「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 52 53 次へ＞- Ba-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR BONDING THE SAME
Ｂａ系合金スパッタリングターゲットおよびその接合方法 - 特許庁 - Ni-P SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
Ｎｉ−Ｐ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR FILM TYPE ANTENNA USING SPUTTERING PROCESS
スパッタリング工程を利用するフィルム型アンテナの製造方法 - 特許庁 - ASSEMBLY OF TITANIUM TARGET FOR SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリング用チタンターゲット組立て体及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING NOBLE METAL TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND NOBLE METAL TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING PRODUCED BY THE METHOD
貴金属スパッタリング用ターゲット材の製造方法及びその方法により製造される貴金属スパッタリング用ターゲット材 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING TO DEPOSIT CHALCOGEN COMPOUND, AND METHOD FOR FABRICATING PHASE-CHANGEABLE MEMORY DEVICE EMPLOYING THE SAME
スパッタリング装置とカルコゲン化合物スパッタリング蒸着方法、およびこれを利用した相変化記憶素子形成方法 - 特許庁 - BARIUM TANTALATE BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
タンタル酸バリウム系スパッタリングターゲット材とその製造方法。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SPUTTERING DEVICE AND COLLIMATING PLATE
半導体装置の製造方法、スパッタ装置及びコリメート板 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL OF STRONTIUM RUTHENATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
ルテニウム酸ストロンチウムスパッタリングターゲット材とその製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
マグネトロンスパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - Ru-Pd-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
Ｒｕ−Ｐｄ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR REFINING STRUCTURE OF Al SERIES TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING
Ａｌ系スパッタリング用タ−ゲット材の組織微細化方法 - 特許庁 - Al-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Ａｌ基合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND MASK BLANK MANUFACTURING METHOD USING THE SAME
スパッタリングターゲット及びこれを用いたマスクブランクの製造方法 - 特許庁 - Pd-W BASED SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Ｐｄ−Ｗ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a sputtering target which enables the satisfactory production of a Na-supplemented Cu-Ga film by means of a sputtering method, and a process for producing the sputtering target.
スパッタ法により良好にＮａ添加されたＣｕ−Ｇａ膜を成膜可能なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR REFLECTING FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM, AND REFLECTING FILM MADE BY SPUTTERING METHOD USING IT
光学記録媒体の反射膜用スパッタリングターゲット材及びそれを用いたスパッタ法による反射膜 - 特許庁 - To provide a sputtering device and a sputtering method, which can improve utilization efficiency of a target.
ターゲットの利用効率を向上させることができるスパッタ装置およびスパッタ方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a sputtering apparatus and a method of manufacturing a flat display device using the sputtering apparatus.
スパッタリング装置及びスパッタリング装置を使用した平板表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, BACKING PLATE OR INSTRUMENT IN SPUTTERING DEVICE WITH LESS PARTICLE GENERATION, AND ROUGHENING METHOD
パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット、バッキングプレート又はスパッタリング装置内の機器及び粗化方法 - 特許庁 - Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING Fe-Co ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - To provide a sputtering apparatus and a sputtering method which can efficiently cool a workpiece with a simple constitution.
簡易な構成で、被処理物を効率良く冷却できるスパッタリング装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - By the use of the sputtering target 14, the amorphous transparent conductive film is formed by a sputtering method.
このスパッタリングターゲット１４を用いて、スパッタリング法によって非晶質透明導電膜を成膜する。 - 特許庁 - To provide a method for reducing the permeability of a target material by the magnetron sputtering method.
マグネトロンスパッタリング法のターゲット材の透磁率の低減方法の提供。 - 特許庁 - The diamond-like carbon layer 38 is formed by the CVD method or sputtering method.
ダイアモンドライクカーボン層３８はＣＶＤ法やスパッタ法により形成される。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF COPPER OR COPPER ALLOY AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
銅または銅合金の加工方法およびスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - PULSED DIRECT-CURRENT SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS FOR THE METHOD
パルス状直流スパッタ成膜方法及び該方法のための成膜装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLDED PRODUCT
スパッタリング用ターゲットの製造方法、スタンパの製造方法、成形品の製造方法 - 特許庁 - To provide an organic light emitting display and a deposition method for depositing an electrode or a passivation layer by means of a box cathode sputtering method or a facing target sputtering method by mixing Ar with an inert gas heavier than Ar.
Ａｒよりさらに重い非活性ガスをＡｒと混合してボックスカソードスパッタリング(Box Cathode Sputtering)あるいは対向ターゲットスパッタリング（Facing Target Sputtering法で電極またはペッシベーション層を蒸着させた有機発光表示装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND SPUTTERING DEPOSITION EQUIPMENT
半導体発光素子の製造方法およびスパッタ成膜装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET OF HIGH MELTING POINT METAL, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
高融点金属スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - METAL MOLD RELEASING TREATMENT METHOD BY RF BIAS ECR SPUTTERING
ＲＦバイアス式ＥＣＲスパッタリング金型離型処理方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR JOINING SPUTTERING TARGET AND SUPPORTING BOARD THEREFOR
スパッタリング用ターゲットとその支持板との接合方法及び装置 - 特許庁 - OPTICAL RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
光記録媒体およびその製造方法ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁 - DIFFUSION-JOINED SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND ITS PRODUCING METHOD
拡散接合スパッタリングターゲット組立て体及びその製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SOURCE, SPUTTER-COATING SYSTEM AND METHOD FOR COATING SUBSTRATE
マグネトロンスパッタリング源、スパッタコーティング装置、及び基板コーティング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF FORMING THIN FILM USING THE TARGET
スパッタリングターゲットおよび該ターゲットを用いた薄膜の形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING FILM, AND ITS PRODUCTION METHOD
磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND MAGNET ATTACHING/DETACHING METHOD
マグネトロンスパッタ装置用磁石ユニット及び磁石着脱方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
マグネトロンスパッタリング装置および透明導電膜の製造方法 - 特許庁 - BACKING PLATE, SPUTTERING TARGET-BACKING PLATE ASSEMBLY, METHOD FOR JOINING SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE, AND METHOD OF SPUTTER FILM DEPOSITION
バッキングプレート、スパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体、スパッタリングターゲットとバッキングプレートの接合方法及びスパッタリング成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
透明導電膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR FORMING SPUTTERING THIN FILM
スパッタリング薄膜成膜方法及びスパッタリング薄膜成膜装置。 - 特許庁 - TRANSPARENT INSULATION FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND SPUTTERING TARGET
透明絶縁膜及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, SILVER ALLOY FILM, AND METHOD FOR PRODUCING THE FILM
スパッタリングターゲット並びにＡｇ合金膜及びその製造方法 - 特許庁 - ECR SPUTTERING APPARATUS, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM MANUFACTURING METHOD
ＥＣＲスパッタリング装置及び透明導電膜の製造方法 - 特許庁 - FIELD EFFECT TRANSISTOR, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND SPUTTERING TARGET
電界効果型トランジスタ、その製造方法及びスパッタリングターゲット - 特許庁 - INFORMATION RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
情報記録媒体とその製造方法、およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING LITHIUM PHOSPHATE SINTERED COMPACT, AND SPUTTERING TARGET
リン酸リチウム焼結体の製造方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - Ag-Bi-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Ａｇ−Ｂｉ系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
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