「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 次へ＞- To provide a multi-layer structure and minute structure plotting method in which a pit pattern of diffraction limit or less can be formed using a laser beam.
レーザー光を用いて回折限界以下のピットパターンを形成できる多層構造体及び微細描画方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The polymorphic crystals of donepezil hydrochloride (I)-(IV) and (V) expressed by chemical formula (A) characterized in a powder X-ray diffraction pattern and an infrared absorption spectrum are provided.
粉末Ｘ線回折パターンおよび赤外吸収スペクトルにおいて特徴付けられる、下記化学式で表される塩酸ドネペジルの多形結晶(I)〜(IV)と(V)。 - 特許庁 - The product information management system utilizes the recording and hidden pattern of the non-contact IC tag of the optical diffraction IC tag display body.
本発明の製品情報管理システムは、上記のような光回折ＩＣタグ表示体の非接触ＩＣタグの記録と隠しパターンを利用するシステムに関する。 - 特許庁 - The interference fringe and the diffraction grating pattern are plotted by an electron beam lithographing device based on an image data generated by calculation by a computer.
干渉縞や回折格子パターンは、コンピュータによる演算に基いて生成された画像データに基き、電子線描画装置によって描画される。 - 特許庁 - Such a magnesium-alloy sheet as has a highest proportion between the peak of the (111) face and its equivalent peak in the X-ray diffraction pattern is used.
Ｘ線回折パターンにおける（１１０）面のピーク及びこれと等価なピークの比率が最も高くなるようなマグネシウム合金薄板を用いる。 - 特許庁 - Here, a perfect crystal means a parallel-sided slab of defect-free crystalline material, which produces an ideal point diffraction pattern when illuminated by a plane wave.
ここで、「完全結晶」とは欠陥がない結晶性の平行平板を意味し、これは平面波で照らされるとき理想的な「点状の」回折図形を作る。 - 科学技術論文動詞集 - In the diffraction pattern from a very large, simple cubic crystal, we deduce that thickness of thin plates is approximately 5 lattice spacings.
非常に大きな単純立方晶系の結晶からの回折図形で、われわれは、薄いプレート(平板)の厚さが約5格子間隔であると推論する。 - 科学技術論文動詞集 - In the diffraction pattern, strong precipitate reflections are visible and this accounts for the dark precipitate contrast in the bright-field image.
その回折図形には析出物による強い反射が見られ、そして、これが明視野像での暗い析出物によるコントラストを説明する(コントラストの原因である)。 - 科学技術論文動詞集 - The diffraction grating 2 is arranged on the diffusion optical path of laser beams, among optical paths for guiding laser beams emitted from a semiconductor laser 1 to an objective lens 6, and an effective diffraction pattern 15 is formed only on the center part of the diffraction grating 2 which has a diameter smaller than the effective beam diameter of a laser beam.
半導体レーザー１から出射されるレーザービームを対物レンズ６に導く光路のうち、レーザービームの拡散光路上に回折格子２を配置すると共に、この回折格子２にレーザービームのビーム有効径に対して小径の中央部分に限定して有効回折パターン１５を形成している。 - 特許庁 - This method is characterized by manufacturing a diffraction grating with a shape of a rugged pattern in which at least corner parts continue in a curved line by a polishing process using a polisher 5 from a diffraction grating surface 2 consisting of the rectangular rugged pattern shape of a low pass filter 1 as a raw material.
本発明の回折格子製造方法は、素材であるローパスフィルタ１の矩形形状の凹凸パターン形状からなる回折格子面２から、少なくともコーナ部が曲線で連なる凹凸パターン形状の回折格子を、ポリシャ５を使用したポリシング研磨加工により作製することを特徴とするものである。 - 特許庁 - The light source part 110 has: a plurality of first light emitting parts which emit light for forming a first interference pattern by being diffracted by the diffraction grating 210; and a plurality of second light emitting parts which emit light for forming a second interference pattern by being diffracted by the diffraction grating.
光源部１１０は、回折格子２１０により回折されることで第１の干渉パターンを形成する光を出射する複数の第１の光出射部と、回折格子により回折されることで第２の干渉パターンを形成する光を出射する複数の第２の光出射部と、を有する。 - 特許庁 - To provide an object to be transferred which is made by laminating an optical diffraction pattern layer and an acceptance layer capable of accepting a dye image orderly on a base material, and which can avoid an influence of a decrease of adhesion between the base material and the optical diffraction pattern layer when the object to be transferred is exposed to a high temperature when transferring the dye image using a sublimation transfer sheet.
基材上に、光回折パターン層、および染料画像を受容し得る受容層が順に積層されたものが、昇華転写シートを用いて転写する際に、高温にさらされて、基材と光回折パターン層との間の接着性低下による影響を回避することを課題とする。 - 特許庁 - By laminating holograms having different diffusing characteristic such as the hologram diffusing body for controlling an illumination pattern and the diffraction grating for controlling scattering intensity in the illumination pattern, the diffuse reflection plate having such scattering characteristic that the illumination pattern exists in scattered light and the scattering intensity is uniform in the pattern is obtained.
照明パターンの制御をするホログラム拡散体や照明パターン内の散乱強度を制御する回折格子など異なる拡散特性を持つホログラムを積層することにより、散乱光に照明パターンがありかつパターン内で散乱強度が一様となるような散乱特性を持つ拡散反射板が得られる。 - 特許庁 - To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.
第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁 - When data is recorded at high density while a fundamental harmonic frequency of a shortest wavelength pattern of encoded data recorded in a user data area equal to or more than an optical diffraction limit in an optical disk recording and playback system, a preamble pattern and a postamble pattern are set so that all of them have fundamental harmonic frequencies within the optical diffraction limit.
ユーザデータ領域に記録される符号化データの最短波長パターンの基本調波周波数が、光ディスク記録再生系における光学的回折限界以上になる状態でデータ記録が行われる高密度記録を実行する場合に、プリアンブルパターン及びポストアンブルパターンについては、そのすべてが光学的回折限界未満の基本調波周波数を持つことになるパターンとする。 - 特許庁 - To provide a diffraction grating pattern in which a smooth profile line regulating the outline of the pattern can be formed approximately to the objective profile line without significantly increasing the manufacturing time and work and which shows no decrease in the chroma.
作製時間と労力の大幅な増大を招くことなく、目標とする輪郭線に近似させて、外形を規定する輪郭線が滑らかであり、彩度が低下しない回折格子パターンを提供する。 - 特許庁 - An ultraviolet curing resin layer 2 having a diffusion pattern formed thereon is provided on one surface of a transparent resin film 3 and an ultraviolet curing resin layer 4 having a diffraction grating pattern formed thereon is provided on the other surface.
透明樹脂フィルム３の一方の面に拡散パターンが成形された紫外線硬化樹脂層２が設けられ、他方の面に回折格子パターンが成形された紫外線硬化樹脂層４が設けられたこと。 - 特許庁 - When the hologram is reproduced, the original signal light can be restored by compensating the removed DC component to the reproduced diffraction light, the original signal light pattern (digital pattern) can be reproduced from the recorded hologram.
ホログラムの再生時に、再生された回折光に除去された直流成分を補うことで、元の信号光を復元することができ、記録されたホログラムから元の信号光パターン（デジタルパターン）を再生することができる。 - 特許庁 - The polarization direction of the illumination beam is aligned with a polarizing conversion optical system 20 in a direction parallel to an edge 1a of the mask pattern 1A, so that the slopes caused by the diffraction of the diffraction images formed on the exposure object substrate 2 are made sharper.
また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 - 特許庁 - To provide a technique for obtaining a diffraction optical element for which manufacturing processes of relief structure and a pattern electrode, etc. are unnecessary, which operates without imparting voltage, having large diffraction efficiency and with which deviation, condensing and polarization split effects are obtained and its element.
レリーフ構造やパターン電極などの作製工程が不要で、電圧を印加することなしに動作し、大きな回折効率を有する偏向、集光及び偏光分離効果が得られる回折光学素子を得る手法及びその素子を提供する。 - 特許庁 - Plane shape is measured based on the fringes being formed through interference of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face 7a of the diffraction optical element and a measuring light comprising the light reflected from the plane 8 to be inspected.
回折光学素子の回折パターン面（７ａ）での反射０次回折光からなる参照光と被検面（８）での反射光からなる測定光との干渉によって形成される干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する。 - 特許庁 - The carbon electrode includes carbon powder having a wood tar as a raw material and a diffraction line near 2θ=26° and 2θ=44° in a powder X-ray diffraction pattern using CuK_α for a line source as a claim 1.
本発明の炭素電極は、請求項１として、木タールを原料とし、線源にＣｕＫαを用いた粉末Ｘ線回折パターンにおいて、２θ＝２６°付近と２θ＝４４°付近に回折線を有する炭素粉末を含有することを特徴とする。 - 特許庁 - In the diffraction element 1 for diffracting incident light, a plurality of first and second phase difference regions 10 and 20 for diffracting incident light are alternately arranged to form a diffraction pattern on a transparent substrate 30.
入射光を回折させるための回折素子１には、透明基板３０上に、入射光を回折させるための第１の位相差領域１０と第２の位相差領域２０とが交互に複数配列されて回折パターンが形成されている。 - 特許庁 - Diffraction lines attributed to metallic Si and Si compound cannot be detected in the texture structure by the pattern analysis by X-ray diffraction method and granular texture is unrecognizable by the observation with a transmission electron microscope(TEM).
また、その組織構造は、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁 - Coincidence between a calculated pattern and a measured pattern is calculated quantitatively (step S19) by using at least one factor among (1) the number of diffraction points as a crystallographic pattern, (2) a face interval ratio as a geometric condition, (3) an angle between faces, (4) a camera constant, and (5) an average error of an angle between photographs.
計算パターンと前記実測パターンの一致度を、結晶学的条件として▲１▼回折点数、幾何学的条件として▲２▼面間隔比、▲３▼面間角度、▲４▼カメラ定数、及び▲５▼写真間角度の平均誤差のうち、少なくとも一つの因子を用いて定量的に計算する（ステップＳ１９）。 - 特許庁 - Diffraction light generated by an index diffraction grating 13 is made to reinterfere with a moving diffraction grating 15; an interference pattern (periodic light intensity distribution) of the interference light is allowed to vibrate by rotational vibration of a modulation mirror 16; phase modulation of the periodic light intensity distribution is performed, and then the modulated signal is detected by a light receiving part 17.
インデックス回折格子１３で発生した回折光を、移動回折格子１５で再干渉させ、その干渉光の干渉縞（周期的な光強度分布）を変調ミラー１６の回転振動で振動させ、その周期的な光強度分布の位相変調したうえで、受光部１７でその変調信号を検出する。 - 特許庁 - In this optical diffraction IC tag display body 1 having the non-contact IC tag 3 formed on one side surface of a base material sheet and an optical diffraction structure 2 formed on the other side surface thereof, the hidden pattern developed by a discrimination device and enabling discrimination is recorded in the optical diffraction structure 2.
本発明の光回折ＩＣタグ表示体１は、基材シートの一方側面に、非接触ＩＣタグ３が形成され、他方側面には光回折構造体２が形成されている光回折ＩＣタグ表示体において、前記光回折構造体２には判別具により出現し判別可能となる隠しパターンが記録されていることを特徴とする。 - 特許庁 - At least one of the inward member 41, the outward member 43 and the rolling element 42 is made of the titanium material having the new phase 22 that a diffraction spot is present at a position deviating from that on a virtual line connecting together almost the centers of diffraction spots of adjacent parent phases on an electron diffraction pattern obtained by electron microscopy.
そして、内方部材４１、外方部材４３及び転動体４２のうちの少なくとも１つが、電子顕微鏡法によって得られた電子回折図形上で、隣り合う母相の回折斑点の略中心を結ぶ仮想線上から逸れた位置に回折斑点が存在する新相２２を有するチタン材料から成っている。 - 特許庁 - The RHx compound (R represents one metal element in rare earth elements, H is hydrogen and (x) is 2 or around 2) has an FCC (face-centered cubic) structure and a crystalline structure showing high diffraction intensity on the (311) plane than the diffraction intensity on the (111) plane by X-ray diffraction pattern analysis.
本発明のＲＨｘ（Ｒは希土類元素のうちのいずれか一の金属元素。Ｈは水素元素。ｘは２又はその近傍。）化合物は、ＦＣＣ構造を有し、かつ、Ｘ線回折パターン結果において（１１１）面の回折強度よりも（３１１）面の回折強度のほうが大きい結晶構造を有することを特徴とするものである。 - 特許庁 - In this method for forming the diffraction optical element by transferring a mask pattern to a work, the vertical form of the diffraction optical element is formed by using a first mask and the slope part of the diffraction optical element is formed by using a second mask in the working region defined by the first mask.
マスクパターンを被加工物に転写して回折光学素子を形成する回折光学素子の製造方法において、前記回折光学素子の垂直部分の形状を、第一のマスクを用いて形成すると共に、前記回折光学素子の斜面部分の形状を、前記第一のマスクで規定された加工領域内に第二のマスクを用いて形成する。 - 特許庁 - The genuineness authentication medium is provided with a visual authentication part 11 having an image recorded so as to be reproducible with visible light by a diffraction structure including a hologram or a diffraction grating and an authentication code part 12 constituting an authentication code by arranging unit images, which are formed in a visually unrecognizable size and formed with the diffraction structure, in a prescribed pattern.
ホログラム又は回折格子を含む回折構造によって、可視光により再生可能に記録された画像を有する目視認証部１１と、目視による認識が不能な大きさに形成され、前記回折構造により形成される単位画像を、所定のパターンに配置して認証コードを構成する認証コード部１２とを備えた。 - 特許庁 - As for the diffraction grating 6, the liquid crystal panel is not used, but the material which performs transmitting or light shielding according to the plane of polarization is used as the grating pattern and, therefore, electrode and the like are not required.
回折格子６は液晶パネルではなく、格子パターンに偏光面に応じて透過・遮光する素材を用いており、電極などを必要としない。 - 特許庁 - A focusing position of the laser beam is moved so that a range of a changed refractive index caused by the multiphoton absorption can provide for a diffraction pattern causing a visible light to diffract.
多光子吸収によって屈折率の変化した領域が、可視光を回折させる回折パターンを構成するようにレーザ光の収束位置を移動させる。 - 特許庁 - A diffractive optical element (DOE) is mounted in the package to receive and diffract the radiation from the radiation source into a predefined pattern comprising multiple diffraction orders.
回折光学素子（ＤＯＥ）が、前記放射源からの放射を受け取り、そして多重の回折次元を有する既定のパターンに回折するため、前記パッケージ内に載置される。 - 特許庁 - To provide a substrate inspection device and a mask inspection device hardly affected by disturbances such as diffraction light and diffuse light and capable of sufficiently coping with miniaturization of a pattern.
回折光や散乱光等の外乱による影響を受けにくく、パターンの微細化に十分対応できる基板検査装置及びマスク検査装置を実現する。 - 特許庁 - Moreover, the distribution of the first peak intensity showing the maximum intensity in an X-ray diffraction pattern inside a stimulable phosphor layer face is isotropic from the center of the support 11.
そして、輝尽性蛍光体層面内のＸ線回折パターンにおいて最大強度を示す第１ピーク強度の分布が支持体中心から等方的である。 - 特許庁 - The diffraction pattern layer 20E and the cover layer 20D are successively formed by a UV replica method, in the order of higher glass transition point Tg of the UV-curing resin to be used.
そして、使用されるＵＶ硬化樹脂のガラス転移点Ｔｇが高い順にＵＶレプリカ法によって回折パターン層２０Ｅ及びカバー層２０Ｄを設けるようにした。 - 特許庁 - The diffractive element is produced by forming a cover layer 20D and a diffraction pattern layer 20E on an upper face 20Ca and a lower face 20c, respectively, of a base layer 20C comprising an injection molded product.
本発明は、射出成型品でなるベース層２０Ｃの上面２０Ｃａ及び下面２０Ｃｂにカバー層２０Ｄ及び回折パターン層２０Ｅがそれぞれ形成される。 - 特許庁 - A conversion difference D1 is calculated which indicates a difference between a measured value of a width W3 of a pattern 45a of a mask layer 45 formed on a diffraction grating layer 41 and a design value of the width.
回折格子層４１の上に形成されたマスク層４５のパターン４５ａの幅Ｗ３の測定値とその設計値との差を示す変換差Ｄ１を算出する。 - 特許庁 - The diffraction optical element has stepped parts of which the cross section has a stepped pattern and a plurality of flat face parts which are adjacent to the stepped part and generate power.
本発明の回折光学素子は、断面が階段状のパターンをなす段差部と、該段差部と隣接してパワーを発生させる複数の平面部を有している。 - 特許庁 - Because of this, the diffraction beams 9a and 9b outgoing from the grating 6 form an interference fringe pattern 10 comprising light-and-dark patterns arranged in the y-direction on a detection part 7.
そのため、格子６を出射した回折光９ａ，９ｂは、ｙ方向に明暗パターンが並んだ干渉縞パターン１０を検出部７上に形成する。 - 特許庁 - A direction where the interference fringe pattern appears (the grating alignment direction of the diffraction grating) nearly coincides with the linear alignment direction of a photodetector means 61.
この干渉縞パターンの現れる方向（回折格子の格子配列方向）と受光素子手段６１の直線状の配列方向とがほぼ一致するようになっている。 - 特許庁 - The IItype crystal of (±) 2-(dimethylamino)-1-{[O-(m-methoxyphenethyl)phenoxy]methyl}ethyl hydrogen succinate hydrochloride that can be characterized by the specific pattern in the powdery X ray diffraction peak shown by Figure.
粉末Ｘ線回折スペクトルが図１に示すパターンを有する、（±）２−（ジメチルアミノ）−１−{〔Ｏ−（ｍ−メトキシフェネチル）フェノキシ〕メチル} エチル 水素サクシナート塩酸塩のII形結晶。 - 特許庁 - The I type crystal of (±) 2-(dimethylamino)-1-{[O-(m-methoxyphenethyl)phenoxy]methyl}ethyl hydrogen succinate hydrochloride that can be characterized by having the pattern shown in Figure in the powdery X ray diffraction peak.
粉末Ｘ線回折スペクトルが図２に示すパターンを有する、（±）２−（ジメチルアミノ）−１−{〔Ｏ−（ｍ−メトキシフェネチル）フェノキシ〕メチル} エチル 水素サクシナート塩酸塩のＩ形結晶。 - 特許庁 - The catalyst component for olefin polymerization comprises a laminar ion-exchangable silicate having a peak at a 2θ of 61.70° to 61.97° in the X-ray diffraction pattern.
Ｘ線回折において、２θ＝６１．７０°〜２θ＝６１．９７°にピークを有するイオン交換性層状珪酸塩からなることを特徴とするオレフィン重合用触媒成分。 - 特許庁 - A photoresist diffraction grating pattern 21 is manufactured according to a holographic exposure method by two beam interference on a substrate made by forming a photoresist layer 2 on the surface of a substrate 1.
基板１の表面に、フォトレジスト層２を形成した基板１１に、２光束干渉によるホログラフィック露光法で、フォトレジスト回折格子パターン２１を作製した。 - 特許庁 - To remove air bubbles from a diffraction optical device consisting of two or more kinds of optical materials and having a relief pattern on the interface and to prevent generation of color irregularity or flare.
２以上の光学材料からなり、境界面にレリーフパターンを有している回折光学素子から気泡を除去して、色むらやフレアの発生を防止する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing optical element capable of proper alignment in marking a pattern of a diffraction grating by means of an electron beam lithographic device.
電子ビーム露光装置を用いて回折格子のためのパターンを描画する際に良好なアライメントが可能になる半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁 - A pixel pattern having a diffraction grating formed by arranging grating lines directed at the azimuth angle θ to an X axis is allocated to a pixel positioned at the reference point P.
基準点Ｐに位置する画素には、Ｘ軸に対して方位角θをなす方向を向いた格子線を配置してなる回折格子を有する画素パターンを割り付ける。 - 特許庁 - To provide an image display body and information medium that have a visual effect different from a conventional diffraction lattice pattern and achieve higher forgery prevention effect.
従来からある回折格子パターンとは異なる視覚効果を有し、且つより高い偽造防止効果を実現する画像表示体及び情報媒体を提供すること。 - 特許庁
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