To provide a plastic card to which an alteration preventive measure is applied and which is improved in durability and made impossible to alter by re-sticking or the like, by embedding a seal (certificate stamp) of a hologram, a diffraction grating pattern or the like in the card. 本発明は、ホログラムや回折格子パターン等のシール(証紙)をカード内に埋設することで、耐久性の向上と貼り替え等の改ざんを不可能とした改ざん防止策が施されたプラスチックカードを提供する。 - 特許庁
The reflection light from the object surface dispersively illuminated by the diffractionpattern is projected together with the dispersed light to be generated by way of the objective lens 5, the beam splitter 4, a cylindrical lens 9, and a focusing lens 7 to the light reception part 8. この回析パターンによって分散照明された物体表面からの反射光を、発生するであろう散乱光と共に対物レンズ5、ビームスプリッタ4、シリンドリカルレンズ9、結像レンズ7を経て受光部8に投影する。 - 特許庁
The apparatus comprises means 13 to 17 which capture a diffraction image of a substrate comprising different shot areas, each having repetition patterns transferred thereto and a means 17 which calculates fluctuations in linewidth of the repetition patterns transferred to the different shot areas by comparing the brightness information of each part corresponding to each repetition pattern with respect to the different shot areas in the diffraction image. 異なるショット領域のそれぞれに繰り返しパターンが転写されている基板の回折画像を取り込む手段13〜17と、回折画像の異なるショット領域について、それぞれの繰り返しパターンに対応する部分の輝度情報を比較することにより、異なるショット領域に転写された繰り返しパターンの線幅変動を算出する手段17とを備える。 - 特許庁
The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffractionpattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film. 配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第1工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第2工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第3工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁
The multiplex pixel pattern is related to a multiplex diffraction grating medium with which different motifs are observed in different wavelength regions by defining micro pixels by further dividing a pixel composing one closed region and defining a unit micro pixel arrangement in which the micro pixels are arranged in m-lines×n-columns, and related to the mechanical reading device using the multiplex diffraction grating medium. この多重画素パターンは、一つの閉領域を構成する画素を、さらに分割して微小画素とし、この微小画素をm行n列に配置した単位微小画素配列というものを定義することで、異なる波長領域において、異なるモチーフを観察することができる多重回折格子媒体及びそれを用いた機械読取装置に関するものである。 - 特許庁
This nickel electrode for the alkaline storage battery includes a positive electrode containing a positive electrode active material mainly composed of nickel hydroxide, and a compound including at least one of elements among erbium(Er), thulium(Tm), ytterbium(Yb) and ruthenium(Lu), having a diffraction peak with d=88 nm, d=84 nm and d=76 nm in the X-ray diffractionpattern by Kα line of Co. 正極を水酸化ニッケルを主成分とする正極活物質と、CoのKα線によるX線回折図において、d=88nm、d=84nmおよびd=76nmに回折ピークを有するエルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)およびルテチウム(Lu)の中少なくとも一種の元素を含む化合物を含有することを特徴とするアルカリ蓄電池用ニッケル電極とする。 - 特許庁
In the object lens for the optical pickup device, variations in the axial spherical aberrations due to refractive index variation accompanying temperature variations, which are a drawback of a lens made of resin, is suppressed by correcting axial spherical aberration due to the variations in the temperature of surroundings with a base surface (envelope of a diffraction pattern), and by correcting the spherical aberration with a diffraction surface disposed on at least one surface. 光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、ベース面(回折パターンの包絡面)で、環境温度変化による軸上球面収差変化量を補正したとともに、少なくとも1面に設けた回折面で、球面収差を補正することによって、樹脂製レンズの欠点である温度変動に伴う屈折率変化に起因する軸上球面収差の変化を抑えることができる。 - 特許庁
To provide an X-ray diffraction analyzing technique capable of simply acquiring the X-ray diffractionpattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a laboratory or on the spot by reducing the damping of intensity in a light path until the X-ray beam emitted from an X-ray tube arrives at a sample to the utmost. X線管から出射されたX線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるX線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするX線回折分析技術を提供する。 - 特許庁
The hydrogen-producing catalyst for producing hydrogen from carbon monoxide and water in internal-combustion engine exhaust gas contains: an oxide containing a cerium oxide in which the ratio of (111)-face diffraction peak intensity to background intensity in X-ray diffractionpattern is 4.3 or more; a zirconium oxide; and at least one noble metal selected from Pt, Pd and Rh. 内燃機関排ガス中の一酸化炭素と水から水素を生成する触媒であって、X線回折パターンにおいて(111)面回折ピーク強度とバックグランドの比が4.3 以上である酸化セリウムを含む酸化物と、ジルコニウム酸化物と、Pt,Pd,Rhから選ばれる貴金属の少なくとも1つとを含むことを特徴とする水素製造触媒を用いる。 - 特許庁
An optical distance between optional two recording layers out of a plurality of recording layers is different from an optical distance (dm) at which, when a light spot of diffraction limit is formed at one recording layer, a mark string pattern of the other recording layer can be image-formed on a detector. 複数の記録層のうち任意の2つの記録層の間の光学的距離は、1つの記録層に回折限界の光スポットが形成される際に他の記録層のマーク列パターンが検出器に結像されうる光学的距離dmと異なる。 - 特許庁
To provide an optical element in which a diffraction grating having a pattern of a large difference in refractive index is formed in a waveguide having a large thermophotometric constant (dn/dT) and to provide a method of manufacturing the optical element in a large volume at a low cost. 大きな熱光学定数(dn/dT)を有する導波路中に屈折率差の大きいパターンの回折格子が形成された光学素子と、それを高い量産性で安価に作製することができる製造方法を提供する。 - 特許庁
The solid crystalline atorvastatin hemi-calcium or the solvate thereof is characterized in that an atorvastatin hemi-calcium form V is collected from the mixture with water and 1-butanol and has a powder X-ray diffractionpattern which has peaks in 9.3 and 9.5±0.2 degrees 2θ. アトルバスタチンヘミカルシウム形態Vを、1−ブタノールとの水の混合物から回収した、9.3および9.5±0.2度2θにピークを有する粉末X線回折パターンによって特徴付けられる固体結晶アトルバスタチンヘミカルシウム又はその溶媒和物。 - 特許庁
In an optical control system for uniformly diffusing a transmitted light in a defined angle region, the optical control diffusion element includes a surface relief hologram diffraction grating and a surface relief hologram diffusion element for giving a predetermined illumination pattern to a diffused light. 透過光を定められた角度範囲へ一様に拡散させる光制御システムにおいて、表面レリーフ型ホログラム回折格子と拡散光が特定の照明パターンを持つ表面レリーフ型ホログラム拡散体を含む光制御拡散体。 - 特許庁
The compounding additive for the resin comprises a composite of aluminosilicate particles having a structure of particles with a determinate shape and an X-ray diffractionpattern characteristic of a zeolite, with fine particles of an active amorphous silicic acid or silicate deposited on the surfaces of the aluminosilicate particles. 定形粒子構造とゼオライトに特有のX線回折像とを有するアルミノケイ酸塩粒子と、アルミノケイ酸塩粒子の表面に沈着した活性非晶質ケイ酸乃至ケイ酸塩の微粒子との複合体からなる樹脂用配合剤。 - 特許庁
A diffraction X-ray pattern is accurately read since an incident X-ray 2 serving as a reference is recorded in the position sensitive X-ray detector, by thinning a film thickness of the measured sample to measure the diffracted X-ray by the transmission X-ray. 測定試料の膜厚を薄くして透過X線で回折X線を測定することにより、基準となる入射X線2も位置感応型X線検出器に記録されるため、回折X線パターンを正確に読み取ることができる。 - 特許庁
The hybrid pigment can be obtained by hybridizing a compound containing one or more metallic atoms with a metal-free pigment, the X-ray diffractionpattern of the hybrid pigment being substantially the same as that of the above metal-free pigment. 1つ以上の金属原子含有化合物と無金属顔料を混成させて得られる混成顔料のX線回折パターンが前記無金属顔料のX線回折パターンと実質同一であることを特徴とする混成顔料。 - 特許庁
The p-dichlorodiketopyrrolopyrrole has a 9 nm or less crystallite size in the direction perpendicular to the (-1 5 1) plane calculated based on the X-ray diffractionpattern, and a 60% or more of α-crystallinity. p−ジクロロジケトピロロピロール顔料におけるX線回折パターンより算出される(−1 5 1)面垂直方向の結晶子サイズが9nm以下であり、かつ該顔料のα型結晶化度が60%以上であるp−ジクロロジケトピロロピロール顔料。 - 特許庁
A reaction mixture, as an essential condition, containing cesium ions as alkali metal ion sources is heated while stirring the same, so that cesium ion-containing aluminosilicate zeolite having a specified X-ray diffractionpattern can be crystallized. アルカリ金属イオン源としてセシウムイオンを含有することを必須条件とする反応混合物を撹拌しながら加熱することにより、特定のX線回折パターンを有するセシウムイオン含有アルミノシリケートゼオライトを結晶化することができる。 - 特許庁
To provide a card authenticity deciding system capable of deciding not only the authenticity of a card provided with a hologram image formed by a diffractionpattern on the surface thereof objectively and strictly but also the authenticity of the kind of the card highly accurately. 回折パターンによって形成されたホログラム画像を表面に設けたカードの真偽を客観的に厳密に判定することができるうえ、カード種類に対する真偽判定を精度良く行うことができるカード真偽判定システムを提供する。 - 特許庁
In carrying out aberration correction of a STEM device, a standard substrate with Au particles 102 deposited on a single-crystal substrate 101 made of Si is used, and based on electron diffraction images and a Kikuchi pattern, inclination of the standard substrate is adjusted. STEM装置の収差補正に際して、Siからなる単結晶基板101上にAuパーティクル102が堆積されてなる標準基板を用い、電子線回折像及び菊池パターンに基づいて、標準基板の傾斜を調節する。 - 特許庁
The aerosol composition includes the porous silica and the liquefied gas, provided that the porous silica has at least one peak at a position corresponding to d-spacing of greater than 2 nm in an X ray diffractionpattern. 多孔質シリカと、液化ガスとを含有するエアゾール組成物であって、前記多孔質シリカが、そのX線回折パターンにおいて、d間隔が2nmより大きい位置に少なくとも1つのピークを有することを特徴とするエアゾール組成物である。 - 特許庁
By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a partition wall having portions with different film thickness is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of processes. 回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁
By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a barrier rib having portions with different film thicknesses is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of steps. 回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁
To provide a photosetting resin composition having excellent printing durability to a concavo-convex die upon embossing and forming a fine concavo-convex pattern layer excellent in heat resistance and chemical resistance; and to provide an optical article such as a diffraction grating and a relief hologram having a surface structure where a fine concavo-convex pattern is formed by using the resin composition. エンボス成形において凹凸金型への優れた耐刷性を有し、かつ耐熱性、耐薬品性に優れた微細凹凸パターン層を形成することができる光硬化性樹脂組成物を提供し、かつ該樹脂組成物により微細凹凸パターンが形成された表面構造を備える回折格子やレリーフホログラム等の光学物品を提供する。 - 特許庁
To provide an OVD (optically variable device) medium due to diffraction grating pattern, which has high antifalsifying effects or in which an image due to a concave-convex pattern is not recognized in ordinary illuminating conditions and can be displayed by incident radiation from a predetermined direction and, at the same time, which has high attractive effects, and a card-like information medium equipped with the OVD medium. 通常の照明条件においては凹凸パターンによる画像が認識されず、所定の方向から光を入射することにより画像を表示することができる、偽造防止効果が高く、且つ、人目をひく効果の高い回折格子パターンによるOVD媒体、およびかかるOVD媒体を備えるカード状情報媒体を提供すること。 - 特許庁
A microlouver 1 is provided comprising: a transparent substrate 2; a rugged pattern portion 5 which is formed with a predetermined pattern, and forms a diffraction image on one surface of the transparent substrate 2 by diffracting incident light; and transparent layers 3 and light absorbing layers 4 alternately arranged and disposed on one surface of the transparent substrate 2, extending in a direction intersecting the surface. マイクロルーバー1は、透明基板2と、透明基板2の一方の面上に、入射光を回折して回折像を形成する所定のパターンで形成された凹凸形状部5と、透明基板2の一方の面上に、この面に交差する方向にそれぞれ延び交互に並んで配置された透明層3および光吸収層4とを有している。 - 特許庁
The diffraction grating display body 30 is provided with a diffraction grating 2" having a characteristic of diffracting diffracted light in a specified linear direction obliquely to a display surface in an area corresponding to each pixel at a position obtained by widening an interval between pixels of a two-dimensional set of fine pixels representing a meaningful pattern of a character etc., to be displayed by a specified distance in the specified linear direction. 表示すべき文字等の意味のあるパターンを微細な画素の2次元的集合で表したとき、その2次元的集合の画素間の間隔を特定の1次元方向に所定距離だけ広げた位置の各画素7に対応領域に、その1次元方向であって表示面に対して斜めの方向に回折光を回折する特性の回折格子2”が設けられてなる回折格子表示体30。 - 特許庁
A hydrated crystal form of (±)-cis-FTC (that is, racemic cis-FTC) which is distinguishable from other form of FTC by its powder X-ray diffractionpattern, heat characteristic and production methods in a similar way, and a dehydrated form of the hydrate are also provided. 同様にX線粉末回折パターン、熱特性、および製造の方法によって、FTCの他の型と区別することができる、(±)−シス−FTCの水和した結晶型(すなわちラセミ体のシス−FTC)、およびこの水和物の脱水された型も提供する。 - 特許庁
Further, a phase difference film, a light diffusion pattern, etc., are formed on the slant 8 of the plate 1 to give a function of rotating polarization, and polarized light entering the slant 8 from the grating 7 is rotated to increase the polarization components of high diffraction efficiency. さらに、導光板1の斜面8に位相差膜や光拡散パターン等を設けて偏光を回転させる機能を与え、回折格子7から反射して斜面8に入射した偏光を回転させて、回折効率の高い偏光成分を増加させる。 - 特許庁
In the mixed conductive multiple oxide, the main crystal system is a cubic system, Ce and Zr are regularly oriented and the diffractionpattern has peaks respectively in 2θ=13.8-14.6, 36.0-37.4 and 43.2-44.9. また、この混合伝導性複合酸化物は、主要な結晶系が立方晶でありCeとZrとが規則的に配列しており、粉末X線回折測定では、回折パターンが、2θ=13.8〜14.6、36.0〜37.4、43.2〜44.9にそれぞれ1本ずつのピークを呈する。 - 特許庁
The production method for a crystal polymorphism A (Fig.1: X-ray powder diffraction pattern) of a pitavastatin hemicalcium salt (formula) comprises allowing a sodium salt of pitavastatin to react with CaCl_2 in an aqueous reaction medium, separating a formed crystal, and drying it so that the water content is adjusted to 3-12%. ピタバスタチンのナトリウム塩とCaCl_2とを水性反応媒体中で反応させ、生成した結晶を分離し、乾燥して含水量を3〜12%に調節する、ピタバスタチンヘミカルシウム塩(下式)の結晶多形A(図1:X線粉末回折図形)の製造方法。 - 特許庁
A solid phase of amorphous (-)-FTC and (-)-cis-FTC called II and III(-)-cis-FTC which is distinguishable from I(-)-cis-FTC by its powder X-ray diffractionpattern, heat characteristic and production methods is provided. X線粉末回折パターン、熱特性、および製造の方法によってI型(−)−シス−FTCと区別することができ、ここでは非晶質(−)−FTCおよびIIおよびIII型(−)−シス−FTC)と呼ばれる(−)−シス−FTCの固相を提供する。 - 特許庁
Alternatively, a nonmagnetic part for magnetically separating the magnetic recording pattern part is formed by partially implanting atoms into a deposited Co-containing magnetic layer, and setting Co (002) or Co(110) peak strength of X-ray diffraction of the magnetic layer of a relevant part to 1/2 or less. または、磁気記録パターン部を磁気的に分離する非磁性部を、すでに成膜されたCo含有磁性層に部分的に原子を注入し、該箇所の磁性層のX線回折によるCo(002)またはCo(110)ピーク強度を1/2以下にして形成する。 - 特許庁
A β type crystal and a γ type crystal of 4-amino-5-chloro-2-ethoxy-N-[[4-(4-fluorobenzyl)-2-morpholinyl]methyl]benzamide-citrate which are characterized by a powder x-ray diffractionpattern and/or a differential scanning calorimetric analysis thermogram, and are stable at the room temperature are disclosed. 粉末X線回折パターン及び/又は示差走査熱量分析サーモグラムで特徴付けられ、室温で安定な、4−アミノ−5−クロロ−2−エトキシ−N−[[4−(4−フルオロベンジル)−2−モルホリニル]メチル]ベンズアミド・クエン酸のβ型結晶及びγ型結晶。 - 特許庁
It is desirable for the sintered body to contain MgO in addition, and if it contains MgAl_2O_4 and MgO, it is preferred that the peak intensity of MgO (200) plane in an X-ray diffractionpattern is in the range from 0.5 to 50, provided that the peak intensity of MgAl_2O_4 (311) plane is 100. この焼結体は、MgOをさらに含むことが好ましく、MgAl_2O_4及びMgOを含む場合、X線回折によるMgAl_2O_4(311)面のピーク強度を100としたときのMgO(200)面のピーク強度が0.5〜50であること好ましい。 - 特許庁
The semiconductor film uses a semiconductor film, having a crystal structure containing silicon as a main component where among lattice planes detected by the reflected electron diffractionpattern method, the plane {101} occupying proportion is 10% or more, and the plane {111} occupying proportion is less than 10%. 珪素を主成分とし結晶構造を有する半導体膜であって、反射電子回折パターン法で検出される格子面の内、{101}面が占める割合が10%以上であり、{111}面が占める割合が10%未満である半導体膜を用いる。 - 特許庁
This ring of apertures (12b) segments azimuthally the collection space so that the signal outputs from detectors (44) that are saturated by the patterndiffraction or scattering may be discarded and only the outputs of unsaturated detectors are used for anomaly detection. 開口のこのようなリング(12b)は、パターン回折や散乱によって飽和される検出器(44)からの信号出力が捨てられるように収集スペースを方位角で区分し、飽和されていない検出器の出力のみが異常検出のために使用される。 - 特許庁
The cellulose nanofiber has an average polymerization degree of not less than 600 and not more than 30,000, an aspect ratio of 20-10,000, and an average diameter of 1-800 nm, and has an X-ray diffractionpattern having a Iβ type crystal peak. 本発明のセルロースナノファイバーは、平均重合度が600以上30000以下であり、アスペクト比が20〜10000であり、平均直径が1〜800nmであり、X線回折パターンにおいて、Iβ型の結晶ピークを有することを特徴とする。 - 特許庁
The TMPB substance of the present invention is a crystal of 2-methyl-2-triazolylmethylpenam-3-carboxylic acid 1,1dioxidodiphenylmethyl ester having peaks in lattice face intervals in X-ray diffractionpattern of powder obtained with copper radioactive ray of λ=1.5418 angstrom passed through a monochromater. 本発明のTAZB結晶は、モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線粉末回折パターンで格子面間隔にピークを有する2−メチル−2−トリアゾリルメチルペナム−3−カルボン酸1,1−ジオキシドジフェニルメチルエステルの結晶である。 - 特許庁
The diffraction optical element has at least two different 1st and 2nd laminated optical materials 3, 4 which are substantially transparent in a wavelength band used and a relief pattern 5 is formed on the boundary face of at least the 1st optical material 3. 回折光学素子は、使用する波長帯域で実質的に透明であり、異なった少なくとも2つの第1及び第2の光学材料3,4が積層されると共に、少なくとも第1の光学材料3の境界面にレリーフパターン5が形成されている。 - 特許庁
To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography. コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁
The TMPB substance of the present invention is a crystal of 2-methyl-2-triazolylmethylpenam-3-carboxylic acid diphenylmethyl ester having peaks in lattice face intervals in X-ray diffractionpattern of powder obtained with copper radioactive ray of λ=1.5418 angstrom passed through a monochromater. 本発明のTMPB結晶は、モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線粉末回折パターンで格子面間隔にピークを有する2−メチル−2−トリアゾリルメチルペナム−3−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの結晶である。 - 特許庁
A second step patterns a second resist layer with the image of the gate pads and local interconnect and then etching the polysilicon with the pattern of the gate pads and local interconnect, thereby reducing the number of diffraction and other cross-talk from different exposed areas. 第二の工程で、ゲートパッドと局所相互接続との画像で第二のレジスト層をパターン形成し、次にゲートパッドと局所相互接続とのパターンで多結晶シリコンをエッチングし、それによって異なる露光区域からの回折およびその他のクロストークの数を減らす。 - 特許庁
Moreover, the compositions having a powder X-ray diffractionpattern comprising at least three peaks with 2θ angles selected from about 18.2, 28.5, 29.5, 33.7, 41.2, 47.4, and 56.2 and a solid state ^23Na MAS NMR spectra peak at about 18 ppm. 約18.2、28.5、29.5、33.7、41.2、47.4、および56.2から選択される2θ角を有する少なくとも三つのピークを含有する粉末X線回折パターンおよび約18ppmにおいて固体状態^23Na MAS NMRスペクトルピークを有する。 - 特許庁
This diffraction grating 10 for hologram recording is so constructed that a shielding line 12 of a line and space pattern is formed on the surface of a transparent substrate 11 formed of glass, and a protective film 13 having the index of refraction equal to the index of refraction of the transparent substrate 11 is formed on the surface of the transparent substrate 11 including the shielding line 12. ガラスでなる透明基板11の表面にラインアンドスペース・パターンの遮光ライン12が形成され、遮光ライン12を含む透明基板11の表面に透明基板11の屈折率と同等な屈折率を有する保護膜13を形成する。 - 特許庁
In an iron-nitride magnetic powder which consists of particles that are mainly composed of a Fe_16N_2 phase and whose average particle size is 20 nm or smaller, TAP density is 0.75 g/cm^3 or below and a nitriding rate calculated from an X-ray diffractionpattern is 70 to 100%. Fe_16N_2相主体の粒子からなる平均粒子径20nm以下の粉末において、TAP密度が0.75g/cm^3以下、かつX線回折パターンから算出される窒化率が70〜100%であることを特徴とする窒化鉄系磁性粉末。 - 特許庁
This OVD medium 22 is equipped with a light transmitting concave-convex pattern forming layer (11), the surface of which keeps the image displayed through the interference and/or diffraction of light, and an optical controlling layer (14), which overlies the image observation side of the concave-convex pattern forming layer and has a region having a light transmittance smaller that its light reflectivity or its light absorptance. OVD媒体22は、表面に光の干渉および/または回折により画像を表示する凹凸パターンが形成された光透過性の凹凸パターン形成層(11)と、前記凹凸パターン形成層の、前記画像の観察側に設けられた、光透過率が光反射率または光吸収率より小さい領域を有する光制御層(14)を備えることを特徴とする。 - 特許庁
This optical encoder is equipped with a coherent light source 21, a scale 10 supported movably across the rays emitted from the coherent light source 21, and having a diffraction grating pattern 11 formed thereon, having a prescribed period, for diffracting or reflecting the rays and a photodetector 22 for detecting a diffracted interference pattern formed by the rays reflected or diffracted by the scale 10. 光学式エンコーダは、可干渉光源21と、この可干渉光源21から出射された光線を横切る様に移動可能に支持され、光線を回折または反射する所定の周期の回折格子パターン11が設けられたスケール10と、このスケール10により反射または回折された光線により形成された回折干渉パターンを検出する光検出器22とを備える。 - 特許庁
By using a photomask or a reticle formed with an auxiliary pattern having a light intensity reduction function formed of a diffraction grating pattern or a translucent film, the width of a region with a small thickness of a gate electrode can be freely set, and the widths of two LDD regions capable of being formed in a self-aligned manner with the gate electrode as a mask can be different in accordance with the each circuit. 回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることによって、ゲート電極の膜厚の薄い領域の幅を自由に設定でき、そのゲート電極をマスクとして自己整合的に形成できる2つのLDD領域の幅を個々の回路に応じて異ならせることができる。 - 特許庁
This alignment mark is formed in a manner whereby a a first film (insulating film) 2 transparent to light for mask alignment is formed on the prescribed region of a semiconductor substrate, and a second film (conductive film) 4 which is formed like a diffraction grating pattern composed of islands and provided on the first film 2 to reflect the mask aligning light. 半導体基板1上の所定の領域に、マスク合わせ用の光に対して透明性の第1の膜(絶縁膜2)を形成し、その第1の膜上に、複数の島状体からなる回折格子パターンで、マスク合わせ用の光を反射する第2の膜(導電膜4)を形成する。 - 特許庁