「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 .... 52 53 次へ＞- SPUTTERING TARGET FOR PERMANENT MAGNET THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
永久磁石薄膜用スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING Co-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL CONTAINING OXIDE
酸化物を含有したＣｏ基スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE
スパッタリングターゲット、半導体装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - INDIUM OXIDE POWDER AND METHOD FOR MANUFACTURING ITO SPUTTERING TARGET
酸化インジウム粉末およびＩＴＯスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
スパッタターゲット、磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING FILM HAVING HIGH REFRACTIVE INDEX, AND ITS PRODUCTION METHOD
高屈折率膜形成用のスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET
磁気記録媒体、磁気記録媒体製造方法及びスパッタターゲット - 特許庁 - PD-CR-W-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
Ｐｄ−Ｃｒ−Ｗ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM
光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR EL ELEMENT MANUFACTURE, SPUTTERING TARGET FOR EL ELEMENT MANUFACTURE, EL ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING EL ELEMENT
ＥＬ素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、ＥＬ素子製造用スパッタリングターゲット、ＥＬ素子及びＥＬ素子の製造方法 - 特許庁 - HIGH DENSITY ITO SINTERED SPUTTERING TARGET, AND ITS MANUFACTURING METHOD
高密度ＩＴＯ焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND TARGET OBTAINED THEREBY
ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及びそれにより得られたターゲット - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF IMAGING ELEMENT SUBSTRATE, IMAGING ELEMENT, AND SPUTTERING APPARATUS
撮像素子基板の製造方法、撮像素子、及びスパッタリング装置 - 特許庁 - TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING OR ION PLATING AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
スパッタリングまたはイオンプレーティング用ターゲット材及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, AND UPPER SHIELD POSITION ADJUSTING METHOD OF THE SAME
スパッタリング装置およびスパッタリング装置のアッパシールド位置調整方法 - 特許庁 - LAMINATED FILM DEPOSITION SYSTEM, SPUTTERING SYSTEM, AND LAMINATED FILM DEPOSITION METHOD
積層膜形成システム、スパッタ装置、および積層膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS FOR DEPOSITING MULTI-LAYERED FILM, AND METHOD OF CONTROLLING THE FILM THICKNESS
多層膜形成用スパッタリング装置及びその膜厚制御方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND THIN FILM PRODUCED WITH THE USE OF THE METHOD
スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにそれを用いて作製した薄膜 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING DISPLAY, AND SPUTTERING SYSTEM
透明導電膜の製造方法、表示装置の製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, FILM DEPOSITION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT
マグネトロンスパッタリング装置、成膜方法及び有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN FILM WITH METAL BASE LAYER AND SPUTTERING APPARATUS
成膜方法、金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - To provide a film-forming method by sputtering, which can efficiently form the thin film with the use of a facing-target type sputtering apparatus.
対向ターゲット式スパッタ装置を用いて能率良く薄膜を形成できるスパッタ成膜方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a sputtering device and a sputtering method capable of suppressing the generation of particles caused by a target.
ターゲットに起因するパーティクルの発生を抑制することができるスパッタリング装置およびスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a sputtering method capable of detecting abnormality when even a slight change occurs in the sputtering condition.
スパッタリング条件に僅かでも変化が生じた時、異常を検出することができるスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR RECOVERY OF HIGH-PURITY TANTALUM, HIGH-PURITY TANTALUM SPUTTERING TARGET, AND THIN FILM DEPOSITED BY USING THIS SPUTTERING TARGET
高純度タンタルの回収方法並びに高純度タンタルスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成された薄膜 - 特許庁 - To provide a magnetron sputtering method with the use of a rectangular target, which has enhanced sputtering treatment efficiency and production efficiency.
短冊形ターゲットを用いるマグネトロンスパッタ法においてスパッタ処理効率ないし生産効率の向上を実現する。 - 特許庁 - To provide a sputtering target which is useful for high output density sputtering and contains an oxide having a high refractive index, and to provide a method of manufacturing the sputtering target.
高出力密度スパッタリングのために有用な、高屈折率を有する酸化物を含有するスパッタリングターゲット及びこのスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁 - HIGH PURITY Co-Fe ALLOY SPUTTERING TARGET, MAGNETIC THIN FILM DEPOSITED BY USING SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME HIGH PURITY Co-Fe ALLOY SPUTTERING TARGET
高純度Ｃｏ−Ｆｅ合金スパッタリングターゲット及び同スパッタリングターゲットを用いて形成した磁性薄膜並びに高純度Ｃｏ−Ｆｅ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - The method uses a reactor 150 in which long throw sputtering, self-ionized plasma (SIP) sputtering, induction coupling plasma (ICP) resputtering and coil sputtering are combined in one chamber.
ロングスロースパッタリング、自己イオン化プラズマ（ＳＩＰ）スパッタリング、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）再スパッタリング及びコイルスパッタリングを１つのチャンバ内で組み合わせたリアクタ１５０を使う。 - 特許庁 - To provide a magnetron sputtering apparatus having a function of monitoring nodules formed during the sputtering, a magnetron sputtering apparatus having a nodule removing function, and a method thereof.
スパッタ中に形成されるノジュールをモニタする機能を具えたマグネトロンスパッタリング装置と、されに、ノジュール除去機能を具えたマグネトロンスパッタリング装置とその方法を提供すること。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SHAPE MEMORY ALLOY MICROACTUATOR, AND SPUTTERING SYSTEM USED FOR THE METHOD
形状記憶合金製マイクロアクチュエータの製造方法とそれに用いるスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND OPTICAL RECORDING MEDIUM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びに光記録媒体及びその製造方法 - 特許庁 - TARGET FOR SPUTTERING, ITS PRODUCTION METHOD AND METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM FOR OPTICAL WAVEGUIDE
スパッタリング用ターゲット、その製造方法及び光導波路用薄膜の形成方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETOOPTIC DISK BY INDUCTIVELY COUPLED RF PLASMA SUPPORTED MAGNETRON SPUTTERING METHOD
誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタ法における光磁気ディスクの製造方法 - 特許庁 - A piezoelectric body formed so as to have an orientation by a film forming method (sputtering method) is applied.
成膜法（スパッタ法）により配向を有するように形成された圧電体を適用する。 - 特許庁 - The ZnO thin film may be deposited by using a sputtering method, a CVD method, or the like.
ＺｎＯ薄膜の堆積には、スパッタ法やＣＶＤ法等を用いることができる。 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL, PLASMA DISPLAY DEVICE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
スパッタリング装置、プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR ESTIMATING EROSION SHAPE OR TARGET, SPUTTERING DEVICE, ELECTRODE FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT
ターゲット浸食形状予測方法、スパッタ装置、電極形成方法及び電子部品 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK USING IT
スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにそれを用いたフォトマスクブランクの製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF Ti MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ｔｉ材の製造方法 - 特許庁 - The carbon layers can be formed by a sputtering method or a plasma CVD method.
これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 - 特許庁 - ITO POWDER, ITS PRODUCTION METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ITO SPUTTERING TARGET
ＩＴＯ粉末及びその製造方法並びにＩＴＯスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - To provide a method for producing a sputtering target that suppresses occurrence of new defect modes (giant dust particles or large concavities) when the new sputtering methods such as long throw sputtering or reflow sputtering are employed.
ロングスロースパッタやリフロースパッタ等の新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モード（巨大ダストや大きな凹部）の発生を抑制することを可能にしたスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM WITH MULTIPLEX MAGNETIC POLES, AND FILM DEPOSITION METHOD THEREFOR
多重磁極マグネトロンスパッタリング成膜装置及びその成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 - 特許庁 - HIGH FREQUENCY SPUTTERING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD USING THE SAME
高周波スパッタリング装置及びそれを利用した薄膜形成方法 - 特許庁 - Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁 - CAROUSEL TYPE SPUTTERING APPARATUS, METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM AND REFLECTION MIRROR
カルーセル型スパッタリング装置及び薄膜の形成方法及び反射鏡 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HIGH-STRENGTH SPUTTERING TARGET FOR FORMING PHASE-CHANGE MEMORY FILM
相変化メモリ膜形成用高強度スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM FILM FORMATION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
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