「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14- Light incident from an upper face is diffracted by a diffraction grating layer 2, comprising a single dimensional periodical pattern formed in parallel so as to resonate with incident light wavelength in reflection; and when the propagation constant matches the propagation mode of a high-refractivity index two-dimensional waveguide (wave guide layer 3) formed on a lower part, the diffracted waves are propagated through the wave guide layer 3.
上面から入射した光は、入射波長に共鳴反射するように平行に形成された１次元周期パターンからなる回折格子層２で回折され、その伝播定数が下部に形成された高屈折率の２次元導波路（導波層３）の伝播モードに一致するとき、回折波は導波層３を伝播する。 - 特許庁 - The area marker ME pattern of the diffraction grating plate 66 is restricted by a slit 68a of a visual field diaphragm 68 and the marker light M having passed through only a cross central guide Mb in the center part is irradiated, and thus it can be also used for the optical information reader equipped with optical systems with narrower angles of view, such as for reading a direct marking D of a stamp.
該回折格子プレート６６のエリアマーカーＭＥのパターンを、視野絞り６８のスリット６８ａで制限し、中心部の十字形状の中央ガイドＭｂのみ通過させたマーカー光Ｍを当てるようにすることで、刻印のダイレクトマーキングＤの読み取り用等の画角の狭い光学系を備える光学情報読取装置に転用できる。 - 特許庁 - The phase diffraction optical device has random phase distribution, in which a large number of unit patterns having different phase modulation functions are arranged with each unit pattern, consisting of recesses and projections having a period shorter than the wavelength of the light to be used, and different phase modulation functions in the unit patterns are obtained, by varying the width ratio of the recesses and projections in the recessed and projected part.
異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。 - 特許庁 - The form I anhydrous 4-[4-[4-(hydroxydiphenylmethyl)-1- piperidinyl]-1-hydroxybutyll-α,α,-dimethylbenzene acetic acid hydrochloride which has a distinctly visible melting point (capillary) of 196 to 201°C, an extrapolation start-accompanying melting endothermic point of 195 to 199°C measured by a differential scanning calorimetry and such the X-ray powder diffraction pattern as substantially shown below.
１９６〜２０１℃の明視化された融点（毛細管）、示差走査熱量測定法による測定での１９５〜１９９℃の補外開始を伴う融解吸熱および本質的に下に示されるようなＸ線粉末回折パターンをもつ形態Ｉの無水の４−［４−［４−（ヒドロキシジフェニルメチル）−１−ピペリジニル］−１−ヒドロキシブチル］−α,α−ジメチルベンゼン酢酸塩酸塩。 - 特許庁 - The diffractive optical elements 4 also have a diffraction grating pattern formed to provide a constant width of ultraviolet rays on each of an incident surface 41 and an outgoing surface 42 for ultraviolet rays radiated from the plurality of LED modules 1 such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are in a line elongated in the direction of arrangement of the plurality of LED modules 1.
さらに、回折光学素子４は、照射対象５に照射される紫外線が複数のＬＥＤモジュール１が並んでいる方向に細長くライン状になるように、複数のＬＥＤモジュール１から放射された紫外線の入射面４１および出射面４２の各面に紫外線の幅を一定にする回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁 - During work of removing a damaged layer which arises from an ion beam, transmitted electrons are detected with a two-dimensional detector, the transmitted electrons arising by irradiating a sample with an electron beam formed by an electron beam optical system, and the timing of the completion of the work of removing the damaged layer is determined on the basis of the blur amount of a diffraction pattern obtained with the two-dimensional detector.
イオンビームにより発生したダメージ層の除去加工中に、電子ビーム光学システムで形成された電子ビームを試料に照射することにより発生する透過電子を二次元検出器で検出し、当該二次元検出器で得られたディフラクションパターンのぼけ量に基づいてダメージ層の除去加工を終了するタイミングを判定する。 - 特許庁 - The conductive material using a silver-salt sensitized material containing at least a layer of a halide silver emulsion layer on a support body as a conductive material precursor has a peak half-value width of 0.41 or less at 2θ=38.2° in an X-ray diffraction method of a silver image pattern deposited on the conductive material.
支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料において、導電性材料に析出した銀画像パターンのＸ線回折法での２θ＝３８．２°のピークの半値幅が０．４１以下であることを特徴とする導電性材料を用いる。 - 特許庁 - The information recording medium 1 having an information recording part 10 wherein a plurality of phase diffraction gratings 20 are disposed with a two-dimensional pattern corresponding to the information to be recorded, is irradiated with linear laser beams emitted from a two-dimensional semiconductor laser array 71, then the diffracted light generated in the information recording part 10 is detected by a CCD array 76.
記録する情報に応じた２次元パターンで複数の位相回折格子２０が配設された情報記録部１０を有する情報記録媒体１に対して、２次元半導体レーザアレイ７１から出射した直線状のレーザ光を照射し、情報記録部１０で生じた回折光をＣＣＤアレイ７６によって検出する。 - 特許庁 - Among laser light beams emitted from the junction surface 6A by a semiconductor laser 6 in this optical pickup device, an unnecessary light component 8 having a larger radiation angle but smaller light intensity than a signal light 17 incident on the signal diffraction grating 5 of a hologram element 13 is converged on two focuses P1, P2 by stray light prevention hologram pattern sections 11, 12.
この光ピックアップ装置によれば、半導体レーザ６がその接合面６Ａから出射するレーザ光のうち、ホログラム素子１３の信号用回折格子５に入射する信号光１７よりも放射角が大きく光強度が小さな不要光８を、迷光防止用ホログラムパターン部１１，１２でもって２つの焦点Ｐ１，Ｐ２に集光させる。 - 特許庁 - Even when the mold 4' is formed by electrocasting since the pattern of a diffraction circle zone is formed on the optical transfer surface 4a' of the mold 4', the position of its optical axis can be led out precisely, and the peripheral surface, etc., of the slide member 5 of a movable core 10 can be formed precisely corresponding to it to the optical axis of the optical transfer surface 4a'.
回折輪帯のパターンを金型４’の光学転写面４ａ’に形成しているため、かかる金型４’が電鋳４により形成されたものであっても、その光軸の位置を精度よく導き出すことができ、それに応じて可動コア１０の摺動部材５の外周面５ｅなどを、光学転写面４ａ’の光軸に対して精度よく形成できる。 - 特許庁 - In a method of forming a marker MX for double-gate SOI processing on an SOI wafer, at least one marker has a diffracting structure in a first direction, and the diffracting structure is positioned so as to generate an asymmetrical diffraction pattern during use in an alignment and overlay detection system for detection in the first direction.
ＳＯＩウエハ上でのダブルゲートＳＯＩ処理のためのマーカーＭＸの作成方法においては、少なくとも１つのマーカーは第１方向への回折構造を有し、回折構造は、第１方向における検出のために、配列及びオーバレイ検出システムで用いている間に、非対称的回折パターンを生成するよう配置される。 - 特許庁 - This thread 10 for preventing counterfeit is a thread to be used by making a patterned paper with the thread, and has a resin layer 12 having an optical diffraction grating or a hologram pattern 13 formed on a base material 11 composed of a resin film, and a ferromagnetic thin membrane layer 15 attached onto the resin layer 13.
本発明の偽造防止用スレッド１０は、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材１１上に光回折格子またはホログラムパターン１３が形成された樹脂層１２を有し、当該樹脂層上に被着された強磁性材薄膜層１５をさらに備えることを特徴とする。 - 特許庁 - The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.
赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The objective for an optical pickup device corrects an on-axis spherical aberration variation quantity due to ambient temperature variation by a base surface (included surface with diffraction pattern) and corrects a spherical aberration by a diffracting surface provided on at least one surface to suppress variation in on-axis spherical aberration due to refractive index variation accompanying temperature variation as a defect of a resin-made lens.
光ピックアップ装置用対物レンズにおいて、ベース面（回折パターンの包絡面）で、環境温度変化による軸上球面収差変化量を補正したとともに、少なくとも１面に設けた回折面で、球面収差を補正することによって、樹脂製レンズの欠点である温度変動に伴う屈折率変化に起因する軸上球面収差の変化を抑えることができる。 - 特許庁 - Alternatively or additionally, the user may trace (or free-draw) the profile of a known image and subsequently map a shape-definer of mathematical functions, such as a polynomial equation, a spline or a vector onto the estimated profile, in order to obtain a profile and one or more variables of that profile that can be used to reconstruct the profile of an unknown object from its diffraction pattern.
あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る、プロファイル及び当該プロファイルの一つ以上の可変例を得ることができる。 - 特許庁 - Then, the signal light 5 is broken, reading light 6 of S polarization is applied to the optical storage medium 10, the first hologram is reproduced as diffraction light 8 of S polarization, its intensity is detected by a photo detector 53s, and the recording/reproducing head 20 is aligned to the optical storage medium 10 based on the detection signal of the alignment pattern included in the first hologram.
次に、信号光５は遮断し、Ｓ偏光の読み出し光６を光記録媒体１０に照射して、第１のホログラムをＳ偏光の回折光８として再生し、その強度を光検出器５３ｓにより検出して、第１のホログラムに含まれている位置合わせ用パターンの検出信号に基づいて、記録再生ヘッド２０と光記録媒体１０の位置合わせをする。 - 特許庁 - This optical head device 11 includes a diffraction element (HOE) 24 furnished with a diffractive pattern capable of providing such a light spot that the fluctuation of focus error mainly containing a component in the radial direction among reflection laser beams reflected by the optical disk is hardly to occur, on a light receiving face of a photodetector 28 for receiving the reflection laser beams reflected by a recording layer of the optical disk to output a corresponding signal.
この発明の光ヘッド装置１１は、光ディスクの記録層で反射された反射レーザ光を受光して対応する信号を出力する光検出器２８の受光面に、光ディスクで反射された反射レーザ光のうちのラジアル方向の成分を主として含むフォーカスエラーの変動が生じにくい光スポットを提供可能な回折パターンが与えられた回折素子（ＨＯＥ）２４を含む。 - 特許庁 - The hologram recording medium is subjected to recording or reproducing of information by irradiation with a coherent light beam and has a plurality of photosensitive sections which consist of photosensitive materials each internally storing the optical interference pattern for the light beam as a diffraction grating and are regularly paralleled, and non-photosensitive sections which exist between the photosensitive sections and compartmentalize the photosensitive sections from each other.
ホログラム記録媒体は、可干渉性の光ビームの照射により情報の記録又は再生が行われるホログラム記録媒体であって、各々が光ビームの光学干渉パターンを回折格子として内部に保存する感光材料からなりかつ規則的に並列された複数の感光部と、感光部間に位置しかつ感光部を互いに区切る非感光部とからなるホログラム記録層を有する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the organic electroluminescence element includes a stage in which a donor substrate 130 is laminated on the upper surface of a substrate 110 having pixel electrodes, and a stage in which a predetermined area of the donor substrate 130 is irradiated with laser beams 250, 255 by using a laser irradiation apparatus 200 equipped with a diffraction optical element 280 to form an organic film layer pattern 120 on the substrate 110.
本発明に係る有機電界発光素子の製造方法は，画素電極が設けられた基板１１０の上面にドナー基板１３０がラミネートされる段階と，回折光学素子２８０を備えたレーザー照射装置２００を用いてドナー基板１３０の所定領域にレーザービーム２５０，２５５が照射され，基板１１０上に有機膜層パターン１２０が形成される段階と，を含む。 - 特許庁
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