「The second」を含む例文一覧(50000)

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  • In the sidewall oxide film comprising the oxide films 40 and 50, the minimum value of the thickness of the first layer along the lateral side of the gate structure is smaller than the thickness of the second layer along the upper surface of the substrate 10.
    酸化膜４０，５０からなるサイドウォール酸化膜において、ゲート構造の側面に沿った第１の層の厚みの最小値は、基板１０の上面に沿った第２の層の厚みより小さい。 - 特許庁
  • Pseudo whiskers in the tin film are prevented and the appearance of the film can satisfactorily be held by the combination of the control of the film thickness in the plating stage using the first bath and the plating in the second bath different in the composition.
    第１浴を用いたメッキ工程での膜厚制御と、組成の異なる第２浴でのメッキの組み合わせにより、スズ皮膜の疑似ホイスカーを防止し、皮膜外観を良好に保持できる。 - 特許庁
  • (2) At the first process, the temperature of the first area of the inner surface of the mold distant from the injection gate 55 is made higher than the temperature of the second area of the inner surface of the mold near to the injection gate 55.
    （２）第１の工程で、金型内部表面の射出ゲート５５から遠い第１の領域の温度を前記金型内部表面の射出ゲート５５に近い第２の領域の温度より高くする。 - 特許庁
  • (5) The appointment of the commission members of the preceding paragraph shall be deliberated with the other Governor concerned in the case pursuant to the provision of paragraph (3) of the preceding Article or in the case pursuant to the provision of the second sentence of paragraph (5) of the same Article.
    ５　前項の委員の選任については、前条第三項に規定する場合及び同条第五項後段に規定する場合にあつては、当該都道府県知事と協議しなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • In a case where the sensor part detects the direction change or the rotation of the display while the display displays the first function, the control part switches the function of displaying on the display from the first function to the second function.
    表示部が第１機能を表示している際に、センサ部が表示部の向きの変化又は回転を検知した場合、制御部は、表示部に表示する機能を第１機能から第２機能に切り替える。 - 特許庁
  • The length L1 of the flat part of the first chip lip 5 in the slot die 1 in the traveling direction of the substrate is 1/2 to 1/4 of the length L2 of the flat part of the second chip lip 6 in the traveling direction of the substrate.
    スロットダイ１における第１の先端リップ５の平坦部の基材走行方向長さＬ１は、第２の先端リップ６の平坦部の基材走行方向長さＬ２の１／２〜１／４である。 - 特許庁
  • The height of the second comb-type electrode 8 and the height of at least one reinforcing rib 9 are made to be different from each other.
    第２櫛型電極８の高さと少なくとも１つの補強リブ９の高さとは互いに異なっている。 - 特許庁
  • The second communication device 14-2 accepts the communication start request from the first communication device 14-1.
    第２の通信装置１４−２は、第１の通信装置１４−１からの通信開始要求を受け付ける。 - 特許庁
  • The rigidity of the first elastic part is set relatively higher than that of the second elastic part.
    そして、第１弾性部の剛性が、第２弾性部の剛性よりも相対的に高くなるように設定されている。 - 特許庁
  • In the shifting process, the first coil wire bundle 50 is shifted to a position facing the second coil wire bundle 60.
    移動工程は、第１コイル線材束５０を第２コイル線材束６０と対面する位置へ移動させる。 - 特許庁
  • The first device part, the second device part and the data storage part are connected through a connection circuit part 90.
    第１の装置部と第２の装置部とデータ格納部とは、接続回路部９０を介して接続されている。 - 特許庁
  • The management system 1 transmits information associated with the second shop to the moving body 6 through a communication network 7.
    管理システム１は、通信ネットワーク７を介して第２の店舗に関する情報を移動体６に送信する。 - 特許庁
  • Besides, the management apparatus has a control part for managing the network topology based upon the second equipment identification information.
    また、管理装置は、第2の機器識別情報に基づいて、ネットワークトポロジを管理する制御部を有している。 - 特許庁
  • The heat receiving part is disposed in a place where both the first and second postures are located below the heat radiation part.
    受熱部が、第一の姿勢および第二の姿勢の双方で放熱部より下方となる位置に配置された。 - 特許庁
  • The first and second pre-pits are formed while being shifted in mutually opposite directions from the center of the track by a prescribed amount.
    第１、第２プリピットはトラック中心から互いに反対方向に所定量だけずれて形成される。 - 特許庁
  • It is recommendable that the second bimetal is thinner than the first, and that the thermostat bends in accordance with a temperature change.
    第１のバイメタルと第２のバイメタルの間に低熱伝導率の物質を挟持させたことを特徴とする。 - 特許庁
  • A first part of the detection area of the angle detector has higher angular resolution than the remaining second part does.
    そして、角度検出器の検出範囲の第１部分が残りの第２部分より高い角度分解能である。 - 特許庁
  • The wiring layers 31 and 32 are located on the first main surface 13 side and second main surface 14 side of the metal plate 12, respectively.
    配線層３１，３２は、金属板１２の第１主面１３及び第２主面１４の側に位置する。 - 特許庁
  • Further, the recessed part 20 is formed by press-forming in a direction same as the blanking direction for the second through-hole 12.
    また、第２貫通孔１２の打ち抜き方向と同一方向のプレス成形によって凹部２０を形成する。 - 特許庁
  • At a use state, the first and the second plane light emitting parts 4, 5 are raised to obtain a superior visibility from the surroundings.
    使用状態で第１および第２の面状発光部４，５が起き上がり、周囲からの視認性に優れる。 - 特許庁
  • The market simulation device 20 writes market information of some days ago including the same time as the simulation time to a second memory 23.
    市況模擬装置２０は、模擬時刻と同じ時刻を含む過日市況情報を第２メモリ２３に書込む。 - 特許庁
  • A second service water faucet 6 is mounted on the underside of the first service water faucet 4 of the same feedwater pipe 52.
    同一の給水管５２における第１の水道栓４の下側に第２の水道栓６を取り付ける。 - 特許庁
  • Indication is also made in the data structure of a time of the update group formed using the second copy technology.
    更に、第２コピー技術を用いて生成された更新グループの時間の表示がデータ構造内で作成される。 - 特許庁
  • The radiation sensor can be calibrated by combining measurements from the first and the second reference sensors.
    放射センサは、第１及び第２の基準センサからの測値を組み合わせることによって較正することができる。 - 特許庁
  • First holding parts 6 and second holding parts 7 are set erect, from the reference outer peripheral surface along the radial direction in the fitting holding part.
    嵌合保持部に、基準外周面から径方向に沿って第１保持部６と第２保持部７とを立設する。 - 特許庁
  • A second dummy pattern 19 is formed on a red resin layer 15 having the lowest hardness on the outer side of the first dummy pattern 18.
    第１ダミーパターン18の外側に最も硬度が低い赤色樹脂層15にて第２ダミーパターン19を形成する。 - 特許庁
  • The first and the second springs 3 and 4 are separated so as not to affect each other by the part 6.
    第１のスプリング３と第２のスプリング４は、スプリング分離部６にてお互い影響しないように分離する。 - 特許庁
  • An invasive probe is inserted into the organ, and a second 3D image containing the organ is captured using the invasive probe.
    侵襲プローブが臓器に挿入され、臓器を含む第二３Ｄ画像が侵襲プローブを使って取得される。 - 特許庁
  • A biological signal asynchronous reconstruction means reconstructs the image of the subject from the second transmission data.
    生体信号非同期再構成手段は、前記第２の透過データから前記被検体の画像を再構成する。 - 特許庁
  • The action member 5 comprises a pressing face 8 contacting with a pressed face 9 formed on the other side of the second member 4.
    動作部材５は、第二部材４の他面側に形成した被押圧面９に接触する押圧面８を有している。 - 特許庁
  • Meanwhile, any one of a p-type or an n-type is the first conductivity type and the other is the second conductivity type.
    ただし、ｐ型またはｎ型のいずれか一方が第１導電型で他方が第２導電型であるとする。 - 特許庁
  • An adder 103 corrects the second image data input to the exposure unit 19 by using the correction amount.
    加算器１０３は、この補正量を用いて、露光装置１９に入力される第２の画像データを補正する。 - 特許庁
  • The reproducing head 11 further has the first junction insulation film 16 in addition to the second junction insulation film 17.
    再生ヘッド１１は、第２ジャンクション絶縁膜１７の他に、第１ジャンクション絶縁膜１６をさらに有している。 - 特許庁
  • The substrate 3 has through-holes 3A opened therein and communicating with the second gas chambers 11 via the first gas chambers 10.
    基板３は、第１ガス室１０と第２ガス室１１とに連通する貫通孔３Ａを開口している。 - 特許庁
  • The second electrode has a nano-structure, and has a structure capable of exposing the surface of the sensing member.
    第２電極はナノ構造体であって、センシング部材の表面を露出させることができる構造である。 - 特許庁
  • A positional deviation between the second face printing section 34 and the web or a mark formed on the web is detected by a sensor.
    第２面印字部３４とウェブまたはウェブに形成されたマークとの位置ずれをセンサによって検出する。 - 特許庁
  • The second insulating film 32 on the reflection electrode 30 and the alignment layer 33 are composed of silicon oxide films.
    反射電極３０上の第２の絶縁膜３２と配向膜３３とは、シリコン酸化膜で構成される。 - 特許庁
  • The horizontal frame 21 is disposed between edges of the downward lateral frames 6 and 6 facing to each other to receive the second box 2.
    相対向する下部横枠６、６の端部間に水平枠２１を配設して第２の箱体２を受ける。 - 特許庁
  • The extruder (2) and the first gear pump (4) are continuously driven and the second gear pump (8) is intermittently driven.
    押出機と第一のギアポンプは連続的に駆動せしめられ、第二のギアポンプは間歇的に駆動せしめられる。 - 特許庁
  • An aperture 36 is provided between the encoder 27a and the second step surface 26 of the driving shaft member 11.
    又、このエンコーダ２７ａと上記駆動軸部材１１の第二の段差面２６との間に、隙間３６を設ける。 - 特許庁
  • An interpolation processing means conducts the interpolation computation, referring to the first factor group and the second factor group.
    補間処理手段は、第１の係数群、第２の係数群及びパターン一致率を参照して補間演算する。 - 特許庁
  • In this force detection system, the output accuracy is heightened by the first and second outputs from the force sensor.
    力検出システムは、斯かる力センサーの第１及び第２の出力により出力精度を高めている。 - 特許庁
  • In the first polishing step, a polishing brush having higher rigidity than in the second polishing step is used to polish the end face.
    第１研磨工程では、第２研磨工程よりも剛性が高い研磨ブラシを用いて端面を研磨する。 - 特許庁
  • The circuit board 87 and the second control circuit board 60 are electrically connected by a harness 96, or the like.
    また、回路基板８７と、第２制御回路基板６０とがハーネス９６等により電気的に接続される。 - 特許庁
  • The first door body 1a is provided with a cooperation member 4a which is connected with the wire 3b of the second door body 1b side.
    第１の扉体１ａに連動子４ａを設けて第２の扉体１ｂ側のワイヤ３ｂに連結する。 - 特許庁
  • The second straw part 12 is connected to the bottom end of an inside straw part 14 and extends toward the bottom of a container 2.
    第２ストロー部１２は、内方ストロー部１４の下端に連結され、容器２の下部に向かって延びている。 - 特許庁
  • An outlet slot part 121 having width W1 is provided in the second slot part 106c in the vicinity of the discharge port 105.
    吐出口１０５近傍の第２スロット部１０６ｃには、幅Ｗ１の出口スロット部１２１が設けられる。 - 特許庁
  • Protecting layers 18, 20 are stacked on the surfaces of the first recording layer 12 and the second recording layer 14, respectively.
    また、第１の記録層１２と第２の記録層１４の表面には、保護層１８，２０が積層されている。 - 特許庁
  • The collision surface 11 disperses the intake air flow to both sides (the first branch passage part 3 and second branch passage part 4).
    衝突面１１は、吸気流を両側（第１分岐通路部３、第２分岐通路部４）に分散する。 - 特許庁
  • The secondary area of the covering layer 3 is partially etched via the second etching mask to form a salient pattern.
    カバリング層３の副領域は、第２のエッチングマスクを介して部分的にエッチングされ、突出パターンが形成される。 - 特許庁
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