「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 26 27 次へ＞- As a result, the amount of deflection on the charged particle beam 9 changes so that radiation can take place on a position shifted by an offset of the wafer stage 2 and a reticle pattern image is transcribed onto a target position of wafer 1 by exposure.
それにより、荷電粒子線９の偏向量が変化し、ウエハステージ２の位置ずれ分だけずれた位置に入射し、ウエハ１の目標とする位置に、レチクルのパターン像が露光転写される。 - 特許庁 - To attempt to make thinner a printed-wiring board as well as simplifying its manufacturing method, the printed-wiring board that has electronic elements built in and has a shield structure for shielding radiation noises arising from the electronic elements and the board's wiring pattern.
電子部品や基板の配線パターンから発生する放射ノイズを遮断するためのシールド構造を設けた電子部品内蔵のプリント配線板において、薄型化と製造工程の簡素化を図る。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method capable of forming a dense pattern independently of standing waves and capable of further forming a resist pattern having a high aspect ratio by using an underlayer film excellent in dry etching resistance and usable as a thin film in combination with a specified polysiloxane-base radiation-sensitive resin composition having high transparency at ≤193 nm wavelength, and to provide a bilayer film for pattern formation.
ドライエッチング耐性に優れ薄膜として使用可能な下層膜と、１９３ｎｍ以下の波長において透明性の高い特定のポリシロキサン系感放射線性樹脂組成物とを組み合わせて用いることにより、定在波による影響を受けることがなく、緻密なパターンを形成することができ、さらに高いアスペクト比を有するレジストパターンを形成することができるパターン形成方法およびパターン形成用多層膜を提供する。 - 特許庁 - A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁 - In the case of fixing the dielectric feeder 5 to the waveguide 1, the projection 7 is inserted to one of the slits 6 and butted to the end of the slit to decide a projection amount of a radiation section 5b projected from the opening of the waveguide 1 and an optional radiation pattern is selected depending on the projection amount.
そして、誘電体フィーダ５を導波管１に固定する際、凸部７を各スリット６の１つに挿入して端部に突き当てることにより、導波管１の開口端から突出する放射部５ｂの突出量を決定し、その突出量に応じて放射パターンを最適なものに合わせる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition as a chemically amplifying resist which is sensitive to active radiation, for example, far UV rays represented by KrF excimer laser or ArF excimer laser and which can form a resist pattern with excellent uniformity in film thickness, excellent adhesion property with a substrate, accuracy, sensitivity, resolution and so on.
活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、膜厚均一性が優れ、しかも基板接着性、精度、感度、解像度等にも優れたレジストパターンを与える感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The antenna comprises: a printed circuit board formed inside of the radome for protecting the antenna; at least one radiation part which is formed so as to be optimized as a Hilbert-type meander line of a single pattern on the printed circuit board, and generates multiple band resonance frequencies; and a power supply for applying signals to the radiation part.
アンテナを保護するレードームの内部に形成されるプリント基板と、該プリント基板に単一パターンのヒルベルト型のメアンダーラインとして最適化するように形成されて多重帯域の共振周波数を発生する少なくとも一つの輻射部と、前記輻射部に信号を印加する給電部とが設けられる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for forming a color layer, having little residue even when a pigment concentration is high and giving a good pattern feature, to provide a color filter formed of the radiation-sensitive composition for forming a color filter, and to provide a solid-state imaging device having the color filter.
本発明は、顔料濃度が高くても残渣が少なく、且つ良好なパターン形状を得ることができる着色層形成用感放射線性組成物、該着色層形成用感放射線性組成物により形成するカラーフィルタおよび該カラーフィルタを具備する固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for forming spacers which is of high resolution and of high sensitivity even when radiation for exposure practically contains no beam with wavelength <350 nm, and which easily forms the spacers excellent in various performances such as a pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to a transparent substrate.
３５０ｎｍ未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the color filter has the color filter formed by using a transfer sheet 2A, transferring a transfer layer 22A on a sheet-like base material 1, having an ionizing radiation 6 irradiated in the form of a pattern, thereafter, repeatedly forming a color filter layer 7A by a developing ionizing radiation process, and forming a black matrix, as needed.
転写シート２Ａを用い、シート状基材１上に転写層２２Ａを転写しておき、電離放射線６をパターン状に照射し、その後、現像する電離放射線プロセスにより、カラーフィルター層７Ａを形成することを繰り返し行ない、必要に応じブラックマトリックスを形成してカラーフィルターを得る。 - 特許庁 - Radio waves can be radiated to the cell set onto the road merely, by tilting the base station antenna downward and installing a direction of its front surface parallel to downward radiation, by rotating the antenna base 14 at the prescribed angle and tilting the radiation characteristics of the pattern 17 at the prescribed angle to the road side as described above.
上記のようにアンテナ基板１４を所定角度回転させ、また、アンテナパターン１７の放射特性を道路側にチルトさせることにより、基地局アンテナを下方向に所定角度傾けると共に、正面の方向を道路と平行させて設置するだけで、道路上に設定されたセルに電波を放射することができる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having superior dry etching resistance and high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.
優れたドライエッチング耐性を有し、しかも放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対する十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which may suppress the elution of a photoacid generator to an immersion liquid and have an excellent immersion liquid follow-up property and further is excellent in roughness characteristics, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.
光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type positive type resist, excellent in basic solid state properties as the resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.
化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - This lithography device comprises a patterning device MA for giving a pattern onto the section of a beam of radiation to form a patterned beam of radiation, a washing unit CU positioned to wash the patterning device MA on that place, and/or a detection unit positioned to detect patterning device contamination on the moment.
リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化された放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを含み、パターニングデバイスをその場で洗浄するように配置構成された洗浄ユニットおよび／またはパターニングデバイスの汚染物をその場で検出するように配置構成された検出ユニットも含む。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type resist, excellent in basic physical properties as a resist such as dry etching resistance, sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.
化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In the patch antenna provided with a radiation electrode 12 on the surface of a dielectric substrate 11 and with a grounding electrode 13 on approximately the whole of the rear surface, a conductor pattern 14 to be an input/output port surrounded by grounding electrodes, insulated from the grounding electrodes and opposed to the radiation electrode is formed on the rear surface of the dielectric substrate.
誘電体基板１１の表面に放射電極１２を、裏面のほぼ全面に接地電極１３を具えたパッチアンテナにおいて、誘電体基板の裏面に、接地電極に囲まれるとともに接地電極とは絶縁されて放射電極と対向する、入出力ポートとなる導体パターン１４を形成する。 - 特許庁 - A marker 1A for measurement includes a base material 11, a retroreflective material 10 that is pasted on the base material 11 and retroreflects radiation light l_e, and a transparent base material 12 on which a pattern having a plurality of openings 14 transmitting the radiation light l_e is printed, and which is pasted on the retroreflective material 10.
計測用マーカ１Ａは、基材１１と、基材１１上に貼り合わされて照射光ｌ_ｅを再帰反射する再帰反射材１０と、照射光ｌ_ｅを透過する複数の開口部１４を有するパターンが印刷され、再帰反射材１０上に貼り合わされる透明基材１２とを有する。 - 特許庁 - The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and the erosion rate of the section shape of a pattern formed from the radiation sensitive composition is ≤ 30% or the radiation sensitive composition contains the components (A)-(D) and (E) a chain transfer agent.
カラー液晶表示装置用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、該感放射線性組成物から形成されたパターンの断面形状の浸食率が３０％以下であることを特徴とするか、または前記（Ａ）〜（Ｄ）および（Ｅ）連鎖移動剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive resin composition which contains a compound good also in compatibility with other components, can optimally control radiation transmittance particularly as a chemically amplified positive resist effectively sensitive to far-ultraviolet radiation, in particular, can effectively suppress a linewidth change of a resist pattern due to a thickness variation of a resist film on a highly reflecting substrate, and excels also in depth of focus latitude.
他の成分との相溶性も良好な化合物を含有し、特に遠紫外線に有効に感応する化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線透過率を最適にコントロールすることができると共に、特に、高反射基板上でのレジスト被膜の膜厚変動によるレジストパターンの線幅変化を有効に抑えることが可能で、かつ焦点深度余裕にも優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A first radiation conductor 3 resonating in a first frequency band, a circular conductor 4 circularly surrounding the first radiation conductor 3 with a gap, and a second radiation conductor 5 surrounding the circular conductor 4 with a gap and resonating in a second frequency band lower than the first frequency band, are concentrically formed into a pattern on one surface of a dielectric substrate 2 of the composite antenna 1.
複合アンテナ１の誘電体基板２の片面には、第１の周波数帯で共振する第１の放射導体３と、第１の放射導体３を間隙を存して環状に包囲する環状導体４と、環状導体４を間隙を存して包囲し第１の周波数帯よりも低周波な第２の周波数帯で共振する第２の放射導体５とが、同心状にパターン形成されている。 - 特許庁 - A pattern measurement computer 50 receives a reference radio signal transmitted from the directions of a plurality of azimuth angles of an electronic control director array antenna apparatus 100 by each radiation pattern, where a plurality of sets of different reactance values of each variable reactance element are set, measures the power of each received reference radio signal, and obtains a power pattern for each azimuth angle for each set.
パターン測定コンピュータ５０は、電子制御導波器アレーアンテナ装置１００の複数の方位角の方向から送信される基準無線信号を各可変リアクタンス素子のリアクタンス値の互いに異なる複数のセットが設定された各放射パターンで受信し、受信された各基準無線信号の電力を測定し、各セット毎の各方位角に対する電力パターンを得る。 - 特許庁 - The mask blank is patternwise irradiated with the radiation 4, the protective film 5 is dissolved and removed with a solvent which does not substantially dissolve the resist film 3, and the resist film 3 is developed to form a pattern.
次に、マスクブランクに放射線をパターン照射し、保護膜５を、化学増幅レジスト膜３を実質的に溶解しない溶媒で溶解除去し、化学増幅レジスト膜３を現像処理してパターンを形成する。 - 特許庁 - To realize a resist composition having high transparency with respect to far-ultraviolet rays and radiation and moreover, superior in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape and line edge roughness.
遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁 - To provide a radiographic device capable of acquiring a subtraction image excellent in visual recognizability by not photographing a striped pattern originating in a radiation grid and overlapping fluoroscopic images of a subject without shifting.
放射線グリッドに由来する縞模様が写り込むことがなく、かつ、被検体の透視像がズレずに重ねられることにより視認性に優れたサブトラクション画像を取得できる放射線撮影装置を提供する。 - 特許庁 - Besides, by controlling the power distribution ratio of the power distributor/synthesizer 22 and the phase of the phasers 34 and 35, a radiation pattern and the SAR are optimized so that communication performance can become satisfactory.
また、電力分配／合成器３３による電力分配比と位相器３４、３５の位相を調整することにより、輻射パターン及びＳＡＲを最適化して通信性能を良好なものとすることができる。 - 特許庁 - To obtain a portable radio terminal which be made small in size, low in cost and simple in slide opening/closing mechanisms of upper and lower housings, also can make antenna characteristics into wide band, and can obtain a desired radiation pattern shape.
小形化や、コストの低減や、上下筐体のスライド開閉機構の簡略化が可能でありながら、アンテナ特性の広帯域化や、所望の放射パターン形状を得ることができる携帯無線端末を得る。 - 特許庁 - To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.
ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - The resin composition is applied to a carrier, dried, irradiated with a radiation in a certain pattern, heated, developed to be formed, and baked to give the objective inorganic molded item.
無機造形物は、前記無機造形物製造用感放射線性樹脂組成物を支持体に塗工し、乾燥して、所定の形状に放射線を照射し、その後加熱し、現像して造形したものを焼成してなる。 - 特許庁 - To provide a method for producing a radiation sensitive material resin which has an excellent transparency and high sensitivity to far ultraviolet rays, good adhesion with a board, and is excellent in an etching resistance and the processability to a fine pattern.
遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a part with an irregular surface by which bubbles are not entrained when an ionizing radiation-curd resin is applied to a mold having an irregular pattern and the deterioration of production efficiency is hardly expected.
凹凸パターンを有する成形型に電離放射線硬化樹脂を塗布したときに気泡を巻き込ませず、生産効率を低下させることの少ない表面凹凸部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A plurality of portions 551-555 of the resistance pattern 550 are connected to conductive patterns 641-645 of the fourth conductive layer 64, which is the lowest conductive layer of the lower layers 57, by the intermediary of heat radiation via holes 81-85.
抵抗パターン５５０の複数の部分５５１〜５５５が、放熱用のビアホール８１〜８５を介して、下部層４７の最下層の導体層である第４の導体層６４の導電パターン６４１〜６４５に接続されている。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer, which prevents pattern edge chipping or undercut even under low exposure and severe developing conditions, as well as undissolved materials remaining in development.
低露光量および過酷な現像条件下でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、現像時に未溶解物が残存しない着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To realize an antenna having characteristics matching needs on the market by providing a new adjusting method for a resonance frequency and adjusting method for a radiation pattern characteristic for a conventional slot loop antenna having only a single characteristic.
単一的な特性しか示さない従来のスロットループアンテナに、新しい共振周波数の調整方法と、放射パターン特性の調整法を与え、市場のニーズにマッチした特性をもつアンテナを実現する。 - 特許庁 - The photosensitive composition contains a specific sulfonium compound as a compound which decomposes upon irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid, and the pattern-forming method that uses the photosensitive composition is also provided.
活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - An electrically conductive coating 6 is applied on an outer surface of a dielectric pipe 1 that is a pipe shaped dielectric body via a masking pipe 4 with slits having a prescribed pitch to form a helical radiation element pattern.
パイプ状の誘電体である誘電体パイプ１の外表面に、予め所定のピッチを持つスリットを有するマスキング型パイプ４を介して、導電性塗料６を塗布し、ヘリカル放射素子パターンを形成する。 - 特許庁 - The body 111 has a slot plate 113, and a main beam 115 of a directional radiation pattern is set tilted at a tilt angle of θ from the vertical direction 114 with respect to a plane P1 of the plate 113.
スロットアレーアンテナ本体１１１は、スロット板１１３を有し、このスロット板１１３の面Ｐ１に対して垂直方向１１４からチルト角θだけ傾いた方向の放射指向性の主ビーム１１５が設定される。 - 特許庁 - To reduce an influence caused by human hands by suppressing the leak current from an antenna and to improve the average gain of the antenna by reducing drop in a radiation pattern within the horizontal plane of the antenna.
アンテナからの漏洩電流の発生を抑制することにより、人間の手の影響を減らすと共に、アンテナの水平面内における放射パターンの落ち込みを少なくして、アンテナの平均利得を向上させたこと。 - 特許庁 - The resist composition contains a compound which generates a specific alkane sulfonic acid by irradiation with active rays or radiation and a specified basic compound, and the method for forming a pattern is carried out, using the resist composition.
活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び特定の塩基性化合物を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - The planar antenna array 10 for a linearly polarized wave compensates unbalanced amplitudes and phases caused by coupling between adjacent lines in the supply circuit network 18 to improve the radiation pattern from the antenna.
直線状に偏波した波用の平面状アンテナ列１０は、供給回路網１８内の隣接する線の間の結合に起因する振幅及び位相の不均衡を補償して、アンテナの放射パターンを改良する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure having a large receding contact angle to a liquid for immersion exposure and giving a photoresist film less liable to cause development defects, and a pattern forming method using the same.
液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.
遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative type resist composition excellent in transparency particularly to radiation and dry etching resistance as a chemical amplification type resist and giving a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.
化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁 - Therefore, according to the antenna radiation pattern of the radio IC card fitted into the IC card slot 5, the angle of the radio IC card can be adjusted independently of the display part, and the optimum sensitivity of an antenna can be provided.
このため、ＩＣカードスロット５に装着する無線ＩＣカードのアンテナ放射パタンに応じて、表示部とは独立して、無線ＩＣカードの角度を調節可能であり、最適なアンテナ感度を得ることが可能である。 - 特許庁 - The operation system 4 positions the substrate 1 relatively to the projection system 3, projects the patterning radiation beam on a target portion of the substrate 1, and adjusts pattern data based upon the detection result to perform temperature compensation.
作動システム４により基板１を投影システム３に対して位置決めし、パターン化放射線ビームを基板１の目標部分上に投影し、検出結果に基づいてパターンデータを調整して温度補償する。 - 特許庁 - A photopolymerizable colored composition layer formed of the pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition is selectively irradiated with light having a predetermined wavelength and is developed, whereby a colored pattern excellent in durability is formed.
この顔料分散型感放射線樹脂組成物からなる光重合性着色組成物層に所定波長の光を選択的に照射し、現像することにより、耐久性に優れた着色パターンを作成する。 - 特許庁 - The apparatus is also provided with a beam combiner 115 adapted to direct and combine at least a portion of the second plurality of spatially coherent radiation beams onto a surface of a substrate to form an interference pattern.
さらに、干渉パターンを形成するために、第２の複数の空間コヒーレント放射ビームの少なくとも一部を基板の表面の方向に向け、かつ、結合するように適合されたビームコンバイナ１１５を備えている。 - 特許庁 - The coil pattern 25 functions as a radiation element radiating a magnetic field, and functions as a feeder circuit and/or a matching circuit for the wireless IC chip 10 when a metal material approaches the terminal electrodes 31, 32.
コイルパターン２５は、磁界を放射する放射素子として機能するとともに、端子電極３１，３２に金属材が近接した場合には無線ＩＣチップ１０に対する給電回路及び／又は整合回路として機能する。 - 特許庁 - To provide a photoresist pattern forming method using a radiation-sensitive resin composition and an upper layer film forming composition each having sufficient transmittance at an exposure wavelength, particularly at 248 nm (KrF) and 193 nm (ArF).
露光波長、特に２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）で十分な透過性を持つ、感放射線性樹脂組成物と上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
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