「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- CONTROL METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING
反応性スパッタリングの制御方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD
スパッタリング装置および製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING CATHODE AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリングカソード及び成膜方法 - 特許庁 - TESTING METHOD OF TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲットの検査方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD WITH MULTIPLEX MAGNETIC POLES
多重磁極マグネトロンスパッタ方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置及び成膜方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
スパッタリングのための方法及び装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING APPARATUS
成膜方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS
スパッタリング方法及び成膜装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING TANTALUM SPUTTERING TARGET
タンタルスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタリング方法および装置 - 特許庁 - TARGET PROTECTING METHOD AND SPUTTERING DEVICE
ターゲット保護方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND METHOD
スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR THE SPUTTERING TARGET, AND ALUMINUM WIRING FILM AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットとその製造方法、およびそれを用いたＡｌ配線膜と電子部品 - 特許庁 - FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS, AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD
対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁 - PHOTORECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF PHOTORECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET
光記録媒体、スパッタリングターゲット、及びそれらの製造方法 - 特許庁 - BACKING PLATE USED IN SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING METHOD
スパッタリング装置に用いられるバッキングプレートおよびスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE TARGET
スパッタリング用のターゲット及びこのターゲットを用いたスパッタリング方法 - 特許庁 - PLANER MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PLANER MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
プレーナマグネトロンスパッタ装置およびプレーナマグネトロンスパッタ成膜方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING, OPTICAL MEMBER AND SPUTTERING DEVICE
スパッタによる膜の形成方法、光学部材、およびスパッタ装置 - 特許庁 - FACING-TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS AND FACING-TARGET TYPE SPUTTERING METHOD
対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法 - 特許庁 - SPUTTERING EQUIPMENT FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING METHOD THEREFOR
半導体装置製造用スパッタリング設備及びスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置、および成膜方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING SPUTTERING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING SYSTEM
スパッタリング成膜方法、電子デバイスの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁 - OPPOSING TARGET SPUTTERING APPARATUS AND METHOD
対向ターゲットスパッタ装置及び方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM-FORMING METHOD
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING In SPUTTERING TARGET
Ｉｎスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR
スパッタリング方法、スパッタリング装置及び電子写真感光体の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND FILM-FORMING METHOD
スパッタリングターゲットおよび成膜方法 - 特許庁 - METHOD FOR PREVENTING DEVELOPMENT OF PARTICLES IN SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD, SPUTTERING APPARATUS AND MEMBER FOR COATING
スパッタリング装置におけるパーティクル発生防止方法、スパッタリング方法、スパッタリング装置及び被覆用部材 - 特許庁 - SPUTTERING CATHODE, SPUTTERING APPARATUS PROVIDED WITH SPUTTERING CATHODE, FILM-FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
スパッタリングカソード、スパッタリングカソードを備えたスパッタリング装置、成膜方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD
スパッタリングターゲット及びスパッタリング装置、スパッタリング方法及びその方法をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD
スパッタリング装置及び膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR THE PREPARATION THEREOF
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND ITS USE METHOD
スパッタリング装置及びその使用方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING TITANIUM MATERIAL FOR SPUTTERING
スパッタリング用チタン材の製造方法。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING DEPOSITED FILM BY SPUTTERING
スパッタによる堆積膜形成方法 - 特許庁 - ELECTRIC DISCHARGE RETAINING METHOD FOR SPUTTERING PROCESS
スパッタ法における放電維持方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD FOR THE TARGET
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ARRANGING METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲット及びその配置方法 - 特許庁
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