「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING AND APPARATUS THEREFOR
ガスフロースパッタリング成膜方法及び装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK, AND SPUTTERING SYSTEM
光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - TANTALUM SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL DISK AND SPUTTERING DEVICE
光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - TUNGSTEN SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD
タングステンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD
反応性スパッタリング蒸着装置及び方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM MANUFACTURING METHOD
マグネトロンスパッタ装置及び薄膜製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, AND DEPOSITED FILM FORMING METHOD
スパッタリング装置および堆積膜形成方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD
反応性スパッタリング装置及び成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING DEVICE AND LIQUID-SPOUTING HEAD
スパッタリングターゲットとその製造方法及びスパッタリング装置並びに液体噴射ヘッド - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタターゲット材料、磁気記録媒体及びスパッタターゲット材料の製造方法 - 特許庁 - SINTERED COMPACT FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING APPARATUS USING IT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
スパッタリングターゲット及びその製造方法これを用いたスパッタ装置、半導体装置 - 特許庁 - COPPER SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR TFT, COPPER FILM FOR TFT, AND SPUTTERING METHOD
ＴＦＴ用銅スパッタリングターゲット材、ＴＦＴ用銅膜、及びスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット材用アルミニウム材の製造方法及びスパッタリングターゲット材用アルミニウム材 - 特許庁 - More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method.
ＰＶＤ法が、蒸着法、スパッタリング法であるとさらに好ましい。 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, TRAP FOR SPUTTERING, FILM-FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS
スパッタリング装置、スパッタリング用トラップ、成膜方法および有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁 - TARGET MEMBER FOR SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリング用ターゲット部材およびその製造法 - 特許庁 - SPUTTER FILM DEPOSITION MACHINE, AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ成膜機及びスパッタリング成膜方法 - 特許庁 - IRON SILICATE SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
珪化鉄スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCTION METHOD
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR OPTICAL DISK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
光ディスク用スパッタリングターゲットとその製造法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING INDIUM OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET
酸化インジウム系スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK
スパッタリングターゲット、及びマスクブランクの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD CONTROLLED BY PLASMA EMMISION MONITOR
プラズマ発光モニターで制御されたスパッタ方法 - 特許庁 - REFURBISHED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MAKING THE SAME
再製スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - ERBIUM SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
エルビウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - TUNGSTEN SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
タングステンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING METAL BLANK FOR SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット用金属ブランクの形成方法 - 特許庁 - SILVER ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCING METHOD
銀合金スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR BONDING SPUTTERING TARGET TO RECEIVING BOARD
スパッタリングターゲットを受け板に接合する方法 - 特許庁 - ITO SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
ＩＴＯスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPLIT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
分割スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT
スパッタリング方法及び装置及び電子部品の製造方法 - 特許庁 - METHOD OF VAPOR DEPOSITION OF HEUSLER ALLOY BY CO- SPUTTERING METHOD
同時スパッタリング法によるホイスラー合金の蒸着方法 - 特許庁 - BIAS SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELASTIC WAVE APPARATUS
バイアススパッタリング方法及び弾性波装置の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT
スパッタリング方法及び装置及び電子部品の製造方法 - 特許庁 - ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
導電性フィルム、これを用いたスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - The chromium film 19B is formed by a sputtering method using a sputtering system 50.
クロム膜１９Ｂは、スパッタリング装置５０を用い、スパッタリング法によって形成する。 - 特許庁 - To provide a method for controlling ion density and sputtering rate in a sputtering system.
スパッタリングシステムにおいてイオン密度とスパッタ率を制御する方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING FOR COBALT SPUTTERING TARGET WITH LOW MAGNETIC PERMEABILITY
低透磁率コバルトスパッターターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF FORMING WIRING, AND PLASMA SPUTTERING REACTOR
配線を形成する方法及びプラズマスパッタリアクタ - 特許庁 - Ag BASED SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD
Ａｇ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING METAL SPUTTERING TARGET
金属スパッタリング・ターゲット材料を作成する方法 - 特許庁 - ITO SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - TITANIUM NITRIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
窒化チタンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET PROVIDED WITH BACKING PLATE
バッキングプレート付きスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE
スパッタリング装置、及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
マグネトロンスパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁
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