「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- THIN FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM
薄膜形成方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置及び薄膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE, SPUTTERING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIN FILM WITH METAL BASE LAYER
スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCED BY THE METHOD
スパッタリング装置及びスパッタリング方法、ならびにその方法で作製された電子デバイス - 特許庁 - PRODUCTION METHOD FOR SPUTTERING TARGET, AND ITS USING METHOD
スパッタリングターゲットの製造方法及び使用方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF THIN FILM DEPOSITION BY MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法 - 特許庁 - RUTHENIUM TARGET FOR SPUTTERING, AND METHOD OF PRODUCING RUTHENIUM TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用ルテニウムターゲット及びスパッタリング用ルテニウムターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, JOINT TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
スパッタリングターゲット、並びに接合型スパッタリングターゲット及びその作製方法 - 特許庁 - SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
スパッタリング用分割ターゲット装置及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁 - SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
スパッタリング用分割ターゲット装置、及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁 - To provide a magnetron sputtering system, and to provide a magnetron sputtering method.
マグネトロンスパッタリング装置及びそのマグネトロンスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - ION-BEAM SPUTTERING APPARATUS AND ION-BEAM SPUTTERING METHOD USING THE SAME
イオンビームスパッタリング装置および該装置を用いたイオンビームスパッタリング方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING CATHODE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE
マグネトロンスパッタカソード、マグネトロンスパッタ装置及び磁性デバイスの製造方法 - 特許庁 - FLUORIDE THIN FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING METHOD
フッ化物薄膜形成方法及びスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOVOLTAIC ELEMENT
スパッタリング方法及び光発電素子の製造方法 - 特許庁 - ION IMPLANTATION METHOD USING SPUTTERING METHOD, AND APPARATUS THEREFOR
スパッタ法を用いたイオン注入法及びその装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR FORMING FILM BY SPUTTERING
スパッタリングによる成膜方法とその装置 - 特許庁 - RUTHENIUM SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - ECR SPUTTERING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
ＥＣＲスパッタ装置、および成膜方法 - 特許庁 - TITANIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
チタンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD, SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT APPARATUS
成膜方法、スパッタリング装置、スパッタリングターゲットおよび有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR SPUTTERING AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリング用基板およびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND ANTIREFLECTION FILM
スパッタ成膜方法及び反射防止膜 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD
スパッタリング装置、スパッタリング方法及びこの方法をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁 - TANTALUM SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD
タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS THEREFOR
反応性スパッタリング法とその成膜装置 - 特許庁 - The protective film is produced by a sputtering method.
該保護膜は、スパッタリング法で製造される。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD, AND DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL
スパッタリング装置及びスパッタリング方法、プラズマディスプレイパネルの製造装置及び製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用タングステンターゲットの製造方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND OPTICAL MEMBER
反応性スパッタリング方法及び光学部材 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM, METHOD FOR FORMING THIN FILM BY SPUTTERING, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISK-SHAPED RECORDING MEDIUM USING THE SPUTTERING SYSTEM
スパッタリング装置、スパッタリングによる薄膜形成方法および当該装置を用いたディスク状記録媒体の製造方法 - 特許庁 - To provide a self-sputtering method capable of stable shift to self- sputtering.
セルフスパッタリングへ安定して移行可能なセルフスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING REACTIVE SPUTTERING AND FILM DEPOSITION METHOD
反応性スパッタリングの制御方法及び成膜方法 - 特許庁 - Nb SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Ｎｂスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - Respective layers are formed by a sputtering method.
各めっき層ともスパッタリング法で形成する。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET OF ZnO AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
ＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
スパッタ成膜方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS
薄膜の製造方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD THEREFOR
真空スパッタリング装置とその蒸着方法 - 特許庁 - In the process of depositing the carbon film, the carbon film is deposited using one of an ECR (Electron Cyclotron Resonance) sputtering method, an RF sputtering method, a DC sputtering method, and an ion beam sputtering method.
カーボン膜を堆積する工程はＥＣＲスパッタ法、ＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、およびイオンビームスパッタ法のうちのいずれかの方法を用いてカーボン膜を堆積すること。 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR ION BEAM SPUTTERING
イオンビームスパッタ装置およびイオンビームスパッタ方法 - 特許庁 - GAS SUPPLY METHOD FOR THIN FILM SPUTTERING
薄膜スパッタリングのためのガス供給方法 - 特許庁 - Ta SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD
Ｔａスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - COATING APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
コーティング装置およびスパッタリング成膜方法 - 特許庁 - MAGNETRON TYPE SPUTTERING DEVICE, AND FILM DEPOSITION METHOD
マグネトロン型スパッタ装置および成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
スパッタリング成膜装置及び成膜方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF FORMED BODY FOR SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット用成型体の成型方法 - 特許庁 - SPUTTERING SOURCE, FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
スパッタ源、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁
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