「diffraction pattern」を含む例文一覧(669)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 次へ＞- The reflective exposure method includes a step for selecting a specific pattern, e.g. a pattern of smallest size, in a reflective mask, a step for calculating the electromagnetic field near the mask for the pattern, and a step for determining the propagation direction of highest intensity from the distribution of diffraction light which is determined from the electromagnetic field near the mask thus calculated.
反射型露光方法は、反射型マスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、該パターンについてマスク近傍の電磁界を計算するステップと、計算されたマスク近傍の電磁界から求まる回折光の分布から最も強度が強い伝播方向を求めるステップを含む。 - 特許庁 - Since the object to be transferred is constructed by laminating a curable adhesive agent layer 3, the optical diffraction pattern layer 4 and the acceptance layer 9 capable of accepting the dye image orderly on the base material 2, it is possible to avoid the influence of the decrease of adhesion between the base material 2 and the optical diffraction pattern layer 4 due to the high temperature during forming the dye image 11 by sublimation transfer.
基材２上に、硬化性接着剤層３、光回折パターン層４、および染料画像を受容可能な受容層９が順に積層された構造とすることにより、昇華転写により染料画像１１を形成しても、その際の高温により、基材２と光回折パターン層４との間の接着性低下による影響を回避することができた。 - 特許庁 - To prevent presence of information from being clearly grasped in mixing the specified information for mechanical read-out different from a diffraction grating pattern in a decorative picture consisting of the pattern, to increase the information content and to make a display body less liable to a counterfeit and an imitation.
回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。 - 特許庁 - Since an irradiation object of inspection light is formed as the inspection pattern having a larger area than the diffraction pattern, the irradiation object can be aimed surely, even if the diameter of inspection light irradiated from an irradiation part is large, to thereby execute an inspection work easily.
照射部から照射される検査光の直径が大きくても、検査光の照射対象を面積が回折パターンより大きい検査用パターンとしたことで、確実に照射対象を狙うことができ、検査作業を容易に実施することができる。 - 特許庁 - To solve such a problem that alignment between layers when stacking the layers is attended with difficulties in the conventional manufacturing method, because it is difficult to detect a displacement beyond a prescribed range of the period of a pattern when performing the alignment by using the pattern of a diffraction grating shape.
従来の作製方法では、層を積み重ねて行く際の層間の位置合わせに困難があるが、これは、回折格子状のパターンを用いて位置合わせを行なう際に、その周期分を超えた変位について、検出が困難であることに起因する。 - 特許庁 - To prevent presence of information from being clearly grasped in mixing the specified information for mechanical read-out different from a diffraction grating pattern in a decorative picture comprising the pattern, to increase the information content and to make a display body less liable to a counterfeit and an imitation.
回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。 - 特許庁 - Further, the visual recognizability of both the optical diffraction structural layer 20 and a printing pattern through the transparent window part 8 can also be possible by providing both the light reflecting layer 22 and the transparent reflecting layer 23 and forming the printing pattern on the surface of the transparent reflecting layer 23.
光回折構造層２０には、光反射層２２と透明反射層２３の双方を設け、透明反射層２３面に印刷パターンを形成して透明窓部８から光回折構造層２０と印刷パターンの双方が視認できるようにすることもできる。 - 特許庁 - The porous silica aggregate particles are one that are obtained by aggregating porous silica spherical primary particles which exhibit an X-ray diffraction pattern having one or more diffraction lines in a range of diffraction angle (2θ/°) corresponding to a lattice spacing (d) of at least 1 nm, wherein pores are formed in the porous silica spherical primary particles and void layers are formed in the gaps between these porous silica spherical primary particles.
１ｎｍ以上の格子面間隔（ｄ）に対応する回折角（２θ／°）の範囲に１つ以上の回折線を有するＸ線回折パターンを示す多孔質シリカ球状一次粒子を集合してなる多孔質シリカ凝集粒子であり、多孔質シリカ球状一次粒子内に細孔を形成するとともに、これらの多孔質シリカ球状一次粒子間の間隙に空隙層を形成した。 - 特許庁 - To provide a light source device capable of suppressing the occurrence of a spot pattern, without causing the utilization efficiency of the light emitted from a diffraction optical element to reduce, and achieving the downsizing and space-saving thereof, and to provide a projector.
回折光学素子から射出された光の利用効率の低下させることなく斑模様を抑え、装置の小型化，省スペース化が可能な光源装置及びプロジェクタを提供すること。 - 特許庁 - (Step 1) A X-ray diffraction pattern of a titanium surface is measured in an condition that an X-ray incident angle is maintained at a low angle of two degree or less, which is in an initial state before maintaining it in an atmospheric environment.
（ステップ１）Ｘ線入射角度を２度以下の低角度に保った条件で大気環境中保持前である初期状態のチタン表面のＸ線回折図形の測定を行う。 - 特許庁 - To provide a diffraction structure display body in which black and white of a display pattern are reversed or switched depending on rotating positions of the display body, and which is excellent in design and decorativeness, has a high visual effect, and has a high forgery preventing effect.
表示体の回転位置により表示パターンの白黒が反転したり切り換わり、意匠性、装飾性、視覚効果が高く、偽造防止効果の高い回折構造表示体を提供する。 - 特許庁 - High-order diffracted light generated by decreasing the diffraction of the DOE element is superimposed on 0th-order diffracted light and as a result, NA of the illumination light illuminating the pattern on the reticle main body 1 is increased.
ＤＯＥ素子の回折減少により発生する高次回折光が０次回折光に重畳される結果、レチクル本体１のパターンを照明する照明光のＮＡを大きくすることができる。 - 特許庁 - The evaluation can be executed based on the change of the position of the center of gravity by utilizing a coefficient on an envelope joining smoothly peaks of a spot row appearing the diffraction pattern or the like, or by selecting the spot row.
評価は、回析パターンに現れるスポット列のピークを滑らかに結ぶ包絡線についての係数等を利用たり、スポット列を選択して、重心位置の変化に基づいて行うことができる。 - 特許庁 - The disclosure relates to a polymorphic form D of bazedoxifene acetate having a specific powder X-ray diffraction pattern, a pharmaceutical composition and treating method to use the polymorphic form D, and a method for producing the polymorphic form D of bazedoxifene acetate.
本開示は、特定の粉末Ｘ線回折パターンを有する酢酸バゼドキシフェンの多形フォームＤ、それを用いた医薬組成物及び治療方法、並びにその製造方法に関する。 - 特許庁 - The ferromagnetic body layers can be formed through vacuum film deposition method or a printing method, a nonmagnetic body layer 161 can be provided between the ferromagnetic body layers, and an optical diffraction grating or a hologram pattern may be provided.
強磁性体層は真空成膜法または印刷法で形成でき強磁性体層間には非磁性体層１６１を設けることができ、光回折格子またはホログラムパターンを有していても良い。 - 特許庁 - To provide a diffraction grating pattern which is made to closely resemble a target outline and in which the outline defining an external form is smooth and which lowers no chromaticity without causing large increase of production time and labor.
作製時間と労力の大幅な増大を招くことなく、目標とする輪郭線に近似させて、外形を規定する輪郭線が滑らかであり、彩度が低下しない回折格子パターンを提供する。 - 特許庁 - In this case, the factor (1) which is a factor for showing coincidence of this electron diffraction pattern becomes the maximum value when basic reflection points agree completely, and becomes the minimum value when all the basic reflection points disagree.
ここに、因子▲１▼は、電子回折パターンの一致度を示す因子であって、基本反射の点が完全一致であれば最大値をとり、基本反射の点がすべて不一致であれば最小値をとる。 - 特許庁 - The adhesive contains the compound, and the substrate has a metallic thin film pattern having a line width of 0.01-10 μm and useful as a wire grid polarization plate, a diffraction grating, a metal-wired substrate for electronic device, etc.
接着剤は、該化合物を含み、基板は、０．０１μｍ〜１０μｍの線幅の金属薄膜パターンを有し、ワイヤーグリッド偏光板、回折格子、電子デバイス用金属配線基板等に有用である。 - 特許庁 - To easily acquire information in the diffraction direction of diffracted light by a periodic pattern of the surface of a specimen in a short period of time, in a diffracted light detector and inspection system.
回折光検出装置および検査システムにおいて、被検体表面の周期的パターンによる回折光の回折方向の情報を、短時間で容易に取得することができるようにする。 - 特許庁 - There is provided the crystalline polymorphic form I of (-)-[[4-(1,4,5,6-tetrahydro-4-methyl-6-oxo-3-pyridazinyl)phenyl]hydrazono]propanedinitrile, characterized by the X-ray diffraction pattern having specific peak positions.
特定のピーク位置を有するＸ線回折図によって特徴づけられる（−）−［［４−（１，４，５，６−テトラヒドロ−４−メチル−６−オキソ−３−ピリダジニル）フェニル］ヒドラゾノ］プロパンジニトリルの結晶状多形体Ｉ。 - 特許庁 - To provide an optical pickup in which an optical path with return light caused to pass through is provided with a diffraction optical element and which properly acquires a tracking error signal by using a photodetector having a general-purpose light receiving pattern.
戻り光が通過する光路に回折光学素子を備え、汎用の受光パターンを有する光検出器を使用してトラッキングエラー信号を適切に得られる光ピックアップを提供する。 - 特許庁 - The crystalline polymorphic form I of substantially optically pure (-)-{[4-(1,4,5,6-tetrahydro-4-methyl-6-oxo-3-pyridazinyl)phenyl]hydrazono}propanedinitrile is characterized by the X-ray diffraction pattern having specific peak positions.
特定のピーク位置を有するＸ線回折図によって特徴づけられる（−）−［［４−（１，４，５，６−テトラヒドロ−４−メチル−６−オキソ−３−ピリダジニル）フェニル］ヒドラゾノ］プロパンジニトリルの結晶状多形体Ｉ。 - 特許庁 - The pattern includes an effective line to space ratio and can be tested, by using a microscope or a stepper system, or can be measured directly using a detector for the zeroth-order diffraction measurement.
このパターンは、効果的なライン対スペース比を含み、顕微鏡またはステッパ・システムを使用して試験することができ、または０次回折測定用の検出器を使用して直接測定することができる。 - 特許庁 - A photoresist layer 15 is formed on the surface of a metal reflecting layer 13 conforming with the shape of the diffraction structure, a mask layer 15b is formed, and the metal reflecting layer is formed in a pattern shape 13b by etching.
回折構造の形状に追従した金属反射層１３面にフォトレジスト層１５を形成し、マスク層１５ｂを形成し、金属反射層をエッチングによりパターン状１３ｂに形成すること。 - 特許庁 - On the diffraction element 20, an upper layer separation prevention pattern PPa is formed so that a base layer 20C and an enclosure layer 20D may fit to an outside optics area EO through which an optical beam does not pass.
本発明は、回折素子２０は、光ビームが通過しない光学外領域ＥＯに、ベース層２０Ｃ及びカバー層２０Ｄが嵌合するように上層剥離防止パターンＰＰａを設けるようにする。 - 特許庁 - Since each pixel of SLM is transparent, opaque, and further changes transparency, it is used as a transmission diffraction grating by using it and forming a grating pattern.
ＳＬＭの各画素を透明にしたり、不透明にしたり、さらには透明度を変化させることができるので、これを利用して格子パターンを形成することにより、透過型回折格子として用いることができる。 - 特許庁 - To provide a card genuineness judging device which is capable of objectively judging the genuineness of a card with a hologram in which an image based on a diffraction pattern is formed, with high degree of certainty and rapidity.
回折パターンに基づく画像が形成されたホログラムを有するカードの真贋を客観的かつ確度が高くしかも迅速に判定することのできるカードの真贋判定装置を提供する。 - 特許庁 - The aluminum oxide carrier has a diffraction pattern obtained by X-ray diffractometry having a specific spacing d between lattice planes and a peak corresponding to a relative intensity I/I_0 in a calcined state.
この触媒は、該アルミニウム酸化物支持体が、焼成状態において、特定の格子面間隔ｄ、及び相対強度Ｉ／Ｉ_０に対応するピークを含む、Ｘ線回折により得られた回折図を有する。 - 特許庁 - The object lens 10 a single lens made of resin with aspheric surfaces on both sides, and a diffraction lens structure of a concentric ring belt pattern is formed centering the optical axis on one lens surface 11.
対物レンズ１０は、両面が非球面である樹脂製単レンズであり、一方のレンズ面１１に光軸を中心とした輪帯状のパターンとして回折レンズ構造が形成されている。 - 特許庁 - The diffraction optical element is manufactured by forming a photosensitive layer comprising the photosensitive organic polymer and the inorganic particulates on the substrate and by forming the grating with the pattern exposure and the development.
前記回折光学素子は、基板上に、感光性有機重合体と無機微粒子とで構成された感光層を形成し、パターン露光し、現像して格子を形成することにより製造できる。 - 特許庁 - To provide an observation technology by a phase retrieval type electron microscope, making the intensity distribution of a parallel electron beam with a microscopic diameter in measuring a real image and an electron diffraction pattern bright and uniform.
実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a product with an alignment mark that enables spatially varying reflective properties by using a pattern of fine lines for different polarization components for radiation of selectable orders of diffraction.
選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。 - 特許庁 - A cesium-containing aluminosilicate compound obtained by hydrothermal synthesis is subjected to heating treatment at ≥500°C, so that cesium-containing zeolite having a specified X-ray powder diffraction pattern can be crystallized.
水熱合成により得られたセシウム含有アルミノシリケート化合物を５００℃以上の温度で加熱処理することによって特定のＸ線粉末回折パターンを有するセシウム含有ゼオライトが結晶化される。 - 特許庁 - A base part 11 made of paper and a light diffraction structure part 12 having a pattern expression part 12a made in the base part 11 and discernible visually are provided, and the light diffraction structure part 12 has, in a part thereof, an optical information recording part 12b wherein optical information is so recorded as to be readable by a machine.
紙製の基材部１１と、基材部１１に抄き込まれ、目視により観察可能な絵柄表現部分１２ａを有する光回折構造部１２とを備え、光回折構造部１２は、その一部に、光学情報を機械読取可能に記録した光学情報記録部分１２ｂを有する。 - 特許庁 - The tissue structure has the structural characteristic in which the crystal structure substantially exclusive of a graphite structure does not substantially exist, the diffraction lines belonging to the metal Si and Si compound by the pattern analysis using an X-ray diffraction method are not detected and the granular structure is not identifiable by the observation of a transmission type electronmicroscope(TEM).
その組織構造は、実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM) の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁 - The mask is equipped with a light absorption layer having light absorption characteristics appropriate for light intensity distribution with inverted peak pattern, a light scattering layer having light scattering characteristics, a light reflection layer having light reflection characteristics, a light refraction layer having light refraction characteristics, or a light diffraction layer having light diffraction characteristics.
マスクは、逆ピークパターンの光強度分布に応じた光吸収特性を有する光吸収層、光散乱特性を有する光散乱層、光反射特性を有する光反射層、光屈折特性を有する光屈折層、または光回折特性を有する光回折層を備えている。 - 特許庁 - To prevent a diffracting function from being deteriorated at the time of a stopping to a small aperture and a stripe pattern noise from being produced in a video camera equipped with a diffraction type optical low-pass filter 1h for restraining a sprious signal caused by the interference of the pixel pitch of a CCD 2i and a specified spatial frequency of a subject by using a diffraction grating.
回折格子を用いてＣＣＤ２ｉの画素ピッチと被写体の特定空間周波数との干渉に起因する偽信号の発生を抑制する回折型光学ローパスフィルタ１ｈを備えたビデオカメラにおいて、小絞り時の回折機能の低下と縞模様ノイズの発生とを防止する。 - 特許庁 - A cover layer 20D of the diffraction element 20 is constituted of a cover lower layer 20Du made of a second UV cured resin 100B and joined to a diffraction pattern PTc for a CD and a cover upper layer 20Do made of a third UV cured resin 100C and joined to the cover lower layer 20Du.
本発明の回折素子２０におけるカバー層２０Ｄは、第２のＵＶ硬化樹脂１００Ｂでなり、ＣＤ用回折パターンＰＴｃに接合されたカバー下層２０Ｄｕと、第３のＵＶ硬化樹脂１００Ｃでなり、当該カバー下層２０Ｄｕに接合されたカバー上層２０Ｄｏとによって構成されるようにする。 - 特許庁 - The light source device comprises a planar light guide plate 1, a LED unit 3 having a plurality of LEDs 31 arranged at the light incidence face of the light guide plate 1, and an optical element 2 located at the part where a diffraction pattern 21, generating diffraction light mainly in 0th and ±1st direction, and the LED face each other.
この発明は、面状の導光板１とこの導光板１の光入光面に配置される複数のＬＥＤ３１を備えたＬＥＤユニット３と、主として０次と±１次方向の回折光を発生させる回折パターン２１が少なくともＬＥＤと対峙する箇所に設けられた光学素子２とを備える。 - 特許庁 - This is the non-aqueous electrolyte secondary battery which is equipped with a cathode 1 that contains a cathode active material having reflecting angles 2θ of peak positions of diffraction pattern by X-ray diffraction method at least at 40±2°, 47±2°, and 68±2°, a cathode 2 that contains a material that stores and releases lithium ions, and a non-aqueous electrolyte 5.
この非水電解質二次電池は、Ｘ線回折法による回折パターンのピーク位置の反射角２θを、少なくとも、４０±２度と、４７±２度と、６８±２度とに有する正極活物質を含む正極１と、リチウムイオンを吸蔵および放出する材料を含む負極２と、非水電解質５とを備えている。 - 特許庁 - The lens includes: a transparent substrate with a lens cavity of a prescribed depth in the surface of the substrate; and a lens element disposed in the lens cavity and having a first surface corresponding to the lens cavity and provided with a refractive surface and a second surface opposite to the first surface and with a diffraction surface formed by a diffraction grating pattern.
その表面に所定深さの凹レンズ収容溝が設けられている透明基板と、前記レンズ収容溝内に設けられるものであって、前記レンズ収容溝に対応する第１面に屈折面が設けられ、その反対側の第２面に回折格子パターンによる回折面が形成されているレンズ要素とを備える。 - 特許庁 - To decrease the influence of redundant diffracted light having an intense peak different from the diffracted light which constitutes the pattern (image) to be displayed in the pattern displayed by the combination of a plurality of minute cells each consisting of diffraction gratings arranged in a matrix, to improve the visibility of the pattern (image) and to reproduce the original design with good fidelity.
回折格子からなる微小なセルをマトリクス状に複数個配置し、それらの集まりによって表現されるパターンにおいて、表現されるべきパターン（画像）を構成する回折光とは異なる、強いピークを持った冗長な回折光の影響を低減し、パターン（画像）の視認度を向上させ、元のデザインを忠実に再現する。 - 特許庁 - The diffractive optical element 4 has a first diffraction grating pattern formed to control the distribution of light in a predetermined first direction on an incident surface 41 for ultraviolet rays and a second diffraction grating pattern formed to control the distribution of light in a second direction orthogonal to the first direction on an outgoing surface 42 for ultraviolet rays such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are shaped in a spot.
上記回折光学素子４は、照射対象５に照射される紫外線の形状がスポット状になるように、紫外線の入射面４１に、予め決められた第１の方向の配光を制御する第１の回折格子パターンが形成され、紫外線の出射面４２に、第１の方向と直交する第２の方向の配光を制御する第２の回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁 - To provide a display having a light scattering pattern formed minutely unevenly on the surface of a base material and a diffraction grating pattern, to provide such a visual effect that both patterns seem to shine in white in the same way or become different clearly from each other when an observation condition is changed.
表面の微細な凹凸により形成される光散乱パターンと回折格子パターンとを有するディスプレイにおいて、双方のパターンが同様に白色で光って見えるようにし、観察条件の変化に伴って、両者の差異が明らかとなるような視覚効果を持たせる。 - 特許庁 - Subsequently, by using an Ar ion etching technology, in addition to normal lithographic technology, the Ni thin film 3 is formed into an Ni thin-film pattern 4 of a diffraction grating pattern by a two-dimensional photonic crystal, having a basic unit of a triangle of one piece of 230 nm with a column diameter of 100 nm (Fig.1(b)).
続いて、通常のリソグラフィ技術にＡｒイオンエッチング技術を用いて、Ｎｉ薄膜３を、直径１００ｎｍの柱径で、一片が２３０ｎｍの三角形を基本単位とする２次元フォトニック結晶による回折格子パターン状のＮｉ薄膜パターン４に形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁 - In the process S103, a semiconductor region is etched using a first mask having the array of patterns including first-nth pattern parts and first-nth periodic structures for a diffraction grating corresponding to the first-nth pattern parts respectively are formed in the respective element sections of the semiconductor region.
工程Ｓ１０３では、第１〜第ｎのパターン部を含むパターンの配列を有する第１のマスクを用いて半導体領域をエッチングして、第１〜第ｎのパターン部にそれぞれ対応する回折格子用の第１〜第ｎの周期構造を半導体領域の各素子区画に形成する。 - 特許庁 - This method for producing the cyclopentanol is characterized by using a protonic zeolite having ≥10 ratio of (SiO2)/(Al2O3) and regulated in x-ray diffraction pattern substantially to the pattern represented by the table 1 as a catalyst in the method for producing the cyclopentanol by hydrating the cyclopentene in the presence of the catalyst.
触媒の存在下でシクロペンテンを水和してシクロペンタノールを製造する方法において、ＳｉＯ_2/Ａｌ_2Ｏ_3比が１０以上であり、且つＸ線回折パターンが実質的に第１表のパターンで規定されるプロトン型ゼオライトを触媒として使用することを特徴とするシクロペンタノールの製造方法。 - 特許庁 - This catalyst is a titanosilicate catalyst which has an X-ray diffraction pattern of the values indicated below and is also represented by the general formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (x in the formula represents a figure of 0.0001 to 0.1), and serves for producing propylene oxide.
下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ一般式 ｘＴｉＯ_２・（１−ｘ）ＳｉＯ_２ （式中ｘは０．０００１〜０．１の数値を表す。）で表されるチタノシリケートであるプロピレンオキサイド製造用触媒。 - 特許庁 - The diffraction pattern is compared with that of an object component to be analyzed which is, for example, the flame retarder or the flame resisting auxiliary and which is prepared beforehand, and a judgement is made whether or not the component is included in the resin material.
この回折パターンを、予め用意した分析対象の成分、例えば難燃剤や難燃助剤の回折パターンと比較することにより、樹脂素材中に当該成分が含まれるか否かを判定する。 - 特許庁 - A cubic hologram or a diffraction grating 14 has been recorded in the optical fiber 1, and the optical fiber 1 having display function with which the light 15 guided into the optical fiber is diffracted and a specified pattern 17 is output from the lateral face.
内部に体積型ホログラム若しくは回折格子１４が記録されており、内部を導波する光１５が回折されて側面から特定のパターン１７が出射される表示機能を持つ光ファイバー１。 - 特許庁
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