「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
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複合型スパッタ装置及び複合型スパッタ方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリングターゲットの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TREATING METHOD AND DEVICE
スパッタリング処理方法と装置 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTING SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの検査方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
スパッタ方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタ装置及びスパッタ方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND METHOD
スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁 - FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING
スパッタリングによる成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND APPARATUS
スパッタ方法およびスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS FOR USING THE SAME
スパッタリング方法及びそれを用いるスパッタリング装置 - 特許庁 - ION BEAM SPUTTERING APPARATUS, ION BEAM SPUTTERING METHOD, AND ION GUN
イオンビームスパッタ装置、イオンビームスパッタ方法及びイオンガン - 特許庁 - PRODUCTION METHOD FOR SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング装置の制御方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
スパッタ方法およびスパッタ装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND DEVICE
マグネトロンスパッタリング方法と装置 - 特許庁 - EQUIPMENT AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタ装置およびその方法 - 特許庁 - BIAS SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND BIAS SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM
バイアススパッタ成膜方法及びバイアススパッタ成膜装置 - 特許庁 - HOLDER FOR SPUTTERING OF OPTICAL DISK SUBSTRATE AND SPUTTERING METHOD
光ディスク基板のスパッタ用ホルダ及びスパッタリング方法 - 特許庁 - TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタリング用ターゲット及びマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング装置および反応性スパッタリング方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング装置及び反応性スパッタリング方法 - 特許庁 - FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING
ガスフロースパッタリング成膜方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD
マグネトロンスパッタ装置および方法 - 特許庁 - METHOD FOR SINTERING SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの焼結方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING MECHANISM AND METHOD THEREFOR
マグネトロンスパッタ装置及び方法 - 特許庁 - FILM FORMING METHOD AND SPUTTERING EQUIPMENT
成膜方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING SYSTEM
成膜方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及び成膜方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND ITS APPARATUS
マグネトロンスパッタ方法及び装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及び成膜方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタ方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND ITS DEVICE
スパッタリング方法およびその装置 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND FILM FORMING METHOD
スパッタ装置及び成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及び成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置および成膜方法 - 特許庁 - DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM
成膜方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND DEVICE
反応性スパッタリング方法と装置 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING APPARATUS, AND REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング装置および反応性スパッタリングの方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING METHOD, AND ORGANIC EL ELEMENT
スパッタリング装置及びスパッタリング方法並びに有機ＥＬ素子 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD, AND PROGRAM FOR CONTROLLING SPUTTERING
スパッタリング装置及び方法並びにスパッタリング制御用プログラム - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, DEVICE FOR TRANSFERRING MAGNET MEMBER, AND SPUTTERING METHOD
スパッタリング装置、磁石部材移送装置、及びスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING COATING FILM BY SPUTTERING
スパッタリング装置及びスパッタリングによる被膜の形成方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM
成膜方法及びスパッタリング装置 - 特許庁
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