「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 52 53 次へ＞- CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
円筒形スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
スパッタリングターゲットおよび半導体装置の作製方法 - 特許庁 - POWER SOURCE ADAPTER FOR SPUTTERING SYSTEM, AND CONTROL METHOD THEREFOR
スパッタ装置用電源アダプタ及びその制御方法 - 特許庁 - MASK FOR USE IN FORMING FILM BY SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリング成膜用マスク及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR PHASE CHANGE MEMORY
相変化型メモリー用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR PHASE-CHANGE MEMORY
相変化型メモリー用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - ELECTRONIC DEVICE, PRODUCTION METHOD THEREOF, AND SPUTTERING TARGET
電子装置とその作製方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
スパッタリング装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
スパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS
半導体装置の製造方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
高純度ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING Ge-Cr ALLOY SPUTTERING TARGET
Ｇｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - FACING TARGET SPUTTERING DEVICE AND METHOD
対向ターゲットスパッタ装置及び対向ターゲットスパッタ方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, FILM-FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL COMPONENT
マグネトロンスパッタ装置、成膜方法、及び光学部品の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
スパッタ装置、成膜方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING COPPER WIRING FILM
スパッタリングターゲットの製造方法および銅配線膜の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
スパッタ方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DEPOSITING COPPER THIN FILM AND SPUTTERING SYSTEM USED FOR THE METHOD
銅薄膜製造方法、及びその方法に用いるスパッタ装置 - 特許庁 - The Cd_3TeO_6 thin film is preferably formed by an RF magnetron sputtering method or an analogous sputtering method.
この酸化物薄膜は、ＲＦマグネトロンスパッタリング法又は類似のスパッタリング法により形成することが好ましい。 - 特許庁 - METHOD FOR FABRICATING PRECIOUS METAL MAGNETIC SPUTTERING TARGET AND PRECIOUS METAL MAGNETIC SPUTTERING TARGET FABRICATED BY USING THE METHOD
貴金属磁気スパッタリングターゲットの製造方法及びこの方法で製造された貴金属磁気スパッタリングターゲット - 特許庁 - To densify a thin film formed by a sputtering method.
スパッタリング法で形成される薄膜を高密度化する。 - 特許庁 - METHOD OF CLEANING SURFACE OF CONTAMINATION PLATE OF SPUTTERING SYSTEM, AND CONTAMINATION PLATE
スパッタ装置の防着面清掃方法及び防着板 - 特許庁 - MULTI-SEGMENTAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM
多分割スパッタリングターゲットおよび薄膜の製造方法 - 特許庁 - DOUBLE SHUTTER CONTROL METHOD FOR MULTITARGET SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM
多元スパッタ成膜装置の二重シャッタ制御方法 - 特許庁 - RF-SPUTTERING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
ＲＦスパッタ装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM
スパッタリングターゲット、その製造方法及び透明導電膜 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HARDLY WORKABLE ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL
難加工性合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - ZnO film 105 is formed by ECR sputtering method.
ＺｎＯ膜１０５は、ＥＣＲスパッタ法で作製した。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL MEDIUM, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
光メディア用スパッタリングターゲット、および、その製造方法 - 特許庁 - COPPER MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
スパッタリングターゲット用銅材料及びその製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE, FILM DEPOSITION SYSTEM, AND FILM DEPOSITION METHOD
マグネトロンスパッタ電極、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁 - ALUMINUM SHEET FOR SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
スパッタリングターゲット用アルミニウム板、及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND COPPER WIRING FILM
スパッタリングターゲット、その製造方法および銅配線膜 - 特許庁 - Then, an amorphous silicon film is formed through a sputtering method.
つぎに、スパッタ法により、アモルファス・シリコン膜を形成する。 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND PRODUCTION OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM
マグネトロンスパッタ法および磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND APPARATUS THEREOF
反応性スパッタリング方法及び反応性スパッタリング装置 - 特許庁 - PALLADIUM ALLOY SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
Ｐｄ合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE SINTERED BODY
スパッタリングターゲット及び酸化物焼結体の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS
スパッタリングターゲットとその製造方法、および電子部品 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTION LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD
保護層形成用スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
スパッタ装置及びスパッタリング方法及び半導体装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME
マグネトロンスパッタリング装置及びそれを用いた成膜方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET CONTAINING INDIUM OXIDE
酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET OF Al-BASED ALLOY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
Ａｌ基合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - OPTICAL RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
光記録媒体、スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE, ITS OPERATION CONTROL METHOD, AND OPTICAL DISK
スパッタ装置、その運転制御方法および光ディスク - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND BARRIER FILM
スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法及びバリア膜 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING THIN-FILM BY PLASMA SPUTTERING AND FILM-FORMING APPARATUS
プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁 - METHOD FOR SUPPORTING DESIGN OF MAGNETRON SPUTTERING, DEVICE THEREFOR, AND PROGRAM
マグネトロンスパッタの設計支援方法、装置及びプログラム - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING MoNb BASED SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL
ＭｏＮｂ系焼結スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁
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