙にＡＥＣ用検出器６５〜６７をストライプ状に形成するとともに、当該ストライプの方向とグリッド６４のストライプの方向とが非平行となるようにする。 - 特許庁 - To provide an electronic controller that prevents a current path from having a defect in continuity due to cracking even if a multilayer substrate formed by stacking a substrate having a pattern wired includes metal for heat radiation and an electronic element generating heat.
パターンが配線された基板を積層した多層基板において、放熱用金属と発熱する電子素子を備えても、クラックの発生による電流経路の導通不良の発生を防ぐ電子制御装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a transmitter/receiver antenna for a built-in type radar having a space factor improved by achieving a wide coverage of the radiation pattern in the horizontal direction and integrating high-frequency circuit components onto an antenna substrate while suppressing unwanted waves.
水平方向における放射パターンの広覆域化を実現し、かつ不要波を抑制しながら高周波回路部品をアンテナ基板に集積させることでスペースファクタを改善した内蔵型レーダ用送受一体アンテナを提供する。 - 特許庁 - A PDP driver 1 includes a flexible substrate 2 having a wiring pattern 23 formed thereon, a semiconductor device 3 mounted on the flexible substrate 2, and a heat radiation body 4 having a recess 41 for storing the semiconductor device 3 formed therein.
ＰＤＰドライバ１は、配線パターン２３が形成されたフレキシブル基板２と、フレキシブル基板２に実装された半導体装置３と、半導体装置３を収納する凹部４１が形成された放熱体４とを備えている。 - 特許庁 - The manufacturing method forms the coated resin layer being the ink flow passage wall thereon and dissolves and removes the photosensitive resin composition layer forming the ink flow passage pattern by irradiating the ionizing radiation of the second wavelength region after forming an ink discharge opening.
そして、その上にインク流路壁となる被覆樹脂層を形成し、インク吐出口を形成後、第二の波長域の電離放射線を照射してインク流路パターンを形成している感光性樹脂組成物層を溶解除去する。 - 特許庁 - To provide a printed wiring board and an electronic apparatus by which a mounting area on which a circuit element is to be mounted can be sufficiently secured while maintaining the radiation characteristic of the circuit element, and whose degree of freedom in the design of a wiring pattern can be improved.
回路素子の放熱特性を維持しつつ、回路素子が装着される装着領域を十分に確保できかつ、配線パターンの設計の自由度を向上できるプリント配線基板、および電子機器を提供する。 - 特許庁 - This decorative sheet has a constitution wherein a pattern print layer 2 and a hiding resin layer 3 constituted of the mixture of an ionizing radiation crosslinking resin and a non-crosslinking resin are laminated sequentially on a surface to be made the rear side of a transparent thermoplastic resin sheet 1.
透明熱可塑性樹脂シート１の裏側とする面に、絵柄印刷層２、と、電離放射線架橋性樹脂と非架橋性樹脂との混合物からなる隠蔽樹脂層３が順次積層された構成とする。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, focus latitude, bridge defect preventing performance and dependency of sensitivity on post exposure baking (PEB) temperature, and a pattern forming method using the composition.
ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To achieve a high-precision double-stage pattern matching (double-stage collation) even if the tomographic images of a present three-dimensional image are less in number than the three-dimensional reference image when positioning a patient under radiation therapy.
放射線治療の患者位置決めの際に、３次元現在画像の断層画像数が３次元基準画像よりも少ない場合であっても、精度の高い２段階パターンマッチング（２段階照合）を実現することを目的にする。 - 特許庁 - The pattern forming method in which the positive resist composition is used contains two kinds of resins containing specific repetitive units with alicylic groups, and (B) compound generating an acid upon being irradiated with active rays or radiation rays.
脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a calixarene-based compound useful as a raw material of a substrate component contained in a radiation-sensitive composition which can form a chemistry amplification type positive resist film which can form a stabilized and highly precise fine pattern.
高精度な微細パターンを安定して形成することができる化学増幅型のポジ型レジスト膜を形成可能な感放射線性組成物に含有される基材成分の原料として有用なカリックスアレーン系化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution, developability, heat resistance, pattern shape, margin for exposure and focus latitude, having good balance of these characteristics and suitable for use as a positive type resist.
本発明は、解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージン及びフォーカス許容性の各特性に優れるとともに、これらの特性のバランスが良く、ポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The imprinting stamper has a support substrate 10; a separation film 20 exhibiting release property by radiation energy onto the support substrate 10; and transfer section 30 on the separation film 20, which has a scale of Rockwell hardness of M80 or higher and a surface having an irregular pattern.
保持基板１０と、保持基板１０上の輻射エネルギーにより剥離性を示す剥離膜２０と、剥離膜２０上にロックウェル硬度のスケールがＭ８０以上であり、表面に凹凸パターンを有する転写部３０とを備える。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation sensitive resin composition solution having ≤1×10-3 milliequivalent/g acid component content and suitable for use as a minute pattern forming resist.
本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物溶液は、組成物溶液中の酸成分の含有量が１×１０^-3ミリ当量／ｇ以下の範囲に調整されており、微細パターン形成用のレジストとして好適に使用される。 - 特許庁 - The printing member 300 is selectively exposed to the laser radiation in a pattern conforming to an image, and the laser energy passes, substantially unabsorbed, through the first layer 306 and is absorbed by the second layer 304.
印刷部材３００はイメージに従うパターンに於てレーザ放射線に対し選択的に露光され、そしてレーザエネルギーは第１層３０６を通して実質上吸収されずに通過し、そして第２層３０４により吸収される。 - 特許庁 - Thus, even when the antenna element 10 and the insert metal fixture 12 being metal conductors are closely located to the patch antenna 13, the effect on the radiation pattern and the electric characteristic of the patch antenna 13 can be prevented.
これにより、パッチアンテナ１３に金属導体物であるアンテナエレメント１０およびインサート金具１２を近接設置させてもパッチアンテナ１３の放射パターンや電気的特性に影響を及ぼすことを防止することができるようになる。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation sensitive composition used as a positive type chemical amplification resist and having such high process admissibility as to ensure excellent resolving power and pattern profile even if considerable time elapses from the end of exposure to post-heating.
ポジ型化学増幅レジストにあって、露光した後、後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるプロセス許容性が大きいポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.
高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁 - The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.
基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁 - To provide a new radiation sensitive resin composition that has a sufficient pattern form even on a substrate having a step even when an antireflective film is not formed on the substrate using a thin film, forms a resist film with a small pattern variation width, has sufficient sensitivity, and has high focal latitude and exposure latitude.
薄膜で基板上に反射防止膜を形成していない場合であっても、段差のある基板上であっても、良好なパターン形状を有し、パターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能であり、かつ、良好な感度を有し、焦点余裕度及び露光余裕度にも優れた新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.
特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.
発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A lithographic method includes: a step of calculating laser metric based on a spectrum of a laser radiation emitted to the lithographic apparatus from a laser and representation of an aerial image of the pattern projected on the substrate by the lithographic apparatus; a step of either changing operation of the laser or adjusting the lithographic apparatus by using the laser metric; and a step of projecting the pattern on the substrate.
レーザからリソグラフィ装置へ放出されたレーザ放射のスペクトルとリソグラフィ装置によって基板上に投影されるパターンの空間像の表現とに基づいてレーザメトリックを計算するステップと、レーザメトリックを用いてレーザの動作を変更するか又はリソグラフィ装置を調整するステップと、基板上にパターンを投影するステップとを含むリソグラフィ方法。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.
本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁 - A waterproof barrier layer 13, comprising a polyolefin resin with a thermoplastic elastomer composition, is set between a pattern layer and a hard coat of the decorative sheet; which has a pattern layer 12 and an ionizing radiation curable resin hard coat layer 14 laid in this order on one surface of a polyolefin resin base sheet 11.
ポリオレフィン系樹脂シートからなる基材シート１１の一方の面に絵柄層１２、及び電離放射線硬化性樹脂からなるハードコート層１４を順に設けた化粧シートにおいて、前記絵柄層と前記ハードコート層との間に、熱可塑性エラストマー成分を含有してなるポリオレフィン系樹脂からなる防水性バリヤー層１３を設けた化粧シート。 - 特許庁 - The resist pattern forming method exposes a photoresist film to form a resist pattern by irradiating the photoresist film with radiation, while a liquid (immersion liquid) is interposed that has higher index of refraction than air.
空気より屈折率の高い液体（液浸液）を介在させた状態でフォトレジスト膜に対して放射線を照射することにより、そのフォトレジスト膜を露光させてレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、保護膜を、下記条件（１）を満たす保護膜剥離液を用いて、前記フォトレジスト膜の表面から剥離させる工程（ｄ）を備えたレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure.
１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。 - 特許庁 - To provide an OVD (optically variable device) medium due to diffraction grating pattern, which has high antifalsifying effects or in which an image due to a concave-convex pattern is not recognized in ordinary illuminating conditions and can be displayed by incident radiation from a predetermined direction and, at the same time, which has high attractive effects, and a card-like information medium equipped with the OVD medium.
通常の照明条件においては凹凸パターンによる画像が認識されず、所定の方向から光を入射することにより画像を表示することができる、偽造防止効果が高く、且つ、人目をひく効果の高い回折格子パターンによるＯＶＤ媒体、およびかかるＯＶＤ媒体を備えるカード状情報媒体を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.
超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which has high transparency for radiations, has excellent resist fundamental physical properties such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern formation, and has high resolution performance and small pattern line edge roughness, to provide a polymer capable of being used for the composition, and to provide a new compound used for synthesizing the polymer.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative type resist composition which satisfies such characteristics as sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness all at once in microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly an electron beam or X-ray.
活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工において、感度と解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which suppresses the changes in sensitivity with time during storage and which can form a resist pattern having a preferable cross-sectional profile, excellent adhesion property with a substrate and being easily dissolved and stripped with a stripping liquid.
保存中の経時による感度変化が抑制され、断面形状が良好である上、基板との密着性に優れ、かつ剥離液で容易に溶解除去し得るレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
