「The second」を含む例文一覧(50000)

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  • A first identification means 106 uses the clock signal from the inverting means 105 to latch the first data signal, and a second identification means 107 uses the recovered clock signal to latch the second data signal.
    第１の識別手段１０６は、反転手段１０５からのクロック信号を用いて第１のデータ信号をラッチし、第２の識別手段１０７は、再生クロック信号を用いて第２のデータ信号をラッチする。 - 特許庁
  • The rotor 17 has a first impeller 19 and a second impeller 20 for air cooling the motor 3, and the first impeller 19 and the second impeller 20 are fixed to the rotor 17 so as to be disabled to be relatively rotated.
    ロータ１７は、電動機３を空冷するために第１羽根車１９及び第２羽根車２０を有しており、第１羽根車１９及び第２羽根車２０はロータ１７に相対回転不能に固定されている。 - 特許庁
  • After the wafer strips 1 are obtained, laser beam is applied along the second dividing line 3, other than the intersection region 3a by using the dicing apparatus 10 so as to form a modified layer along the second dividing line 3.
    短冊状のウェーハ１を得たら、交差領域３ａ以外の第２分割予定ライン３に、ダイシング装置１０によってレーザ光線を照射し、第２分割予定ライン３に沿って改質層を形成する。 - 特許庁
  • The plurality of tooth grooves 47 include a first and second tooth grooves 48, 49 alternately arranged in the peripheral direction C, and width W1 of the first tooth groove 48 is larger than the width W2 of the second tooth groove 49 (W1>W2).
    複数の歯溝４７は、周方向Ｃに交互に配置される第１および第２の歯溝４８，４９を含み、第１の歯溝４８の幅Ｗ１は、第２の歯溝４９の幅Ｗ２よりも広い（Ｗ１＞Ｗ２）。 - 特許庁
  • The third well region is formed under the first and second well regions in the semiconductor substrate, except a part underneath the first well region, to which the second well region is electrically connected commonly.
    第３のウェル領域は、上記半導体基板中の第１，第２のウェル領域下に、上記第１のウェル領域下の一部を除いて形成され、上記第２のウェル領域を電気的に共通接続する。 - 特許庁
  • The decoder includes at least one control input for receiving at least a second signal and is operative, to generate the control signals for making the corresponding one of the tri-state drivers corresponding to the second signal activated.
    デコーダは、少なくとも第２の信号を受け取るための少なくとも１つの制御入力を含み、第２の信号に応じて、トライステート・ドライバのうちの対応する１つを動作させるための制御信号を生成する。 - 特許庁
  • The conversion processing speed of the second conversion unit 14 is higher than that of the first conversion unit 12, and the second conversion unit 14 performs cyclic processing twice during a period of time when the first conversion unit 12 performs conversion processing.
    第２変換ユニット１４の変換処理速度は、第１変換ユニット１２の変換処理速度より速めてあり、第１変換ユニット１２が変換処理する間に第２変換ユニット１４は２回循環処理する。 - 特許庁
  • Namely, the first gear member 8a of the second counter shaft is supported by the first counter shaft 7, and supporting position thereof is set to be overlapped with a second reduction gear 81 of the first gear member in the axial direction.
    すなわち、第二カウンター軸の第一ギア部材８ａが、第一カウンター軸７に支持され、その支持位置も第一ギア部材の第二減速ギア８１と軸方向に重畳（オーバーラップ）するように設定している。 - 特許庁
  • In a addition, even when the battery voltage VB is equal to or higher than the threshold TH1, when a user specifies the second mode through manual operation, only the normal handover control is executed by selecting the second mode.
    また、バッテリ電圧ＶB がしきい値ＴＨ１以上の場合でも、ユーザが第２のモードをマニュアル操作で指定していた場合には、第２のモードを選択して通常ハンドオーバ制御のみを実行するようにしたものである。 - 特許庁
  • The shape of the second reflector 112 is adjusted so that the light reflected at the second reflector 112 condenses at a condensing spot S, which is different from a centroid point 104 of luminance of light emitted from the light source 10.
    第２リフレクタ１１２で反射した光が、光源１０から発せられた光の輝度の重心点１０４と異なる集光スポットＳに集光するように、第２リフレクタ１１２の形状が調整されている。 - 特許庁
  • The diversity receiver is provided with a switch control means 30 that controls switching of the first and second sector antenna pairs 11, 12 and each process in the first and second branch systems 21, 22 and the diversity section 23 attended with the switching.
    第１および第２セクターアンテナ対１１，１２の切替えと、その切替えに伴う第１および第２ブランチ系２１，２２とダイバーシティ部２３とにおける各処理を制御する切替え制御手段３０を備える。 - 特許庁
  • A processing manager 151 designates the display positions of the first and second thumbnails so that the selected first thumbnail can be overlapped on the upside of one part of or all the second thumbnail on a virtual spiral.
    処理マネージャ１５１は、仮想の螺旋の上に、選択されている第１のサムネイルが、第２のサムネイルの一部または全部の上側に重なるように、第１のサムネイルおよび第２のサムネイルの表示位置を指定する。 - 特許庁
  • Even when the second clock CLK2 is a clock whose cycle is different from that of the first clock CLK1 so as not to be synchronized, it can be used even in the same clock as the first clock CLK1 as the second clock.
    前記第２クッロクCLK2は前記第１クロックCLK1と周期が異なって同期しない相異なるクロックであっても、必要に応じて前記第２クロックとして前記第１クロックと同一のクロックでも使用できる。 - 特許庁
  • The second transformer circuit TC2 includes inductors LS1 and LS2 as a phase shifter for making the phase of a signal propagated through the second transformer circuit TC2 different from the phase of a signal propagated through the first transformer circuit TC1.
    第２トランス回路ＴＣ２には、第２トランス回路ＴＣ２を伝搬する信号の位相を、第１トランス回路ＴＣ１を伝搬する信号の位相とは異ならせる移相器としてのインダクタＬＳ１，ＬＳ２を備えている。 - 特許庁
  • A first drawing wire and a second drawing wire 52 respectively pierce the first and second axially offset lumens and the distal and proximal ends of them are locked with the interior of the leading end of the catheter and an operation handle.
    第１の引きワイヤ及び第２の引きワイヤ５２がそれぞれ、第１及び第２の軸外れルーメンを貫通し、それぞれの遠位端部及び近位端部が先端部分内及び操作取っ手に繋留されている。 - 特許庁
  • Then the organic film 605 is patterned by etching the film 605 by using a second resist pattern 609 and the mask pattern 608 as a mask and, at the same time, the second resist pattern 609 is removed.
    有機絶縁膜６０５に対して第２のレジストパターン６０９及びマスクパターン６０８をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜６０５をパターン化すると共に第２のレジストパターン６０９を除去する。 - 特許庁
  • Thereafter, second through-holes 5 having a small diameter are mechanically formed in the resin material using a drill, and wiring that electrically connects the front face and the rear face of the silicon wafer is formed in the second through-holes.
    その後、ドリルによる機械加工によって樹脂材料に小径を有する第２の貫通孔５を形成し、この第２の貫通孔の内部にシリコンウェーハの表裏面を電気的に接続する配線を形成する。 - 特許庁
  • The output terminal 108' supplies from the power supply 102' to second parts of the systems and receives power from the second part of the systems.
    少なくとも１つの出力端子１０８’は、電源１０２’から複数のコンピュータ・システムの第２の部分に電力を供給すると共に、複数のコンピュータ・システムの第２の部分から電力を受け取るためのものである。 - 特許庁
  • Selection of the first filter processing means or the second filter processing means is received, and an image obtained by performing the processing by the selection-received first filter processing means or the second filter processing.
    第一のフィルタ処理手段と第二のフィルタ処理手段との選択を受け付け、選択を受け付けた第一のフィルタ処理手段又は第二のフィルタ処理手段による処理が実行された画像を表示する。 - 特許庁
  • On both sides of the second semiconductor layer 13, oxidized regions 13a which are oxidized portions of the second semiconductor layer 13 are formed with a spacing between them in the direction parallel to the plane of the light emitting layer 12.
    第２半導体層１３における両側部には、発光層１２が形成する面と平行な方向に互いに間隔をおいた酸化領域１３ａが、該第２半導体層１３自体が酸化されて形成されている。 - 特許庁
  • When bath reheating combustion is performed, exhaust gas of high temperature from the second burner 40 passes through the primary heat exchanger 50, then passes through the second exhaust passage 24 and is exhausted to the outside from the exhaust port 21a.
    風呂の追い焚き燃焼が行われると、第２のバーナ４０からの高温の排気ガスは、１次熱交換器５０を通過し、次に第２の排気流路２４を経由し排気口２１ａから外部へ排気される。 - 特許庁
  • In preferable embodiment, the first optical fiber terminal, the first rod lens, the second rod lens and the second optical film terminal are integrated to form a unit by three precise sleeves into which the outside diameter member is fixedly inserted.
    好ましい実施例では、前記外径の部材を挿入固定できる３個の精密スリーブにより、第１の光ファイバ端末、第１のロッドレンズ、第２のロッドレンズおよび第２の光ファイバ端末を一体化しユニットを形成する。 - 特許庁
  • The second image generating means generates perspectively projected image data by applying rendering, on the basis of a perspective projection method, to volume data in a second area away from the boundary on the basis of the observing point.
    第２の画像生成手段は、視点を基準にして境界より離れた第２の領域におけるボリュームデータに対して、透視投影法によるレンダリングを施すことにより透視投影画像データを生成する。 - 特許庁
  • The holding plate 26 is provided with a center body part 74 to be deflected laterally from the second plane of the fuel feeder flange 30 at the assemblage position to substantially cover the second plane.
    保持プレート２６は、組み付け位置において、燃料送出器フランジ３０の第２の平面から横方向にずらされて、その第２の平面を実質的に覆うように構成された中央ボデー部７４を備える。 - 特許庁
  • When the second level lasts longer than the second period, the control signal processing section 14 makes the drive signal generating section 16 generate a drive signal for generating a torque, in a direction which is reverse to that of the rotation of a rotor.
    制御信号処理部１４は、第２レベルが第２期間より長く持続する場合、駆動信号生成部１６にロータの回転の向きとは逆向きのトルクを発生するための駆動信号を生成せしめる。 - 特許庁
  • A low bending rigidity region 50 having bending rigidity lower than that of the catheter tube body part excepting the connection end of the second tube member 6b is formed to the connection end of the second tube member 6b.
    第２外チューブ部材６ｂの接続端部には、第２チューブ部材６ｂにおける接続端部以外の本体部分の曲げ剛性よりも低い曲げ剛性を持つ低曲げ剛性領域５０が形成してある。 - 特許庁
  • The first adaptively sampled distance field is sampled at the second positions so that distance values can be determined for the respective second positions, and that the graphic object can be modeled according to the topological hint.
    これらの第２の位置で、第１の適応的サンプリング距離フィールドをサンプリングすることで、これらの第２の位置のそれぞれに対して、距離値を決定し、上記の位相的ヒントにより、グラフィックス・オブジェクトをモデリングする。 - 特許庁
  • When using this device as a common lighting, the first visible lamp 32 and the second visible lamp 36 are lighted, on the other hand, when deriving a decorative effect, the ultraviolet lamp 34 and the second visible lamp 36 are lighted.
    一般の照明として利用する場合には、第１可視光ランプ３２と第２可視光ランプ３６とを点灯させ、一方、装飾効果を得るには、紫外光ランプ３４と第２可視光ランプ３６とを点灯させる。 - 特許庁
  • Then, the switching part 130 transmits the second notification to the emulation part 120, and transmits a key code generated in the emulation part 120, and based on the second output information, to a switched side server via an input port 111.
    次に、切替部１３０は、エミュレーション部１２０へ第２の通知を送出し、エミュレーション部１２０で生成された、第２の出力情報に基づくキーコードを、入力ポート１１１を経由して切替先のサーバへ送る。 - 特許庁
  • The protective film for the image display device includes the uppermost layer 3 including the first polymer film, and a second layer 5 including the second polymer film of ≥5.0x10^6 Pa in storage modulus at 70°C.
    第１の高分子フィルムを含む最上層３、及び、７０℃における貯蔵弾性率が５．０×１０^6Ｐａ以上である第２の高分子フィルムを含む第２の層５を含む、画像表示装置用保護フィルム。 - 特許庁
  • The third lens group G3 is constituted of a first positive lens, a second negative lens, a third positive lens and a fourth negative lens in order from the object side, and the second negative lens, the third positive lens and the fourth negative lens are cemented.
    第３レンズ群Ｇ３は物体側から順に正の第１レンズ，負の第２レンズ，正の第３レンズ，負の第４レンズにより構成され，負の第２レンズ，正の第３レンズ，負の第４レンズの３枚が接合されている。 - 特許庁
  • The seal device has a sleeve 11, a first lip seal member 21, a second lip seal member 31, and a backup ring 41 as components, or the sleeve 11, the first lip seal member, a fixing ring, the backup ring, and the second lip seal member.
    また部品としては、スリーブ１１、第一リップシール部材２１、第二リップシール部材３１およびバックアップリング４１を有し、あるいはスリーブ、第一リップシール部材、固定環、バックアップリングおよび第二リップシール部材を有している。 - 特許庁
  • The color filter layer 12 contains the first color layer having the plural first color filter parts and the second color layer having the second color filter parts.
    カラーフィルタ層は、複数の第１の色フィルタ部を有する第１の色層と、第２の色フィルタ部を有する第２の色層とを含んでおり、第１の色フィルタ部と第２の色フィルタ部とは互いに重なる積層色フィルタ部を形成する。 - 特許庁
  • A processing manager 151 designates the display positions of the first and second thumbnails so that the selected first thumbnail can be overlapped on the upside of one part of or all the second thumbnail on a virtually opened line.
    処理マネージャ１５１は、仮想の開いた線の上に、選択されている第１のサムネイルが、第２のサムネイルの一部または全部の上側に重なるように、第１のサムネイルおよび第２のサムネイルの表示位置を指定する。 - 特許庁
  • The polishing pad 40 has a first pad part 40a and a second pad part 40b arranged at the surrounding of the first pad part, and the first pad part 40a and the second pad part 40b can individually be exchanged with respect to each other.
    研磨パッド４０は、第１のパッド部４０ａと、その周囲に配置される第２のパッド部４０ｂとを有し、第１のパッド部４０ａ及び第２のパッド部４０ｂはそれぞれ個別に交換することができる。 - 特許庁
  • As a vertical dimension of an inner side of the second ring 708b is larger than a horizontal dimension, and the inner cover 572c is fitted to the vertical dimension, the inner cover 572c does not relatively rotate to the second ring 708b.
    第２リング７０８ｂの内側の鉛直寸法は水平寸法よりも大きく、インナーカバー５７２ｃはその鉛直寸法に嵌合するので、インナーカバー５７２ｃは第２リング７０８ｂとの間で相対回転しない。 - 特許庁
  • The gas containing the nitrogen desorbed from the absorbent substance is discharged from the first and second absorption cylinders 4A, 4B by gas discharging parts (3c, 3d) by reducing pressure inside the first and second absorption cylinders 4A, 4B.
    上記第１,第２吸着筒４Ａ,４Ｂ内を減圧することにより吸着剤から脱着された窒素を含むガスを上記第１,第２吸着筒４Ａ,４Ｂ内からガス排出部(３c,３d)により排出する。 - 特許庁
  • The panels 25A and 25B are placed apart on the upstream side and on the downstream side with a second film supporting means 16B corresponding to the second packaging part 12 in the middle and in a step form in a plane view.
    操作パネル２５Ａ,２５Ｂは、第２の包装部１２に対応する第２フィルム支持手段１６Ｂを挟む上流側と下流側に離間して配置されると共に、平面視において階段状に配置される。 - 特許庁
  • The component having the serial ATA connector is arranged on a second substrate separate from a substrate of a PCI card type device and the second substrate is fixed on the substrate of the PCI card type device leaving an appropriate distance.
    シリアルＡＴＡのコネクタを有する部品をＰＣＩカード型の装置の基板とは別の第二の基板上に配し、この第二の基板をＰＣＩカード型の装置の基板上に適切な距離を置いて固定する。 - 特許庁
  • The gas introduced in the second accumulator 22_2 is discharged between the piston 20 and the cylinder from first gas discharging holes 23_1 and second gas discharging holes 23_2 opened in a side periphery 24s of the skirt part 24.
    第２蓄圧室２２_2に導入された気体は、スカート部２４の側周面２４ｓに開口する第１の気体放出孔２３_1及び第２の気体放出孔２３_2からピストン２０とシリンダとの間に放出される。 - 特許庁
  • The silicon substrate 12 is provided with an electrode part 20, a first internal space S1 is formed between the electrode part 20 and the first glass substrate 13, and a second internal space S2 is formed between the electrode part 20 and the second glass substrate 14.
    シリコン基板は電極部２０を備え、電極部と第１ガラス基板の間には第１内部空間Ｓ１が形成され、電極部２０と第２ガラス基板１４の間には第２内部空間Ｓ２が形成される。 - 特許庁
  • The inner surface of the second cell wall may be provided with a similar second surface layer, preferably wherein the anchoring energy and/or order parameter of the liquid crystal adjacent to the two surface layers is different.
    第２のセル壁の内側表面にも、類似の第２の表面層を設けることができ、その場合に好ましくは、これら２つの表面層に隣接する液晶のアンカリングエネルギー及び／又は秩序パラメータは異なる。 - 特許庁
  • Also, the cursor is moved for selecting one item of the second menu, and the function of electronic equipment expressed by the item selected from the second menu is changed.
    また前記方法及び装置は第２メニューのうち一つのアイテムを選択するためにカーソルを移動し、第２メニューのうち選択されたアイテムによって表現される電子機器の機能を変更する動作をさらに備える。 - 特許庁
  • The thickness of the first tunnel insulating film is different from the thickness of the second tunnel insulating film, and the first ferromagnetic tunnel junction element and second ferromagnetic tunnel junction element are formed using a common mask material by etching.
    第１トンネル絶縁膜の厚さは、第２トンネル絶縁膜の厚さと異なり、第１強磁性トンネル接合素子および第２強磁性トンネル接合素子は、共通のマスク材料を用いてエッチングにより形成される。 - 特許庁
  • The second flange 3 is reinforced by the coil part 10, and the coil part is prevented from spreading outward, under which condition a secondary side coil winding is provided between the first and second flanges 2 and 3 of the coil bobbin 1.
    この一次側コイル部１０により第２の鍔部３が補強されてその外側への広がりが防止された状態で、コイルボビン１の第１の鍔部２と第２の鍔部３間に二次側コイル巻線２１が巻装される。 - 特許庁
  • The first lens 101 and the second lens 111 are mutually abutted by only the first slope 103 and the second slope 113 and are welded by laser beams applied from the outer slope 114.
    第１レンズ１０１および第２レンズ１１１は、第１斜面部１０３および第２斜面部１１３によってのみ当接されており、外斜面部１１４から照射されたレーザ光により溶着されている。 - 特許庁
  • User data are written into a data transfer FIFO buffer 55 by using the first received user clock CRU1 out of the first and second receiving user clocks and the user data are read from the FIFO buffer by using the second receiving user clock CRU2.
    これら第１、第２の受信ユーザクロックのうち、第１の受信ユーザクロックＣ_RU1を用いてユーザデータをデータ乗換用のFIFOバッファ５５に書き込むと共に、該FIFOバッファよりユーザデータを第２の受信ユーザクロックＣ_RU2を用いて読み出す。 - 特許庁
  • The beacon control unit 7 transmits the second down-link information 30 by including transmission progress information with first transmission of the second down-link information 30 after the reception of up-link information as a reference in each of the plurality of transmission frames.
    ビーコン制御機７は、前記複数の送信フレームそれぞれにアップリンク情報を受信した後の最初の第２ダウンリンク情報３０の送信を基準とした送信経過情報を含めて送信する。 - 特許庁
  • On the upper surface of the p-type second base region 2b, a trench for gate electrode and a short-circuit trench for short-circuiting the first base region 2a, the second base region 2b, and the n-type source region 4 are provided successively.
    該ｐ型第２ベース領域２ｂの上面にはゲート電極用トレンチと、該第１ベース領域２ａと第２ベース領域２ｂおよびｎ型ソース領域４を短絡する短絡用トレンチが並設されている。 - 特許庁
  • On the opening of the large-diameter part 28B, a second locking protrusion 28c is formed in a range starting from an outer peripheral face 28d of the second locking protrusion 28c to the other slope 28f of the mountain-shaped protruded part 28C.
    大径筒状部２８Ｂはその開口に第２係止突起２８ｃを備え、該第２係止突起２８ｃの外周面２８ｄから立上り山形突起部２８Ｃの他方の斜面２８ｆに一連に形成する。 - 特許庁
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