「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)

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  • The diffraction grating mask comprises a mask substrate made of an optically transparent material, a diffraction grating pattern formed on part of the mask substrate, and a light absorbing layer formed at at least part of the circumference of the diffraction grating pattern.
    本発明による回折格子マスクは、光学的に透明な材料より成るマスク基板と、前記マスク基板の一部に形成された回折格子パターンと、前記回折格子パターン周囲の少なくとも一部に形成された光吸収層より成る回折格子マスクである。 - 特許庁
  • In the diffraction optical device 10 having a diffraction surface 10c where the recessed and projecting pattern is formed with non-uniform density, the surface roughness of the smooth part of the recessed and projecting pattern is made smaller according as it is the recessed and projecting pattern 10c-1 having the lower formation density.
    凹凸パターンが非一様な密度で形成された回折面10cを有する回折光学素子10において、形成密度の低い凹凸パターン10c−1ほどその凹凸パターンの平滑部の表面粗さを小さくする。 - 特許庁
  • The interference fringe pattern is generated by the ± first order diffraction beam of an applied light beam.
    格子123に照射された光ビームの±1次回折光によって干渉縞パターンが作成される。 - 特許庁
  • The diffraction optical element has a fine pattern on the stepped part.
    そして、本発明の回折光学素子の段差部には微細パターンが形成されていることに特徴がある。 - 特許庁
  • At each observing point on a sample, an electronic diffraction pattern D_xy is imaged by a CCD camera.
    試料上の各観察点において、電子回折図形D_xyがCCDカメラで撮像される。 - 特許庁
  • An X-ray diffraction pattern of the composite metal cyanide complex catalyst involved in this invention is represented by the figure.
    本発明に係る複合金属シアン化物錯体触媒の例のX線回折パターンを図に示す。 - 特許庁
  • Next, a diffraction effect layer 4 of metal reflectivity is formed and a heat-resistant mask layer 5 is subjected to pattern printing.
    次に、金属反射性の回折効果層4を形成し、さらに、耐熱マスク層5をパターン印刷した。 - 特許庁
  • To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy.
    微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
  • The space dot pattern may include two beam dot arrangements using two one-dimensional diffraction optical elements.
    空間ビームドットパターンは二つの一次元回折光学素子を用いて、二つのビームドット配列をも含み得る。 - 特許庁
  • First, an image in a predetermined range on the electronic diffraction pattern is divided into a plurality of partial images S_1-S_32.
    まず、電子回折図形上の所定範囲の像が、複数の部分像S_1〜S_32に分割される。 - 特許庁
  • An off-grid irregular diffraction pattern can be formed although calculation quantity is increased.
    計算量が増えるのであるが格子から外れた不規則性ある回折パターンを生成することができる。 - 特許庁
  • The exposure mask including a test mark 7 composed of an asymmetric diffraction grating pattern 10 varying in diffraction efficiency with +1st order light and -1st order light and a reference pattern 20 for obtaining an image which is a reference when measuring the deviation of the image of the asymmetric diffraction grating pattern 10 is used as the exposure for focus measurement.
    フォーカス測定用の露光マスクとして、+1次光と−1次光とで回折効率の異なる非対称回折格子パターン10と、非対称回折格子パターン10の像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターン20とで構成されたテストマーク7を含むものを用いる。 - 特許庁
  • In a powder X-ray diffraction pattern of the lithium composite metal oxide by powder X-ray diffractometry in the diffraction angle 2θ of 10° to 90° using CuKα as the source, a diffraction peak (diffraction peak A) is present in the diffraction angle 2θ of 20° to 23°.
    CuKαを線源とし、かつ回折角2θの測定範囲を10°以上90°以下とする粉末X線回折測定により得られるリチウム複合金属酸化物の粉末X線回折図形において、2θが20°以上23°以下の範囲に回折ピーク(回折ピークA)を与えることを特徴とするリチウム複合金属酸化物。 - 特許庁
  • In (A), the fluctuation in the height of the diffraction grating h is formed by repeatedly arranging a diffraction grating pattern (P) with three kinds of the height of the diffraction grating and in (B) and (C), it is formed by randomly arranging two kinds or more of the heights of the diffraction grating.
    回折格子高さhの揺らぎは、(A)では3種類の回折格子高さを有する回折格子パターン(P)が繰り返し配置されることにより形成され、(B),(C)では2種類以上の回折格子高さがランダムに配置されることにより形成される。 - 特許庁
  • To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.
    細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁
  • The crystal of (2R,4R)-monatin potassium salt shows an X-ray powder diffraction pattern having characteristic peaks at diffraction angles 2θ of 5.5°, 7.2°, 8.1°, 8.9° and 16.3°, by powder X-ray diffraction (Cu-Kα ray).
    Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、5.5°、7.2°、8.1°、8.9°および16.3°に回折角2θの特徴的ピークを有する、(2R,4R)−モナティンのカリウム塩結晶。 - 特許庁
  • A diffraction grating encoder applies a light beam to the unequal-length pitch diffraction grating 123, and detects an interference fringe pattern created by ± primary diffraction light which is generated and the rotating position of the member.
    回折格子エンコーダは、この不等長ピッチ回折格子123に光ビームを照射し、そこで発生した±1次回折光から作成される干渉縞パターンを検出して、部材の回転位置を検出する。 - 特許庁
  • Thereby, the SOG solution layer 2 is changed into a diffraction pattern layer 12 having a rugged surface complementary to the rugged surface of the mother mold 1 and a composite material 10 made by adhering the diffraction pattern layer 12 onto the substrate 3 is provided.
    これにより該SOG溶液層2が該母型1の凹凸面と相補的な凹凸面を有する回折パターン層12へと変化するとともに、該回折パターン層12が該基板3に固着した複合体10を得る。 - 特許庁
  • To provide an optical element capable of taking out diffracted light beams in accordance with the pattern of a diffraction optical element outside a substrate even when the pattern pitch of the patter of the diffraction optical element is less than the wavelength of incident light.
    回折光学素子パタンのパタンピッチが入射光の波長以下であっても、当該回折光学素子パタンによる回折光を基板外部に取り出すことができる回折型光学素子を提供する。 - 特許庁
  • An emission surface 112b of the collimator lens 112 has an integrally formed optical diffraction section 112c converting the laser beam into the laser beam having a dot pattern by diffraction.
    コリメータレンズ112の出射面112bに、レーザ光を回折によりドットパターンを持つレーザ光に変換する光回折部112cが一体的に形成されている。 - 特許庁
  • To provide a reflection high-energy electron diffraction apparatus that can generate a reflection electron image diffraction pattern by using an electron beam having an extremely small current value at a nanoampere level.
    nAレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。 - 特許庁
  • In a diffraction experiment, conservation of energy implies that the total intensity in the diffraction pattern is equal to the total intensity at the exit surface of the object.
    回折実験においてエネルギーの保存は、回折図形の中の全強度が物体の出射面での全強度に等しいことを(論理的に当然のこととして)意味する。 - 科学技術論文動詞集
  • The phase pattern is constituted by superposing the blazed grating pattern for optical diffraction and the phase pattern having the predetermined phase modulation distribution, and its phase modulation range is equal to or more than 2π.
    この位相パターンは、光回折の為のブレーズドグレーティングパターンと、所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなり、位相変調範囲が2π以上である。 - 特許庁
  • The optical unit 34 has an 8-step form in the center region in the diffraction grating pattern 41a and has a 4-step form in the peripheral region in the diffraction grating pattern 42a by superimposing effect of the diffraction grating patterns 41a, 42a.
    この光学ユニット34は回折格子パターン41a、42aの両者の重畳作用により、回折格子パターン41aにおける中央領域では8段の階段形状、回折格子パターン42aにおける周辺領域では4段の階段形状から構成することができる。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the diffraction optical element comprises transferring a shape of a die 7 with a diffraction pattern to a resin material 8 and releasing the solidified resin material 8 without deformation of the fine shape of projecting and recessing parts constituting the diffraction pattern.
    回折パターンを有する型7の形状を樹脂8材料に転写することにより、回折光学素子を製造するための回折光学素子の製造方法であって、回折パターンを構成する凹凸の微細形状を変形させることなく、固化した樹脂材料8を離型させる。 - 特許庁
  • A diffraction pattern formed on a detector 5 (screen) is imaged by an imaging device 6, and pattern analysis for comparing it with a diffraction pattern obtained by calculation by means of a refractive index of the droplet 4 is performed, thereby obtaining a contact diameter and a contact angle of the droplet 4.
    検出器5(スクリーン)上に結像する回折パターンを撮像装置6によって撮像し、液滴4の屈折率を用いた演算によって得られた回折パターンと比較するパターン解析を行なうことで、液滴4の接触径および接触角を求める。 - 特許庁
  • In order to realize the information printed matter whose validity judgement is easily performed and which has a higher forgery preventive effect than the conventional information printed matter having a diffraction grating pattern, the forgery preventive effect is improved by selectively performing a displaying of a picture pattern, characters or the like by the diffraction grating pattern, and a displaying of the information printed below the diffraction grating pattern in accordance with the angle of observation.
    真偽の判定が容易で、従来の回折格子パターンを有する情報印刷物よりも偽造防止効果が高い情報印刷物を実現するために、回折格子パターンによる絵柄、文字等の表示と、回折格子パターンの下部に印刷されている情報の表示を観察角度に応じて選択的に行うことで、偽造防止効果の向上を図る。 - 特許庁
  • Distribution of wave front variation caused by the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face is measured based on the interference fringe between the reference light comprising the light reflected from a reference plane 5a and a measuring light comprising the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face and then the measurements of plane shape are corrected based on the measured distribution of wave front variation.
    参照面(5a)での反射光からなる参照光と回折パターン面での反射0次回折光からなる測定光との干渉縞に基づいて、回折パターン面での反射0次回折で生じる波面変化の分布を測定し、測定した波面変化の分布に基づいて被検面の面形状の測定結果を補正する。 - 特許庁
  • In the diffraction lens having a diffraction relief pattern on the lens surface, the diffraction relief pattern on at least one lens surface is expressed by formula (2) when the distance h in the perpendicular direction from the x-axis, which is the optical axis of the diffraction lens, is in the range of formula (1).
    レンズ面上に回折レリーフを有する回折レンズにおいて、前記回折レンズの光軸をx軸とし、前記光軸と垂直な方向の前記光軸よりの距離をhとして、hが下記の式(1)の範囲にあるとき、少なくとも1つのレンズ面上の回折レリーフの形状が下記の式(2)で表されることを特徴とする回折レンズ。 - 特許庁
  • With respect to the authentication code part 12, a bar code, a random pattern, or a pattern subjected to prescribed numerical conversion is formed in a minute size by the diffraction structure.
    この認証コード部12は、バーコード,ランダムパターン又は所定の数値変換したパターンの何れかを、回折構造により微小に形成するようにした。 - 特許庁
  • Information, indicating diffraction pattern intensity, may be used to determine one or more sample characteristics and/or one or more pattern characteristics.
    1若しくは複数のサンプル特性及び/または1若しくは複数のパターン特性を決定するために、回折パターン強度を示す情報が用いられることがある。 - 特許庁
  • This hologram element 10 has colored members 4 for element identification at the outside of a hologram pattern 3 which is a diffraction pattern disposed on one surface of a substrate 1.
    基板1の一方表面に設けられた回折パターンであるホログラムパタ−ン3よりも外周部に素子識別用の着色部材4が設けられている。 - 特許庁
  • An exposure mask provided with a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern comprising a translucent film with a light intensity reducing function is used as an exposure mask.
    露光マスクとして、回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置した露光マスクを用いる。 - 特許庁
  • It is possible to write a computer program which will determine the Bravais lattice type, unit-cell dimensions, and crystal system from a spot diffraction pattern rather than a CBED pattern.
    CBED図形よりもむしろ点状の回折図形からブラベー格子の型、単位胞の大きさおよび結晶系を決定するコンピュータプログラムを書くことが可能である。 - 科学技術論文動詞集
  • It is more preferable that a transparent reflective layer 9 is provided between the pattern layer 6 and the photo-diffraction structure forming layer 7.
    パターン層6と光回折構造形成層7との間に透明反射層9を介するとなおよい。 - 特許庁
  • To produce a diffraction type optical element having a grating pattern which is difficult to express by functions.
    関数による表現が困難な格子パターンを有する回折型光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A diffraction grating including a special grating groove pattern is disposed just before an optical detector or in a returning optical path.
    光検出器直前もしくは復路光路中に特殊な格子溝パターンを備えた回折格子を配置する。 - 特許庁
  • To provide an exposure apparatus in which influences of diffraction in an exposure pattern is easily reduced.
    露光パターンにおける回折の影響を、容易に少なくできる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The diffraction grating is provided with a similar lattice striped pattern so as to give interference fringes to a photodetector array (4).
    回折格子(2)は、同様の格子縞パターンを有しており、光検出器アレイ(4)に干渉縞を与える。 - 特許庁
  • To provide a pseudo-blazed diffraction element having a grating pattern with fine grating pitches with high accuracy.
    格子ピッチが高精度で微細化された格子パターンを有する擬似ブレーズ化回折素子を提供することである。 - 特許庁
  • The back focal plane of the final projector lens contains the diffraction pattern of the sample when the microscope is in image mode.
    顕微鏡が像モードのとき、最終投影レンズの後焦点面は試料の回折図形を収容する。 - 科学技術論文動詞集
  • This figure shows the diffraction pattern from a row of circular holes that are equally spaced in an opaque screen.
    この図は、光を通さないスクリーンの中に等間隔に配置された円形の穴の列からの回折図形を示す。 - 科学技術論文動詞集
  • To provide an optical diffraction IC tag display body in which an optical diffraction structure having a non-contact IC tag and a hidden pattern on a same base material and to provide a production information management system using the optical diffraction IC tag display body.
    非接触ICタグと隠しパターンを有する光回折構造体を同一基材に形成した光回折ICタグ表示体と、当該光回折ICタグ表示体を用いる製品情報管理システムを提供する。 - 特許庁
  • The diffraction optical element comprises: a first diffraction pattern 11 which diffracts incident light and generates illumination light of illuminating a first region A; and a second diffraction pattern 12 which is formed adjacently to the first diffraction pattern 11, diffracts incident light and uses at least a part of the diffracted light to generate illumination light for illuminating a second region B1(B) other than the first region A.
    入射した光を回折させ、第1領域Aを照明する照明光を生成する第1回折パターン11と、該第1回折パターン11に隣接して形成されるとともに、入射した光を回折させ少なくとも回折された光のうち一部が第1領域A以外の第2領域B1(B)を照明する照明光を生成する第2回折パターン12とを備えることを特徴とする。 - 特許庁
  • The thread can provide the magnetic anisotropy to the magnetic thin membrane layer by forming a ferromagnetic thin membrane layer following the fine ruggedness formed by the optical diffraction grating or the hologram pattern 13, and the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 can be the combination of different patterns so that the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 may provide the change of magnetic characteristics.
    スレッドは、光回折格子またはホログラムパターン13からなる微細凹凸に追従して強磁性材薄膜層を形成することにより、該磁性材薄膜層に磁気異方性を付与することができ、光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせであるものとすることもできる。 - 特許庁
  • That is, the crystal orientation property of the copper plated film 102 is controlled so that the rate of X-ray pattern diffraction strength I(111) of the (111) face of the copper plated film 102 to X-ray pattern diffraction strength I(220) of the (220) face of the copper plated film 102 can be set as I(220)/I(111)<0.2.
    詳しくは、銅めっき膜102の(111)および(220)面のそれぞれのX線パターン回折強度I(111),I(220)の比が、I(220)/I(111)<0.2となるように銅めっき膜102の結晶配向性を制御する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a diffraction grating and a method for manufacturing a semiconductor laser, which can suppress shift of a diffraction grating pattern from a design value even when a pattern dimension of a mask layer is shifted from the design value.
    マスク層のパターン寸法がその設計値からずれた場合においても、回折格子のパターンがその設計値からずれることを抑制可能な回折格子を形成する方法及び半導体レーザを作製する方法を提供する。 - 特許庁
  • An SLM control unit 130 forms a CGH image in which a two-dimensional phase pattern corresponding to the optical pattern is superimposed on a diffraction grating pattern, and causes a liquid crystal SLM 137 to display the image.
    SLM制御部130は光パターンに対応した2次元的な位相パターンと回折格子パターンとを重畳したCGH画像を作成し、この画像を液晶SLM137に表示する。 - 特許庁
  • The bis-maleic acid salt (a mixture of bis-maleic acid salt form I and bis-maleic acid salt form III) and free base forms of the compound have peaks at specific diffraction angles in a powder X-ray diffraction pattern.
    粉末X線回折図において、特定の回折角にピークを有するビスマレイン酸塩(ビスマレイン酸塩I型、ビスマレイン酸塩III型)及び遊離塩基型化合物。 - 特許庁
  • The optical axis correcting element 601 has a grating groove pattern formed in linear shapes at regular intervals and is provided with wavelength selectivity, giving a desired diffraction angle and diffraction efficiency to the three wavelengths.
    光軸補正素子601は、等間隔直線状の格子溝パターンを有し、3波長に対して所望の回折角度と回折効率を与える波長選択性を備える。 - 特許庁
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