「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
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マグネトロンスパッタ方法及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - COPPER SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING METHOD
銅スパッタリングターゲット材及びスパッタリング方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング方法と装置 - 特許庁 - METHOD AND EQUIPMENT FOR SPUTTERING
スパッタ方法及び装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタ装置及び方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING METHOD FOR CURVED SURFACE SUBSTRATE
曲面基板のスパッタ装置及びスパッタ法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタ装置およびマグネトロンスパッタ方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置およびスパッタによる成膜方法 - 特許庁 - REFLOW SPUTTERING METHOD AND REFLOW SPUTTERING SYSTEM
リフロースパッタリング方法及びリフロースパッタリング装置 - 特許庁 - CONTINUOUS SPUTTERING APPARATUS AND CONTINUOUS SPUTTERING METHOD
連続スパッタ装置および連続スパッタ方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND PRE-SPUTTERING METHOD
スパッタリング装置およびプリスパッタリング処理方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND DEVICE
スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND METHOD
スパッタリング装置及び方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SYSTEM
スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD, SPUTTERING TARGET CLEANING METHOD, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリングターゲットの製造方法、スパッタリングターゲットの洗浄方法、スパッタリングターゲット及びスパッタリング装置 - 特許庁 - COMPOSITE TARGET FOR SPUTTERING, SPUTTERING METHOD AND SPUTTERED FILM
スパッタ用コンポジットターゲット，スパッタ方法，スパッタ膜 - 特許庁 - INLINE TYPE SPUTTERING DEVICE AND SPUTTERING METHOD
インライン型スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION DEVICE AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁 - FILM-FORMING METHOD BY SPUTTERING AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
スパッタ成膜方法及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング方法、基板保持装置、スパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING METHOD, AND OPTICAL MULTILAYER FILM
スパッタ装置、スパッタ方法、及び光学多層膜 - 特許庁 - TRANSPORTATION TYPE SPUTTERING SYSTEM AND TRANSPORTATION TYPE SPUTTERING METHOD
輸送型スパッタ装置及び輸送型スパッタ法 - 特許庁 - SPUTTERING TREATMENT CONDITION CONTROL METHOD AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタ処理条件制御方法とスパッタ装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタリング装置及びそのスパッタリング方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
マグネトロンスパッタリング方法とマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING METHOD
スパッタリング法による成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, SPUTTERING CHAMBER INCLUDING THE SAME AND SPUTTERING METHOD
スパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD OF DESIGNING SPUTTERING SYSTEM
スパッタ装置の設計方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND METHOD
スパッタリング装置および方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND DEVICE
スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING
スパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法 - 特許庁 - METHOD FOR SPUTTERING GLASS SUBSTRATE AND SPUTTERING SYSTEM
ガラス基板のスパッタリング方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PREPARING METHOD THEREFOR AND SPUTTERING METHOD
スパッタリングターゲット及びその調製方法ならびにスパッタ方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタ方法と装置 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
スパッタ装置、スパッタ法及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD OF SPUTTERING
スパッタリング装置および方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREOF
スパッタリング装置とその方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR
スパッタ方法及びその装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING TARGET TO BE USED FOR THE METHOD
スパッタリング方法およびそれに用いられるスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, AND ITS DEVICE
スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND APPARATUS
スパッタ方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING FILM FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタ成膜方法、電子素子の製造方法、スパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
スパッタリングターゲット及びこれを用いたスパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法及びスパタリングターゲット - 特許庁
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