「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 13 14 次へ＞- A DOE (diffraction optical element) 62a made of a binary concavo-convex pattern is formed at the end face on the LED arrangement side of the light guide plate 62.
導光板６２のＬＥＤ配置側の端面には、２値の凹凸パターンからなるＤＯＥ（回折光学素子）６２ａが形成されている。 - 特許庁 - This insert contains, in addition, W_2C in an amount such that in the X-ray diffraction pattern the peak ratio W_2C(101)/W(110) is ∠ 0.3.
このインサートは、他にＷ_2Ｃを含み、Ｘ線回折パターンにおいてピーク比Ｗ_2Ｃ（１０１）／Ｗ（１１０）が０．３未満になる量である。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern with high precision, in which diffraction of exposure light, light reflection between a surface and a mask, and light scattering on the surface are suppressed.
露光光の回折、表面−マスク間反射、表面散乱を抑制することで、高精細なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - X-ray diffraction pattern (lattice plane spacing d/Å): 13.2±0.6, 12.3±0.3, 9.0±0.3, 6.8±0.3, 3.9±0.2, 3.5±0.1, and 3.4±0.1.
Ｘ線回折パターン格子面間隔ｄ／Å（オングストローム）１３．２±０．６１２．３±０．３９．０±０．３６．８±０．３３．９±０．２３．５±０．１３．４±０．１ - 特許庁 - Calibration work is executed accurately and surely because the direction of the diffraction grating pattern is able to be surely determined to attach the chip onto a sample table.
回折格子パターン方向を確実に判定してチップを試料台に取り付けることができるので、校正作業が正確・確実に行える。 - 特許庁 - Then, the metallic mask pattern 8 is removed (g), followed by overcoating on the rugged gratings of the double refracting film 3 (h), and dicing to individual polarizing diffraction elements (i).
金属マスクパターン８を除去し（ｇ）、複屈折膜３の凹凸格子上にオーバーコートし（ｈ）、個々の偏光回折素子にダイシングする（ｉ）。 - 特許庁 - To provide a diffraction optical element with high reproducibility of the dimension and the shape of its pattern and with reduced difference in the optical characteristics between itself and the substrate.
パターンの寸法及び形状の再現性が高く、基板との光学特性の相違が低減された光学回折素子を提供する。 - 特許庁 - And then, a periodically irregular diffraction grating is formed by etching the surface of the organic birefringent film 101 by using the mask pattern 107.
次に、マスクパターン１０７を用いて有機複屈折膜１０１の表面をエッチングして周期的な凹凸による回折格子を形成する。 - 特許庁 - To provide a technique of transferring a diffraction structure in an optional pattern by printing an ultraviolet curing adhesive by an inkjet system.
インクジェット方式にて紫外線硬化型接着剤を印刷することにより、回折構造体を任意のパターンで転写する技術を提供する。 - 特許庁 - For further magnification of the image or diffraction pattern, the viewing screen in a two-lens system is replaced with subsequent intermediate and projector lenses.
像または回折図形のさらなる拡大のためには、2レンズ系の観察スクリーンは、その後に続く中間および投影レンズに置き替えられる。 - 科学技術論文動詞集 - To provide a method for manufacturing a double-sided photomask having a diffraction optical element pattern formed on a transparent substrate, which is capable of obtaining desired optical characteristics by accurately recognizing the etched state of the transparent substrate to form the diffraction optical element pattern with precise etching depth and pattern dimensions, and to provide the double-sided photomask.
透明基板に回折光学素子パターンが形成されている両面フォトマスクの作製方法において、透明基板のエッチング状態を正確に把握して、回折光学素子パターンのエッチング深さおよびパターン寸法を高精度に形成し、所望の光学特性を得ることが可能な両面フォトマスクの作製方法および両面フォトマスクを提供する。 - 特許庁 - A plateau area of a distribution pattern of a power density in a diffracted image on the photocathode is larger than that of a distribution pattern of a power density in a cross section of the laser beam before entering the optical diffraction element.
フォトカソードの表面上における回折像のパワー密度分布の頂部の平坦な部分が、回折光学素子入射前のレーザビームのビーム断面内におけるパワー密度分布のそれより広い。 - 特許庁 - To provided a patterning method and a pattern generation program which can generate a wiring pattern of a conductive film which can solve the problems of spreading of diffraction image, disconnection, and visibility of wiring.
回折像の広がり、断線、配線視認性の問題を解消することができる導電性フイルムの配線パターンを生成することができるパターン生成方法及びパターン生成プログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium where an arbitrary dot pattern such as a character pattern is recorded by simple structure and reproduced as a diffraction image through irradiation with monochromatic light and a recording device for the optical recording medium.
文字パターン等の任意のドットパターンを簡潔な構成で記録し、単色光の照射に応じて回折像として再生する光記録媒体、光記録媒体の記録装置を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor region 13 is etched, by using the mask 31 and periodic structures 42a-42g for the diffraction grating corresponding to the first pattern and a monitor structure 44, corresponding to the second pattern are formed.
マスク３１を用いて半導体領域１３をエッチングして、第１のパターンに対応する回折格子用の周期構造４２ａ〜４２ｇと第２のパターンに対応するモニタ構造物４４とを形成する。 - 特許庁 - A subset of the target pattern is selected so as to cover all possible diffraction signature groups so that the subset of the target pattern shows at least a part of a design layout for a lithography process.
ターゲットパターンの部分集合がリソグラフィプロセスのための設計レイアウトの少なくとも一部を表すように、可能な回折シグネチャグループすべてをカバーするようにターゲットパターンの部分集合が選択される。 - 特許庁 - The total of the thickness of the ultraviolet curing resin layer having a diffusion pattern formed thereon and the thickness of the ultraviolet curing resin layer having the diffraction grating pattern is smaller than the thickness of the transparent resin film.
拡散パターンが成形された紫外線硬化樹脂層の厚さと、回折格子パターンが成形された紫外線硬化樹脂層の厚さの合計が、透明樹脂フィルムの厚さより小さいこと。 - 特許庁 - Only the zero order light of a Fourier conversion image (light diffraction pattern) obtained from a phase object placed in a wide measurement visual field, configured by a Fourier conversion lens set in a coherence parallel laser luminous flux is used as a phase difference reference light different from high order diffraction light, and a sharp phase difference image is obtained by causing it to interfere with a phase object image obtained by a high order light diffraction pattern.
可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。 - 特許庁 - This optical diffraction structure has an optical diffraction structure 3 formed of an uneven relief pattern, and the optical diffraction structure 3 is formed on a layer surface of a transparent medium 1 which has refractive index anisotropy and a layer of an isotropic transparent medium 2 having a refractive index nearly equal to the refractive index of the transparent medium 1 in a specified direction is provided on the optical diffraction structure 3.
凹凸レリーフパターンからなる光回折構造３を有する光回折構造体において、光回折構造３は屈折率異方性を有する透明媒体１の層表面に形成され、その透明媒体１の特定方向の屈折率と略等しい屈折率を持つ等方性の透明媒体２の層が光回折構造３上に設けられてなる光回折構造体。 - 特許庁 - To provide a new method for producing such an alkaline earth thioaluminate-based fluorescent compound that only the diffraction pattern of a perfect alkaline earth thioaluminate compound is detected and no other substances' diffraction patterns are recognized in the X-ray diffractometry.
Ｘ線回折分析において完全なアルカリ土類チオアルミネート化合物の回折パターンのみ検出され、他の物質の回折パターンが認められないアルカリ土類チオアルミネート系蛍光体化合物の新規な製造法を提供する。 - 特許庁 - On the other hand, second patterns 5, 6 of the diffraction optical element are disposed on the parts which are respectively irradiated with +1st diffracted light beams and -1st diffracted light beams which are diffracted by the first pattern 4 of the diffraction optical elements on the main surface 3 of the substrate 1.
一方、基板１の主面３の、当該第１の回折光学素子パタン４で回折した＋１次回折光、−１次回折光がそれぞれ照射する部分に第２の回折光学素子パタン５，６を設ける。 - 特許庁 - Two diffraction gratings are arranged in an optical path in series and at a designated interval with a wafer etc., constituting the electronic device, and the wafer etc., is exposed to a light-dark pattern of interference fringes formed by the diffraction gratings.
２つの回折格子を光路中に直列に、かつ電子デバイスを構成するウエハ等と２つの回折格子とが所定の間隔を持って配置し、回折格子により生じた干渉縞の明暗パターンを、ウエハ等に露光する。 - 特許庁 - The mold for producing the optical element is constituted inclusive of the core 38 having a diffraction lattice forming portion 37 wherein the predetermined uneven pattern molding the diffraction lattice of the optical element is formed on one surface of a substrate.
また、光学素子１０の回折格子１７を成形する所定の凹凸パターンが、基板５１の一面に形成された回折格子形成部３７を有して成る入子３８を含んで光学素子製造用金型２０を構成する。 - 特許庁 - The Al electrode layer 4 is an oriented film grown by epitaxial growth and is also a polycrystalline thin film having a twin structure in which a diffraction pattern observed in an X-ray diffraction pole figure has a plurality of symmetry centers.
Ａｌ電極層４は、エピタキシャル成長した配向膜であり、かつＸ線回折極点図において観察される回折パターンが複数の対称中心を有する双晶構造を持つ多結晶薄膜となるようにされる。 - 特許庁 - Then, detection results obtained by the line sensors 6, 8 are computed and the influence of the diffraction light from the pattern is eliminated for judging the presence of the foreign object.
そして、ラインセンサ６および８より得た検出結果を演算し、パターンからの回折光の影響を除去して異物の存在を判定する。 - 特許庁 - In addition, the coefficient of variation of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is set at 40% or lower.
そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の変動係数を４０％以下とする。 - 特許庁 - To realize a highly accurate and reliable outward appearance inspection by eliminating variable density nonuniformity due to light diffraction generated in a repeating pattern part.
繰り返しパターン部で発生する光の回折による濃淡ムラによる影響を無くして、高精度で信頼性の高い外観検査を実現する。 - 特許庁 - In this period measuring method, a photoresist film 10a is formed on a semiconductor substrate 10 on which the diffraction grating is formed, and an interference pattern is formed by exposing it by a two-luminous flux interference exposure method.
回折格子が形成された半導体基板１０上にフォトレジスト膜１０ａを形成し、二光束干渉露光法で干渉パターンを露光する。 - 特許庁 - An inspection film 10 is irradiated with a laser beam from a laser 11, and Fourier transform is executed by a lens 13, and a Fraunhofer diffraction pattern is obtained on a screen 14.
被検査フィルム１０には、レーザ１１からのレーザビームが照射され、レンズ１３でフーリエ変換されて、スクリーン１４にはFraunhofer回析パターンが得られる。 - 特許庁 - Related to the coat 12, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.
皮膜１２は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁 - The diffraction grating pattern 100 diffracts the light made incident toward the black matrix 009 on the way and deflects the diffracted light to the opening part of each pixel 002.
回折格子パターン１００は、ブラックマトリクス００９に向かって入射した光を途中で回折して各画素００２の開口部に偏向する。 - 特許庁 - Related to silicon carbide, A/B is 1 or higher for an X-ray diffraction pattern, where A is a peak intensity on (111) surface while B is a peak intensity on (220) surface.
かつ，炭化珪素体は，Ｘ線回折パターンにおける，（１１１）面のピーク強度をＡ，（２２０）面のピーク強度をＢとした場合，Ａ／Ｂが１以上である。 - 特許庁 - To provide a molding die of an optical element having a mark serving as measurement reference capable of correct shape evaluation of a stepped diffraction pattern.
階段状となる回折パターンの形状評価を正確に行うことができる測定基準としてのマークを有する光学素子の成形金型を提供する。 - 特許庁 - A shape of the chip is made anisotropic, or a ruled line and a mark are formed on the chip, so as to decide the direction of the diffraction grating pattern direction by an appearance of the chip.
チップの外観によって回折格子パターン方向が判定できるように、チップの形状を異方性にしたり、罫書きやマークをチップに形成した。 - 特許庁 - To appropriately define coordinates of respective spots in a nano electron beam diffraction pattern to calculate a lattice plane distance with sufficient accuracy.
本発明の課題は、ナノ電子線回折パタンにおける各スポットの座標を適切に定義し、格子面距離を精度良く算出することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a card authenticity discriminating device capable of objectively discriminating the authenticity of the card having a hologram where an image based on a diffraction pattern is formed.
回折パターンに基づく画像が形成されたホログラムを有するカードの真贋を客観的に判定することのできるカードの真贋判定装置を提供する。 - 特許庁 - Zirconium hydroxide having an X-ray diffraction pattern exhibiting amorphous characteristics and a BET specific surface area of 250 m^2/g or more is prepared.
水酸化ジルコニウムを、Ｘ線回折パターンが非晶質の特徴を示し、かつ２５０ｍ^２／ｇ以上のＢＥＴ表面積を有するものとする。 - 特許庁 - The graphite powder having a spacing of (002) planes in c axis determined by a lattice constant precision measuring method from X-ray diffraction pattern of 3.368 Å or less is preferably used.
黒鉛粉末は、Ｘ線回折図から格子定数精密測定法で求めたｃ軸(002) 面格子間隔の値が3.368 Å以下であるのが好ましい。 - 特許庁 - The center spot alone can be shielded from light, which realizes a high degree of diffraction pattern of high precision.
目的の回折像を遮光することなく、中心スポットのみを遮光できるように作用するので、高次レベルの回折像を高精度で得ることができる。 - 特許庁 - Besides, it is also possible to adjust the light quantity of a diffraction pattern by the usual diffracted light beam 1b to reproduce information by the dummy diffracted light beam 1c.
また、ダミーの回折光１ｃにより、情報を再生する通常の回折光１ｂによる回折像の光量調整を行うことも可能である。 - 特許庁 - An approximate expression acquired by approximating an amount-of-light distribution pattern by Fresnel diffraction is filtered through the use of the spatial filter to determine a filtered approximate expression.
またフレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式を上記空間フィルタを用いてフィルタリングしてフィルタリング近似式を求める。 - 特許庁 - To provide illuminating optical equipment which can substantially reduce a speckle pattern occurrences caused by diffraction optical element used for, for example, transformed illumination.
たとえば変形照明に際して用いられる回折光学素子に起因して発生するスペックルパターンを実質的に低減することのできる照明光学装置。 - 特許庁 - Especially, the sum total of the absolute value of the difference of the light quantity between the normalized output from the line sensor and the approximate expression of the Fresnel diffraction pattern is calculated as the correlation value.
特にラインセンサの正規化出力とフレネル回折パターンの近似式との光量の差の絶対値の総和を相関値として計算する。 - 特許庁 - To radiate a spot-like ultraviolet rays to an irradiation object, in a structure in which a diffraction grating pattern is formed on each side of a diffractive optical element.
回折光学素子の両面に回折格子パターンが形成された構造で、照射対象にスポット状の紫外線を照射対象に照射する。 - 特許庁 - Furthermore, a predetermined color and a predetermined pattern are given in the information support layer 11 in correspondence with the arrangement of the diffraction grating elements 13 that keep confidential information.
更に、秘匿情報を保持する回折格子要素１３の配置に対応して、情報支持層１１に所定の色及び所定の柄を配している。 - 特許庁 - A microlens array or a diffraction optical element inputs light from a light source, and outputs an intensity pattern having a flat top with a divergent light stripe.
マイクロレンズアレイ又は回折光学素子が光源からの光を入力すると共に、発散光ストライプで頂部が平坦な強度パターンを出力する。 - 特許庁 - To provide a Fourier iterative phase retrieval method which can reconstruct a real image close to an original image even for an incomplete diffraction pattern including noise or the like.
ノイズなどを含む不完全な回折パターンに対しても、オリジナルに近い実像を再構成することができる、フーリエ反復位相回復法を提供する。 - 特許庁 - To easily acquire the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a short time.
不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を短時間で容易に取得することを実現する。 - 特許庁 - Moreover, a resist film 44 is formed on the pattern again in the same way as (c), and an eight step reflection type diffraction optics is formed by repeating the same processes.
又、再度(c)と同様にパターン上にレジスト膜４４を形成し(h)、同様の工程を繰り返すことにより、８段の反射型回折光学素子を作成する。 - 特許庁 - The center and the direction of the disk 1 can be detected by irradiating this diffraction grating pattern with detection light and detecting the diffracted light.
この回折格子パターン２０に検出光を照射して回折光を検出することにより、ディスク１の中心と方向を検出することができる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Copyright(C)1996-2026 JEOL Ltd., All Rights Reserved.
