「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)
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回折格子パターン２１ｂが形成された光学素子２１の表面に、所定温度以上で昇華する材料である分散染料を静電塗装によって付着させて粉体保護層１２を形成した。 - 特許庁 - Then, the cured resin layer is stripped from the third die 15 and a diffraction optical element 16 which is made of the glass substrate 12 and the ultraviolet curing resin layer 14 and is formed of the relief pattern on the boundary surface is completed (process (f)).
そして、第３の金型１５から剥離すると、ガラス基板１２と紫外線硬化型樹脂層１４とからなり、その境界面にレリーフパターンが形成された回折光学素子１６が完成した（ｆ）。 - 特許庁 - An interference fringe having a function to reproduce a hologram stereoscopic image is recorded at the center part of a medium, and a diffraction grating pattern having the function to reproduce a two-dimensional image I2 is recorded at peripheral part thereof.
媒体の中央部分には、ホログラム立体像Ｉ１を再生する機能を有する干渉縞を記録し、その周囲部分には、二次元画像Ｉ２を再生する機能を有する回折格子パターンを記録する。 - 特許庁 - By irradiating the plane waveguide type optical circuit with an ultraviolet laser beam 50 through a phase grating mask 30, the diffraction grating 25 is formed in the core layer 20 (figure 1 (d)) by the refractive index modulation pattern.
そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク３０を介して紫外レーザ光５０を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子２５をコア層２０内に形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁 - The two-dimensional hologram pattern 200 as the diffraction grating for generating the Laguerre-Gaussian Beam is fabricated based on flow lines of a two-dimensional perfect fluid uniformly gushing from a gushing source in a uniform stream to the surroundings.
ラゲールガウシアンビーム生成用回折格子としてのホログラム２次元パターン２００は、一様な流れの中におかれた湧源から周囲に一様に湧き出す２次元完全流体の流線に基づいて作製されている。 - 特許庁 - Preferably, the Ti-MWW layered precursor is one giving an X-ray diffraction pattern having values below and having a composition represented by general formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (wherein x is a numerical value of 0.0001-0.1).
該Ｔｉ-ＭＷＷ層状前駆体としては、下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ一般式ｘTiO2・(1−x)SiO2（式中ｘは0.0001〜0.1の数値を表す。）で表される組成を有するものであることが好ましい。 - 特許庁 - A diffraction grating 41 is arranged so as to be rotated between a laser beam generator 40 and a cable 10, and the laser beam of the laser beam generator 40 is used as a pattern beam 43 configured of a plurality of slit beams 42.
回折格子４１は、レーザ光発生器４０とケーブル１０との間に回動可能に配置されており、レーザ光発生器４０のレーザ光を複数のスリット光４２からなるパターン光４３とする。 - 特許庁 - When the diffraction grating is formed on the side face of a ridge in a ridge-shaped waveguide, a mask pattern is formed while irregularities formed on the surface of a crystal layer are used, and its side face is side-etched so as to form a mask.
また、リッジ型導波路においてそのリッジ側面に回折格子を形成する際に、結晶層の表面に形成した凹凸を利用してマスクパターンをつくり、その側面をサイドエッチングしてマスクを形成する。 - 特許庁 - The X-ray diffraction pattern of a residual part after the hydrate phase of the hydrate product is dipped into a 5-10 vol% sulfuric acid aqueous solution and absolutely dried has a halo form having a peak in 24±1° (expressed by Cukα2θ).
水和生成物の水和相を5乃至10容量％の硫酸水溶液中にて浸漬した後の絶乾処理した残査部分のX線回折パターンが、24°±１°（Cukα2θ表示）にピークを持つハロー図形を示す。 - 特許庁 - It is preferable that the electrolytic manganese dioxide has a (110)/(021) peak intensity ratio of 0.50-0.80 in the X-ray diffraction peak pattern, and an interplanar distance between the (110) planes of 4.00-4.06 Å.
電解二酸化マンガンのＸ線回折ピークにおける（１１０）／（０２１）のピーク強度比が０．５０以上０．８０以下、（１１０）面の面間隔が４．００Å以上４．０６Å以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The random pattern structure is constituted of plural fine rectangular elements with plural kinds of height, and the rectangular elements are irregularly arranged so as to constitute plural kinds of diffraction gratings having different grating pitches.
ランダムパターン構造は、複数種類の高さを有する複数の微小な矩形エレメントから成っており、矩形エレメントは、格子ピッチの異なる複数種類の回折格子を構成するように不規則に配置されている。 - 特許庁 - To provide a simple defect inspection device and a defect inspection method for performing defect inspection on a substrate by using diffraction beams generated from a repetitive pattern of further fine intervals without shortening the wavelengths of illumination beams.
照明光の波長を短くしなくても、さらに微細なピッチの繰り返しパターンから発生する回折光を利用して、基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - The diffraction optical element having cyclic step shape is manufactured by repeating a series of processes for exposing and developing a base plate 1 coated with a resist 2 by using a mask so as to form a resist pattern, and for etching it.
マスクを用いてレジスト２が塗布された基板１を露光，現像してレジストパターンを形成し，エッチングする一連のプロセスを繰り返して，周期的な階段形状を有する回折光学素子を製造する。 - 特許庁 - In the spherical aberration correction element 22 used together with the refraction type objective lens 21 of this composite objective lens, a diffraction lens structure is formed on its one side lens surface 221 as a ring- shaped pattern around an optical axis.
屈折型対物レンズ２１とともに用いられる球面収差補正素子２２は、その一方のレンズ面２２１上に、光軸を中心とした輪帯状のパターンとして回折レンズ構造が形成されている。 - 特許庁 - To provide a light guide plate using a diffraction grating, which has high luminous efficiency by good moldability of a pattern from original plate and good productivity and is manufactured at low cost, and its manufacturing method.
回折格子を使用した導光板であって、原版からのパターンの成形性が良好で発光効率が高く、生産性が良好で廉価なフィルム導光板、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In the stamper used as a die for pattern transfer, at least the outermost surface of each projecting part is formed of a material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction.
パターン転写の型として用いられるスタンパであって、少なくともそのスタンパの凸部最表面を、Ｘ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０で形成することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁 - A cell composed of a diffraction grating is used as the minimum unit to constitute an image, and the display pattern consisting of a (first) segment group is formed by arranging the pixels into almost stripes or matrix.
画素を構成する最小単位として回折格子からなるセルを用い、表示パターンについて、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる前記パターンを形成する。 - 特許庁 - The edge position determined from a light quantity distribution pattern of fresnel diffraction detected by a line sensor is corrected according to the thickness δ of the object in the optical axis direction of monochrome parallel light and detection distance (z).
ラインセンサにて検出されたフレネル回折の光量分布パターンから求められるエッジ位置を、単色平行光の光軸方向における物体の厚みδ、およびその検出距離ｚに応じて補正する。 - 特許庁 - The polymorphic crystals of donepezil hydrochloride (I)-(IV) and (V) represented by the chemical formula characterized in a powder X-ray diffraction pattern and an infrared absorption spectrum have excellent thermal stability and low hygroscopicity.
粉末Ｘ線回折パターンおよび赤外吸収スペクトルにおいて特徴付けられる、下記化学式で表される塩酸ドネペジルの多形結晶(I)〜(IV)と(V)は、優れた熱安定性および低吸湿性を有する。 - 特許庁 - To obtain an optical functional element which makes an extent where interference fringes of reflected wave faces of a lens or the like having a curved surface nearly being a flat surface can be observed to proper size and in which accuracy of the wave face produced by a diffraction pattern is high.
平面に近い曲面を有するレンズなどの反射波面の干渉縞の観察できる範囲を適切な大きさにして、かつ、回折パターンによって生成される波面の精度が高い光機能素子を得る。 - 特許庁 - By initially releasing the plastic lens PL from the movable half 14 immediately after initial mold opening, in this way, it can be avoided completely that a diffraction lens surface PLb formed on the plastic lens PL and a diffraction pattern formed on the optical surface 14a of the movable half 14 come into contact with each other, even when the plastic lens PL contracts by cooling.
このように、初期型開きの直後に可動型１４に対してプラスチックレンズＰＬを初期離型させることで、プラスチックレンズＰＬが冷却されて収縮した場合にも、プラスチックレンズＰＬに形成された回折レンズ面ＰＬｂと、可動型１４の光学面１４ａに形成された回折パターンとが接触することを完全に回避することができる。 - 特許庁 - In a diffraction grating 14 for generating a diffracted light from an optical beam reflected on an optical recording medium, a grating pattern of the diffraction grating 14 is selected so as to generate ± secondary diffracted lights for the optical beam of a first wavelength, and ± primary diffracted lights for the optical beam of a second wavelength roughly double of the first wavelength.
光記録媒体で反射された光ビームから回折光を生成する回折格子１４において、第１の波長の光ビームに対しては±２次回折光を生成するとともに、第１の波長の略２倍の第２の波長の光ビームに対しては±１次回折光を生成するよう、回折格子１４の格子パターンを選定した。 - 特許庁 - The carbon structure is characterized in that it has a peak in the XRD (X-ray diffraction) diffraction pattern within the range of 19°-26°, a density by the He method of ≥1.4 g/cm^3, and a volume resistivity of ≤1 Ωcm, and it is prepared from graphite oxide by removing a part of oxygen which is covalently bonded through calcination.
本発明の炭素構造体は、酸化黒鉛の焼成により共有結合した酸素の一部を取り除き、ＸＲＤ（Ｘ線回析）の回折パターンのピークが１９°から２６°の範囲に有しているとともに、Ｈｅ法による密度が１．４ｇ／ｃｍ^３以上、体積固有抵抗値が１Ω・ｃｍ以下であることを特徴としている。 - 特許庁 - For example, micronic diffraction gratings 3a, 3b and 3c belonging to the medium 3 for authenticity confirmation on a base material 2 each have a lattice constant comparable with that of the wavelength of visible light and a lattice direction different from one another to thereby read an intensity pattern of diffraction light caused by emitting polarized light, which can confirm authenticity.
例えば、基材２上の真正性確認用媒体３が有する微小回折格子３ａ、３ｂ、３ｃ、および３ｅの各々を、可視光の波長と同程度の格子定数を持ち、互いに格子の方向を異ならせることにより、偏光を照射して生じた回折光の強度パターンを読み取って、真正性確認を可能にすることができた。 - 特許庁 - The laser beam detecting means includes: diffraction optical elements 103a and 103b which shape the defected and scanned laser beams into a pattern consisting of dots or lines; and a plurality of light receiving elements PD1 and PD2 for detecting the pattern, wherein the plurality of light receiving elements have a light receiving face wider than the luminous flux width in a main scanning direction of dots or lines composing the pattern.
レーザビーム検出手段は、偏向走査されるレーザビームをドットまたはラインからなるパターンに整形する回折光学素子１０３ａ，１０３ｂと、上記パターンを検出するための複数の受光素子ＰＤ１，ＰＤ２とを具備し、複数の受光素子は、上記パターンを構成するドットまたはラインの主走査方向光束幅よりも広い幅の受光面を有する。 - 特許庁 - An X-ray imaging apparatus capturing a specimen comprises: a diffraction grating which shapes an interference pattern by diffracting an X-ray from an X-ray source; a masking grating which blocks a part of the X-ray shaping the interference pattern; and an X-ray detector which detects X-ray strength distribution from the masking grating.
被検体を撮像するＸ線撮像装置は、Ｘ線源からのＸ線を回折することにより干渉パターンを形成する回折格子と、干渉パターンを形成するＸ線の一部を遮る遮蔽格子と、遮蔽格子からのＸ線の強度分布を検出するＸ線検出器を備える。 - 特許庁 - To provide an authenticity determining device of a card, capable of objectively determining authenticity of the card, even in the card having a hologram seal in which a lattice pattern having a predetermined pitch and a lattice pattern, in which an alignment direction of a diffraction grating is the same direction and having a different predetermined pitch each other are arranged alternately with a fixed period.
所定ピッチを有する格子パターンと回折格子の配列方向が同方向でかつ互いに異なる所定ピッチを有する格子パターンとが一定周期で交互に配列されたホログラムシールを有するカードであっても、その真贋を客観的に判定できるカードの真贋判定装置を提供する。 - 特許庁 - The illuminator comprises a diffraction optical element forming a light pattern having a desired illuminance distribution on a predetermined plane by using the luminous flux from a light source, and a focus optical system for projecting the light pattern formed on the plane on a prescribed plane wherein the image formation optical system has a variable magnification.
照明装置において、光源からの光束を用いて所望の照度分布を持つ光パターンを予め決めた平面に形成する回折光学素子と、該平面に形成される前記光パターンを所定の平面に投影する結像光学系とを有し、該結像光学系は倍率が可変であることを特徴とするようにする。 - 特許庁 - An In-Ga-Zn-O-based film is so formed as to have an incubation state exhibiting an electron beam diffraction pattern different from a conventionally known amorphous state that a halo shape pattern appears, and from a conventionally known crystal state that a spot appears clearly, and the film is used as a channel formation region of a channel etched thin film transistor.
ハロー状のパターンが現れる従来公知のアモルファス状態とも異なり、スポットが明確に現れる従来公知の結晶状態とも異なる電子線回折パターンを示すインキュベーション状態を有するＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ系膜を形成し、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域として用いる。 - 特許庁 - By using a photomask or a reticle installed with an auxiliary pattern with a function of light intensity reduction, which consists of diffraction grating pattern or semi-translucent film, a barrier rib having portions with different heights is formed on pixel electrodes (also called first electrodes) in a display region and around a pixel electrode layer.
回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display and a method for manufacturing the display produced by which a complicated pattern in a storage part is simplified to decrease the number of masks by applying a diffraction pattern used in the channel part of a thin film transistor for an on-common type storage part in a liquid crystal display manufactured in four-mask processes.
本発明は４マスク工程を通じて形成される液晶表示装置において、薄膜トランジスタのチャネル部に適用される回折パターンをオン・コモン方式のストレージ部に適用することによって、ストレージ部の複雑なパターンを単純化してマスク数を減少する液晶表示装置及びその製造方法を提案する。 - 特許庁 - The polarized light separating element is constituted such that a rugged pattern 2 constituting the diffraction grating is formed on the surface of a base material 1 made of material having light transmissivity in the usage wavelength range and at least two or more surfaces of protruded parts 3 of the rugged pattern 2 are covered with a film 4 made of material comprising a metal or a metal compound.
使用波長範囲において光透過性を有する材料より成る基材１の表面に、回折格子を構成する凹凸パターン２が設けられ、この凹凸パターン２の凸部３の少なくとも２つ以上の面が、金属或いは金属化合物より成る材料膜４で被覆されて成る構成とする。 - 特許庁 - A short grating electrode provided with a plurality of electrode fingers is formed between the input electrode and output electrode, and the arrangement pattern of the electrode finger of the short grating electrode is formed as a periodic structure continuing from at least one pattern of the input electrode and output electrode to suppress the refraction and diffraction.
入力電極と出力電極の間に、複数の電極指を備えたショートグレーティング電極を形成して、このショートグレーティング電極の電極指の配列パターンを、入力電極及び出力電極の少なくとも一方のパターンから連続する周期構造として、屈折や回折を抑える。 - 特許庁 - To solve the problem in conventional inspection apparatus and inspection method using a Fourier transform filter that a reflecting light from an edge of an irregular circuit pattern cannot be removed although the apparatus and method are effective to remove a diffraction light from a repeated pattern, and consequently sophisticated image processing such as processing the edge, distinguishing foreign matters from false failures in the vicinity of the edge, etc., is required.
従来のフーリエ変換フィルタを用いた検査装置及び検査方法では、繰り返しパターンからの回折光の除去には有効であるが、不規則な回路パターンのエッジ部からの反射光は除去できず、エッジ部処理やエッジ部近傍における異物と疑似不良の識別等高度な画像処理が必要でありる。 - 特許庁 - The powder X-ray diffraction pattern of the biimidazole compound shows a diffraction peak at least in each region from 9.0° to 9.2°, from 11.0° to 11.2° and from 21.2° to 21.4° of 2θ angle by Cu-Kα characteristic X-ray diffraction.
（Ａ）バインダー樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）着色材料および（Ｅ）溶剤を含有し、光重合開始剤として少なくともビイミダゾール化合物を含む着色感光性樹脂組成物において、ビイミダゾール化合物の（１）粉末Ｘ線回折パターンがＣｕ−Ｋα特性Ｘ線回折の２θ角度で少なくとも９．０°〜９．２°の範囲、１１．０°〜１１．２°の範囲および２１．２°〜２１．４°の範囲にそれぞれ回折ピークを有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide a multi-pattern bright sled with which specific bright design and optical effect, such as a hologram and diffraction grating, can be obtained and/or security is obtained, and which is excellent in the sense of unity with a paper sheet, is easy to manufacture, and is low in cost.
ホログラムや回折格子などの特異な光輝性意匠や光学的な効果、及び／又はセキュリティ性が得られ、用紙との一体感に優れ、製造が容易で低コストである複数図柄光輝性スレッドを提供する。 - 特許庁 - To provide a hologram observation tool, which enables a light pattern with high diffraction efficiency to be seen replacing a light source in a scene, make a conjugate image and a high-order image unnoticeable even when they appear, and is easily manufactured having specified characteristics, and a computer hologram for the same.
高回折効率で明るいパターンがシーン中の光源に置き替わって見え、共役像、高次像が出ても気にならず、かつ、所定の特性のものの作製が容易なホログラム観察具とそのための計算機ホログラム。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing method for contact X-ray lithography wherein drawing is carried out by moving the zeroth-order diffraction image of an opening formed in a mask relatively with respect to a substrate applied with a photosensitive agent, and which enables high-contrast continuous drawing.
マスクに形成した開口部の０次回折像を、感光剤を塗布した基板に対して相対移動させることにより描画する近接Ｘ線リソグラフィのパターン描画方法であって、コントラストの高い連続描画を可能にする。 - 特許庁 - The composite bead is prepared by adding a second component as a main component to Y_2O_3, maintains chemical solubility to a mineral acid, and has an X-ray diffraction pattern identically similar to cubic or monoclinic Y_2O_3.
複合ビーズは、主成分としてのＹ_２Ｏ_３に第二成分を添加し、鉱酸に対する化学的溶解性を維持しつつ、Ｘ線回折パターンが立方晶又は単斜晶のＹ_２Ｏ_３と同一類似であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a diffraction optical element having high optical performance, capable of realizing, easily and surely, an optical function equivalent to a high-precision optical element requiring an extreme minute pattern, and capable of suppressing generation of unnecessary diffracted light or stray light.
極めて微細なパターンを必要とする高精度の光学素子と等価な光学的機能を容易且つ確実に実現し、不要回折光や迷光の発生を抑止して高い光学性能を持つ回折光学素子を提供する。 - 特許庁 - To provide an exposure device inspection method and an exposure device, capable of obtaining a highly accurate inspection result by forming a highly accurate transfer pattern and by acquiring diffraction light detection data, when inspecting the exposure device using a photo mask.
フォトマスクを用いて露光装置の検査を行う際に、高精度な転写パターンを形成し、回折光検出データを取得し、高精度の検査結果を得ることが可能な露光装置の検査方法、及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - The titanosilicate catalyst is obtained by bringing the titanosilicate, which has an X-ray diffraction pattern having the following values and is shown by the formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (wherein x is a numerical value of 0.0001-0.1), into contact with a zinc compound.
下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ式 ｘＴｉＯ_２・（１−ｘ）ＳｉＯ_２ （式中ｘは０．０００１〜０．１の数値を表す。）で表されるチタノシリケートを亜鉛化合物と接触させて得られるチタノシリケート触媒。 - 特許庁 - When a glass substrate of a measuring object is irradiated with convergence light via a condenser lens 114, diffraction light generated by the array pattern of the electrodes 31 is generated to be reflected on a surface 3a and a reverse face 3b of the substrate.
測定対象のガラス基板に集光レンズ１１４を介した集束光を照射すると、電極３１の配列パターンにより生じた回折光が発生し、基板の表面３ａおよび裏面３ｂで反射する。 - 特許庁 - The diffraction optical device consists of layers of at least two kinds of different optical materials 3, 4 which are substantially transparent for the wavelength region to be used and has a relief pattern 5 on the interface of at least one optical material 3.
回折光学素子は、使用する波長帯域で実質的に透明であり、異なった少なくとも２つの光学材料３，４が積層され、少なくとも一方の光学材料３の境界面にレリーフパターン５が形成されている。 - 特許庁 - When the prescribed voltage is applied to transparent electrodes 15a, 15b, a diffraction pattern causing the prescribed diffracted light for a light beam for a DVD and a light beam for a CD is formed in the transparent electrode 15a.
透明電極１５ａには、透明電極１５ａ、１５ｂに所定の電圧を印加した場合に、ＤＶＤ用の光ビームとＣＤ用の光ビームとに対して所定の回折光を生じる回折パターンが形成されている。 - 特許庁 - Provided that, in the formula (1), ξ is a value indicating a position in a radius direction of the lens in one period of the diffraction pattern, and ϕ(ξ) indicates a value (radian) of a phase shift amount of light passing the position ξ from the phase of light passing through a reference plane.
但し、ξは、回折パターンの１周期におけるレンズの半径方向の位置を示す値であり、φ（ξ）は、基準面を通過した光の位相に対して、ξの位置を通過する光の位相のずれ量の値（ラジアン）を示す。 - 特許庁 - Especially, the object is considered as two knife edges disposed separately by distance δ in the optical axis direction, multiple fresnel diffraction is considered to occur in these knife edges, the light quantity distribution pattern detected by the line sensor is analyzed.
特に物体を光軸方向に距離δを隔てて設けられた２枚のナイフエッジと看做し、これらのナイフエッジにおいてフレネル回折が多重に生じたとしてラインセンサにて検出された光量分布パターンを解析する。 - 特許庁 - The X-ray imaging element 11 includes an X-ray conversion element 111 having a pattern equivalent to a diffraction grating formed of a material generating visible light by absorbing the X-ray, and an imaging element 112 for imaging the visible light.
Ｘ線撮像素子１１は、Ｘ線を吸収して可視光を発生する材料で形成された回折格子に相当するパターンを有するＸ線変換素子１１１と、可視光を撮像する撮像素子１１２とを含む。 - 特許庁 - The invention proposes that a diffraction pattern is formed by a stationary beam (200) having a diameter a little bit lager than a crystal, and, as a result, the TEM without a STEM unit can be used.
当該発明は、結晶と比べてわずかにより大きい直径を備えた静止のビーム（２００）で回折パターンを形成することを提案するが、それの結果としてＳＴＥＭユニット無しのＴＥＭは、使用されることができる。 - 特許庁 - The random pattern structure P40 to P42 is constituted of plural fine rectangular elements E1 to E4 with four kinds of height, and the rectangular elements E1 to E4 are irregularly arranged so as to constitute plural kinds of diffraction gratings having different grating pitches.
ランダムパターン構造(P40〜P42)は、４種類の高さを有する複数の微小な矩形エレメント(E1〜E4)から成っており、矩形エレメント(E1〜E4)は、格子ピッチの異なる複数種類の回折格子を構成するように不規則に配置されている。 - 特許庁
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