「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)

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  • The formed crystal is collected and dehydrated to afford the objective βd-crystal of the ivabradine hydrochloride, having a specific X-ray diffraction pattern.
    それにより生成した結晶を回収し、次いで脱水し、下記式(I)で示され、特定のX線回析パターンを有するイバブラジン塩酸塩のβd−結晶を得る。 - 特許庁
  • A misalignment amount Δx caused by difference of optical diffraction depending on roughness of a pattern of a photomask exists between substrate side first and second alignment marks 33a, 33b.
    基板側第1,第2アライメントマーク33a,33b間には、光の回折作用がフォトマスクのパターンの粗密によって異なることに起因するずれ量Δxが存在する。 - 特許庁
  • To manufacture an optical circuit member higly precisely and inexpensively by forming an alignment marker to a lens forming pattern substrate simultaneously with the formation of a diffraction grating for optical coupling in a waveguide.
    導波路に光結合用の回折格子を形成すると同時にレンズ形成用型基板とのアライメントマーカを形成して、高精度で低コストで製造するようにする。 - 特許庁
  • The electron emission film 1 having an X-ray diffraction pattern of diamond, constituted by a plurality of diamond particles with the size of 5 nm to 10 nm is formed on a substrate 2.
    基板2上に、X線回折においてダイヤモンドのパターンを有し、粒径が5nmから10nmである複数のダイヤモンド粒子より構成された電子放出膜1を形成する。 - 特許庁
  • The specified information for the mechanical read-out is composed of a cell consisting of a computer-generated hologram and arranged inside the pattern together with a cell consisting of the diffraction grating composing the decorative picture.
    計算機ホログラムから成るセルによって機械読み取り用の特定情報を構成し、装飾画像を構成する回折格子から成るセルと共に、パターン内に配置する。 - 特許庁
  • This crystal is, for example, characterized by an X-ray powder diffraction pattern given by copper radiant rays which are passed through a monochromator and have a λ of 1.5418Å.
    本発明の結晶は、例えば、モノクロメーターを通したλ=1.5418Åの銅放射線で得られるX線粉末回折パターンにおいて特徴づけられる。 - 特許庁
  • To provide a means for correcting scattering of focus position caused by an error of groove distribution pattern on a grid surface in a spectroscope using a diffraction grating with uneven interval groove.
    不等間隔溝回折格子を用いた分光器において、格子面上の溝分布パターンの誤差に起因する焦点位置のばらつきを補正する手段を提供する。 - 特許庁
  • This includes emitting light from the light source, dispersing light emitted from the light source into one of a diffraction pattern and an interference pattern, and imaging the patterned light onto the object using a lens 38.
    この方法に、光源から光を発することと、光源から発した光を回折パターンと干渉パターンとのうちの1つに分散させることと、レンズ(38)を使用してパターン付きの光を物体上に撮像することとが含まれる。 - 特許庁
  • A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.
    回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁
  • In the diffraction grating pattern having a plurality of minute cells each consisting of a diffraction grating composed of grating fringes of curved lines on the surface of a substrate, the profile line which defines the outer form of the cell does not include a horizontal profile line.
    曲線の格子縞により構成される回折格子からなる微小なセルが基板表面に複数配置されて構成される回折格子パターンにおいて、前記セルの外形を規定する輪郭線として、水平な輪郭線を含まないことを特徴とする。 - 特許庁
  • A water-insoluble monoazo dyestuff has a crystal transformation characterized by an X-ray diffraction pattern (CuKα) showing a strong peak at a diffraction angle (2θ) of about 11.1° and four intermediate peaks at about 8.1°, about 21.8°, about 23.1° and about 25.2°, and is represented by the formula.
    回析角(2θ)約11.1°に1本の強いピーク、更に約8.1°、約21.8°、約23.1°、約25.2°に4本の中間ピークを示すX線回析図(CuKα)により特徴づけられる結晶変態を有する下記構造式で示される水不溶性モノアゾ染料。 - 特許庁
  • The advantage of the method according to the invention is that the TEM without a scanning unit can be used, and also that the entire crystal obtains the diffraction pattern, while the volume of the diffraction does not depend on the orientation of the crystal when being illuminated.
    当該発明に従った方法の利点は、走査するユニット無しのTEMが、使用されることができると共に、全体の結晶が、回折パターンを得る一方で、照明される際に、回折のボリュームが、結晶の配向に依存するものではないというものである。 - 特許庁
  • The substrate with an ink accepting layer has at least one peak in an X-ray diffraction pattern, and the diffraction angle (2θ) of at least one peak has a layer containing a micelle-containing inorganic oxide (C) represented by the formula, 2θ=2sin^-1(λ/2d).
    X線回折パターンにおいて、少なくとも一つのピークを有し、かつそのうちの少なくとも一つのピークの回折角度(2θ)が(1)式で表されるミセル含有無機酸化物(C)を含んでなる層を有することを特徴とするインク受容層付基材である。 - 特許庁
  • Also the aligner, being an aligner having an optical system containing a diffraction optical element such as a BO element to project the original plate pattern illuminated with light from the light source on the substrate, is characterized by having the diffraction optical element.
    また、本発明の露光装置は、光源からの光で照明した原版のパターンを基板上に投影するため、BO素子のような回析光学素子を含む光学系を有する露光装置において、本発明の回折光学素子を有することを特徴とする。 - 特許庁
  • The stamper can be produced by a method including: a stage where a rugged pattern is formed on a substrate; a stage where a layer of the material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction is formed on the rugged pattern; and a stage where the adhesion face among the substrate, the rugged pattern and the layer of the material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction is peeled.
    こうしたスタンパは、基板上に凹凸パターンを形成する工程と、その凹凸パターンの上にX線回折において結晶性ピークを有していない材料110の層を形成する工程と、前記基板及び前記凹凸パターンと、前記X線回折において結晶性ピークを有していない材料110の層との密着面を剥離する工程とを含む方法で製造できる。 - 特許庁
  • The auxiliary light projecting device has a diffraction board for forming the pattern for focus detection, a laser beam source for illuminating the diffraction board, and a lens information obtaining means for obtaining the focal distance information of the photographic lens 1 attached to a camera, and the pattern for focus detection projected to the subject is switched based on the focal distance information.
    焦点検出用パターンを形成する回折板と、前記回折板を照明するレーザ光源と、カメラに装着された撮影レンズの焦点距離情報を入手するレンズ情報入手手段とを有し、前記焦点距離情報に基づき、被写体に投影する前記焦点検出用パターンを切替可能である補助光投影装置。 - 特許庁
  • The first diffractive element is movable so that each of its diffraction pattern portions can be selectively positioned in the incident beam's path and the diffraction pattern portions of the first diffractive element are designed to cause the incident beam to have different spatial illumination profiles at a pupil plane of the incident beam while reducing effects caused by the incident beam's coherence.
    第1回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第1回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。 - 特許庁
  • A diffraction grating pattern that generates reflected waves is provided to the one surface of a clad layer 8 adjacent to the active layer 7 in an active region, and a diffraction grating pattern 8a that projects laser rays in a direction vertical to the sapphire substrate 1 is provided to the other surface of the clad layer 8 in the active region.
    前記活性層7に隣接するクラッド層8であって活性領域の一方の側には反射波を生成するための回折格子パターン8b(図示せず)が形成され、活性領域の他方の側には反射波を生成するとともに前記サファイア基板1に垂直な方向にレーザー光を出射させるための回折格子パターン8aが形成されている。 - 特許庁
  • The ultraviolet sensor is of the type utilizing photoconductive effect of zinc oxide and is characterized in that the zinc oxide is additive-free zinc oxide and the half bandwidth of a diffraction peak in a (002) surface is not more than 0.5 degrees in an X-ray diffraction pattern of the zinc oxide.
    本発明の紫外線センサは、酸化亜鉛の光導電効果を利用した紫外線センサであって、前記酸化亜鉛が無添加の酸化亜鉛からなり、前記酸化亜鉛のX線回折パターンにおいて(002)面における回折ピークの半値幅が0.5度以下であることを特徴とする。 - 特許庁
  • By forming recesses and projections for constituting a diffraction grating having a two-dimensional shape in either the body of the mark for forming an alignment pattern or the periphery of the mark, diffracted light from the diffraction grating and non-diffracted light are used to enhance light intensity contrast.
    アライメントパターンを形成するマーク本体部と、マーク周辺部のいずれかに、二次元的な形状を有する回折格子を構成する凹凸を設けることにより、回折格子からの回折光と、非回折光とを利用して、光強度コントラストを大きくすることができる。 - 特許庁
  • The negative electrode active material contains Si and O wherein the atomic ratio x of O to Si is expressed as 0<x<2, and wherein B<3° (2θ) where B represents the half width of the diffraction peak of the (220) plane of Si in the X-ray diffraction pattern measured using CuKα radiation.
    SiとOとを含み、Siに対するOの原子比xが0<x<2で表され、CuKα線を用いたX線回折パターンにおいて、Si(220)面回折ピークの半値幅をBとするとき、B<3°(2θ)である負極活物質を用いることを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a diffraction grating pattern which has an up-to-date visual image such that display color are changed in accordance with rotation of a substrate or illumination direction and can further raise the level of forgery prevention without impairing resolution and brightness, and to provide a diffraction grating recording medium.
    本発明は、解像度や輝度を損なうことなく、基板もしくは照明方向の回転に伴って表示色が変化する視覚的なイメージが斬新で、偽造防止を一層高めることができる回折格子パターンおよび回折格子記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • This catalyst for decomposing a volatile organic matter containing a titanium oxide supporting at least, a cobalt oxide, (1) shows at least, a diffraction pattern of Co_3O_4 in X-ray diffraction measurement, and (2) is characterized in that the titanium oxide alone shows photocatalytic activity under exposure to a visible light.
    少なくともコバルト酸化物を担持した酸化チタンを含む触媒体であって、(1)X線回折測定で少なくともCo_3O_4の回折パターンを示し、かつ(2)前記酸化チタンは酸化チタンのみで可視光線の照射下で光触媒活性を示す揮発性有機物分解用触媒体である。 - 特許庁
  • The size of a crystallite measured by a Hall method from the integration width of each diffraction peak acquired from an X-ray diffraction pattern is larger than 600 Å and less than 800 Å in the cathode active substance for the lithium secondary battery.
    前記正極活物質において、X線回折パタ−ンから得られる各回折ピ−クの積分幅からHall法によって測定した結晶子の大きさが600Åより大きく、800Å未満であることを特徴とするリチウム二次電池用正極活物質である。 - 特許庁
  • On a magnetic recording layer 3 on a substrate 2, a photo- reflective layer 5 is formed and an optical diffraction structure forming layer 7 such as hologram or the like is formed thereon and moreover, a pattern layer 6 of characters and patterns or the like is laminated between the photo diffraction structure forming layer 7 and the photo-reflective layer 5.
    基材2上の磁気記録層3上に、光反射性層5と、その上にホログラム等の光回折構造形成層7を形成し、かつ、光回折構造形成層7と光反射性層5との間に文字や模様等のパターン層6を積層して、課題を解決した。 - 特許庁
  • Resultingly, effects of the diffraction and the interference, and the light limiting element, are used in order to magnifying a speckle size under moving of an image formation device and to reduce fluctuation of the speckle pattern, and the speckle pattern is thereby identified clearly in the image.
    従って、画像形成デバイスの移動中にスペックルサイズを拡大し且つスペックルパターンの変動を減少するために回折と干渉の効果と光制限要素が利用され、それによって、スペックルパターンが、画像中で明瞭に識別されることが出来る。 - 特許庁
  • In an optical system 4 of a laser device 1 including at least one diffraction element 7, dichroic mirrors 8 and 9, and reflection mirrors 10 and 11, a pattern 6' of a guide laser beam 3 is adjusted to a pattern 6 of a processing laser beam 2.
    レーザ装置1の光学系4は、少なくとも1つの回折素子7、二色性ミラー8、9及び反射鏡10、11を含んで構成され、案内用レーザ光線3のパターン6′が加工用レーザ光線2のパターン6に適合される。 - 特許庁
  • A positive electrode active material is a nickel oxyhydroxide compound including zinc and cobalt, alone or in combination, as eutectic, the surface of particles of which compound is coated with a cobalt high-order oxide, and has a half band width of 0.4 to 0.48 at the diffraction peak near a diffraction angle of 18° in the X-ray diffraction pattern, thereby achieving a battery superior in characteristics.
    この発明は、正極材料として、亜鉛及びコバルト単独もしくはこれらを共晶させたオキシ水酸化ニッケル系化合物であって、この粒子の表面がコバルト高次酸化物で被覆され、x線回折パターンにおいて、回折角18°付近の回折ピークの半値幅が0.4〜0.48である正極活物質を用いることによって特性の優れた電池を実現する。 - 特許庁
  • In the X-ray diffraction pattern of the NOx absorbent material a peak due to the (111) face of BaCO3 is present and the intensity ratio (IA/IF) of the intensity IA of the peak after long-term use to the initial intensity IF is 0.2-1.
    そのX線回折パターンには、BaCO_3の(111)面のピークが存在し、このピークの耐久後強度(I_A)と初期強度(I_F)との強度比I_A/I_Fが、0.2〜1である。 - 特許庁
  • The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support.
    Cu−Kα線によるX線回折パターンにおいて、ブラッグ角2θ(±0.3°)9.3,13.4,20.0,23.9,27.4°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。 - 特許庁
  • To prevent noise due to the diffracted light depending on the cell form from overlapping a stereoscopic image (diffracted light) as the display light in a diffraction grating pattern for stereoscopic display.
    立体的な表示を目的とする回折格子パターンにおいて、セル形状に依存する回折光によるノイズが、表示光である立体的な画像(回折光)と重ならないようにする。 - 特許庁
  • Luminous flux from a light source 1 generates a pattern having prescribed intensity through a relay lens 5 on a plane of incidence of a fly's eye lens 6 by a diffraction optical element 4 as a luminous flux conversion means.
    光源1からの光束は,光束変換手段である回折光学素子4により,リレーレンズ5を介してフライアイレンズ6の入射面に所定の強度パターンを発生する。 - 特許庁
  • The polarization controller is desirably results from an arrangement, in which a predetermined polarization pattern is arranged on the front surface of a diffraction optical device or a hologram optical device, such that it has position dependence.
    前記偏光制御器は回折光学装置またはホログラム光学装置の表面に所定の偏光パターンを位置依存性を有するように配置した結果物であることが望ましい。 - 特許庁
  • To provide a pattern reproducing method for manufacturing a reproduction plate with which an optical diffraction structure in which joint parts are hardly viewed is obtained from an original plate without necessitating complicated work.
    本発明は、煩雑な作業を必要とせず、つなぎ目部分を視認しにくい光回折構造を得られる複製版を原版から製造するためのパターン複製方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a diffraction grating which allows a mold pattern to be filled with resin, and which prevents excess resin from forming a burr with a thickness that causes trouble in removing.
    モールドパターンに樹脂を充填できると共に、余剰の樹脂によって除去困難な厚さのバリが形成されることを防止できる回折格子作製方法を提供する。 - 特許庁
  • The shape of the droplet is measured by analyzing the diffraction pattern obtained through these processes, and a change in the shape of the droplet is measured by putting the results of measurement in a time series.
    上記の工程を経て得られた回折パターンを解析することで液滴形状を計測し、計測結果を時系列に並べることで液滴の形状変化を計測する。 - 特許庁
  • (Step 2) The crystal size of t is determined by a following equation from a half value width w of a peak observed when q of a scattering vector is in a range of 5<q<30 nm^-1 on the X-ray diffraction pattern acquired.
    (ステップ2)得られたX線回折図形で、散乱ベクトル:qが、5<q<30nm^-1の範囲に観察されるピークの半値幅:wより次式により結晶サイズ:tを求める。 - 特許庁
  • When an observer continues the observation of the light absorption region 12 while changing the angle to the normal direction of the pattern surface, a color caused by a diffraction phenomenon of light is observed.
    観察者がパターン面の法線に対して角度をつけながら観察していくと、微細凹凸領域11では光の回折現象に起因する色が観察されるようになる。 - 特許庁
  • The flake-like hydrous titanium oxide has such a layer structure that at least one peak of an X-ray diffraction pattern shows 2-4 nm d-spacing of lattice planes.
    X線回折パターンの少なくともひとつのピークが2ないし4nmのd面間隔を示す層状構造を有することを特徴とする薄片状含水酸化チタンを開示する。 - 特許庁
  • <Positions (lattice plane distance d/Å) by the lattice plane distance display of the peaks in the X-ray diffraction pattern>: 12.4±0.8, 10.8±0.5, 9.0±0.3, 6.0±0.3, 3.9±0.3, 3.4±0.1.
    <X線回折パターンにおけるピークの格子面間隔表示による位置(格子面間隔d/Å)>12.4±0.8、10.8±0.5、9.0±0.3、6.0±0.3、3.9±0.3、3.4±0.1 - 特許庁
  • The phase pattern of the diffraction type optical element (DOE) is previously determined in such a manner that the beam power at the lattice point within a certain range is made the same.
    回折型光学素子と集光レンズを用いて一定範囲でパワーを等分配した回折点を形成しデフォーカスすることによって、その範囲でトップハット型の光量分布を得る。 - 特許庁
  • To provide a display body excellent in forgery prevention effect such that diffraction light accompanied by spectral separated light is emitted when being inclined although a white color pattern is recognized from the front.
    正面からは白色パターンが認識されるが、傾けると分光を伴った回折光を射出するようになっていている、偽造防止効果に優れる表示体の提供。 - 特許庁
  • To provide a liquid crystal panel capable of suppressing deterioration of image quality due to diffraction and scattering in a corner part of a light shielding pattern on a TFT substrate and to provide a projection type display apparatus.
    TFT基板上の遮光パターンのコーナー部分における回折及び散乱による画質の劣化を抑制できる液晶パネル及び投射型表示装置を提供する。 - 特許庁
  • In recording information, a reproduction light generated by the diffraction of the recording reference light by the interference pattern formed on the information recording layer is detected by a CCD array 133.
    情報の記録時には、情報記録層に形成された干渉パターンによって記録用参照光が回折されて生じる再生光が、CCDアレイ133によって検出される。 - 特許庁
  • The convex lens is provided with a convex lens body 11 having a diffraction pattern part 20 and a protrusion part 12 which is disposed on the peripheral part 11a of a convex lens body 11 and protrudes in the lens thickness direction.
    回折パターン部20を有する凸レンズ本体11と、前記凸レンズ本体11の周縁部11aに設けられ、レンズ厚さ方向へ突出する突出部12を設ける。 - 特許庁
  • The Ni-W-S alloy film 2 preferably has a finely uneven surface, and has an amorphous or microcrystalline X-ray diffraction pattern.
    このとき、Ni−W−S合金膜2の表面が微細凹凸面になっていることが好ましく、そのX線回折パターンがアモルファス状又は微結晶状であることが好ましい。 - 特許庁
  • The diffraction optical element 8 reflects the incident laser beam 9 by minute ruggedness formed on its surface so as to project many bright spots (pattern image) in a grid shape on the surface of the subject.
    回折光学素子8は、表面に形成された微小な凹凸により入射されたレーザ光9を反射し、被写体の表面に多数の輝点(パターン像)を格子状に映し出す。 - 特許庁
  • To accurately control a width distribution of ultraviolet rays radiated in a line to an irradiation object, in a structure in which a diffraction grating pattern is formed on each side of a diffractive optical element.
    回折光学素子の両面に回折格子パターンが形成された構造で、照射対象にライン状に照射される紫外線の幅方向の配光を精度よく制御する。 - 特許庁
  • The zirconia sintered compact is characterized in that the half-value width of a peak of (111)plane of the tetragonal system in the X-ray diffraction pattern by CuKα ray is 0.38-10°.
    CuKα線によるX線回折パターンにおける正方晶の(111)面のピークの半値幅が0.38度以上10度以下であることを特徴とするジルコニア焼結体。 - 特許庁
  • To provide a new form of 1,4-diketo-3,6-di(4'-tert-butylphenyl)-2,5- dihydropyrrolo[3,4-c]pyrrole pigment having a distinguished color property and a distinguished X-ray diffraction pattern.
    際立った色特性及びX線回折図形を有する新規形態の1,4−ジケト−3,6−ジ(4′−tert-ブチルフェニル)−2,5−ジヒドロピロロ〔3,4−c〕ピロール顔料を提供すること。 - 特許庁
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