「Sputtering Method」を含む例文一覧(2639)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD
モリブデン板材及びその製造方法 - 特許庁 - SPIRAL TUBE AND ITS SPUTTERING METHOD
スパイラルチューブ及びそのスパッタリング方法 - 特許庁 - FILM THICKNESS PREDICTING METHOD IN SPUTTERING
スパッタリングにおける膜厚予測方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD EMPLOYING THE SPUTTERING DEVICE
スパッタリング装置及びスパッタリング装置を用いた薄膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, DOUBLE ROTARY SHUTTER UNIT, AND SPUTTERING METHOD
スパッタリング装置及び二重回転シャッタユニット並びにスパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET AND IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET
珪化鉄スパッタリングターゲットの製造方法及び珪化鉄スパッタリングターゲット - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲット材の製造方法 - 特許庁 - JOINING METHOD OF TARGET PLATE FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲット板の接合方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD OF GRINDING
スパッタリングターゲット及びその研削方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND DEVICE THEREFOR
反応性スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREFOR
スパッタリング装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD
スパッタリング用ターゲットとその製造方法 - 特許庁 - METHOD AND EQUIPMENT FOR REACTIVE SPUTTERING
反応性スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM FORMATION METHOD
スパッタ装置及び薄膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及び薄膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR USING THE SAME
スパッタリング装置及びその使用方法 - 特許庁 - INLINE TYPE SPUTTERING METHOD AND DEVICE
インライン型スパッタリング方法および装置 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
スパッタリング用ターゲット材料の検査方法及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER, AND SPUTTERING APPARATUS
スタンパの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF IZO SPUTTERING TARGET
ＩＺＯスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF SPUTTERING CHROMIUM FOR BLACK MATRIX
ブラックマトリクス用クロムのスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, PIEZOELECTRIC ELEMENT MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID SPRAY HEAD
スパッタリング方法、スパッタリング装置、圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッド - 特許庁 - METHOD FOR SPUTTERING AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK
スパッタリング方法及び光ディスクの製造方法 - 特許庁 - ITO SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET MATERIAL, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL
ＩＴＯ焼結体、スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット、ならびにスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR SPUTTERING MATERIAL FROM TARGET ONTO SUBSTRATE VIA SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング装置、およびスパッタリング装置を介してターゲットから基板上へ材料をスパッタリングする方法 - 特許庁 - The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.
選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁 - To provide a sputtering target capable of improving the using efficiency of a conductive target at a sputtering process, a sputtering chamber including the sputtering target and a sputtering method.
スパッタ工程において導電性ターゲットの使用効率を向上できるスパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING Ru SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｒｕスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD
スパッタリング装置及び薄膜形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING, AND ITS DEVICE
スパッタによる成膜方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING INGOT FOR SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット用インゴットの製造方法 - 特許庁 - UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD
アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置及び方法 - 特許庁 - METHOD FOR PREPARING ALRu SPUTTERING TARGET
ＡｌＲｕスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - FILM DEPOSITION APPARATUS, AND REVERSE SPUTTERING METHOD
成膜装置および逆スパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME
スパッタリング装置およびその制御方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD
マグネトロンスパッタリング成膜装置及び方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置及び薄膜製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PRODUCING Co BASED SPUTTERING TARGET
Ｃｏ系スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
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