「etching」を含む例文一覧(19972)
＜前へ 1 2 .... 26 27 28 29 30 31 32 33 34 .... 399 400 次へ＞- To enable efficient etching.
効率のよいエッチングを行うことを可能とする。 - 特許庁 - DRY ETCHING APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT
半導体素子製造用乾式エッチング装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR ETCHING MONITORING
エッチングモニタリング装置およびエッチングモニタリング方法 - 特許庁 - ETCHING PROTECTING SHEET AND METHOD FOR FORMING CIRCUIT
エッチング保護シートおよび回路の形成方法 - 特許庁 - CURABLE RESIN COMPOSITION WITH EXCELLENT ETCHING RESISTANCE
耐エッチング性に優れた硬化性樹脂組成物 - 特許庁 - METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED
絶縁処理を施した金属エッチング製品 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING SILICON-CONTAINING FILMS
シリコン含有膜のエッチング方法および装置 - 特許庁 - ETCHING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING INKJET
エッチング方法およびインクジェットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR REGENERATING ETCHANT AND ETCHING APPARATUS
エッチング液の再生方法およびエッチング装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING ETCHING FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR
電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法 - 特許庁 - To provide such an etching method and an etching device that etching of a board by acid become uniform, and materialize an analysis method using these etching methods.
酸による基板のエッチングが一様となるようなエッチング方法、エッチング装置を提供するとともに、これらのエッチング方法を用いた分析方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - METAL ETCHING PRODUCT AND ITS PRODUCTION METHOD
金属エッチング製品およびその製造方法 - 特許庁 - METAL ETCHING PRODUCT AND ITS PRODUCTION METHOD
金属エッチング製品及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a plasma etching method and a plasma etching apparatus which, when etching an adhesion layer sandwiched between silicon substrates, can help etching to proceed in a laminated direction of silicon substrates.
シリコン基板に挟まれた接着層をエッチングする際に、シリコン基板の積層方向へエッチングを進みやすくすることのできるプラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁 - ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING AND METHOD OF PRODUCTION
プラズマエッチング電極板及びその製造法 - 特許庁 - The etching solution for metal contains a base etching solution and a retardant, and is characterized in that the etching rate is independent of or reverse dependent on the stirring rate of the etching solution.
ベースのエッチング液と抑制剤とを含む金属のエッチング液であり、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に非依存または逆依存することを特徴とした金属のエッチング液である。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ETCHING SYSTEM
半導体装置の製造方法とエッチングシステム - 特許庁 - ETCHING APPARATUS FOR PROCESSING GLASS SUBSTRATE OR WAFER
ガラス基板またはウエハー処理用エッシング装置 - 特許庁 - WET ETCHING METHOD OF GALLIUM OXIDE SINGLE CRYSTAL
酸化ガリウム単結晶のウェットエッチング方法 - 特許庁 - METHOD OF ETCHING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT (EUV) PHOTOMASKS
極紫外線（ＥＵＶ）フォトマスクのエッチング方法 - 特許庁 - Main etching gas contains NF_3 and Cl_2.
主なエッチングガスは、ＮＦ_３及びＣｌ_２を含む。 - 特許庁 - METHOD FOR RECOVERING CERIUM FROM CHROMIUM ETCHING SOLUTION
クロムエッチング液からのセリウムの回収方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PHOTOMASK PLASMA ETCHING
フォトマスクプラズマエッチングの為の方法および装置 - 特許庁 - The copper foil becomes a metal line by etching.
銅箔はエッチングにより金属線路になる。 - 特許庁 - SELECTIVE DRY ETCHING OF TANTALUM AND TANTALUM NITRIDE
タンタル及び窒化タンタルの選択的ドライ・エッチング - 特許庁 - DRY-ETCHING ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE AND RECEPTACLE STAND
ドライエッチング用静電チャック装置及び載置台 - 特許庁 - As the etching gas, halogen-based gas is used.
また、エッチングガスとして、ハロゲン系ガスを用いる。 - 特許庁 - MEASURING METHOD AND APPARATUS OF ETCHING DEPTH
エッチング深さ測定装置および測定方法 - 特許庁 - CARRIER DEVICE FOR VERTICAL THIN PLATE ETCHING MACHINE
直立型薄板エッチングマシンの搬送装置 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR ETCHING CONTACT HOLE
コンタクトホールのエッチング方法およびエッチング装置 - 特許庁 - SUBSTRATE ETCHING APPARATUS, AND METHOD OF TREATING SUBSTRATE
基板エッチング装置及び基板の処理方法 - 特許庁 - TREATMENT METHOD AND DEVICE FOR COPPER ETCHING WASTE SOLUTION
銅エッチング廃液の処理方法及び装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND HIGH-SPEED PLASMA ETCHING APPARATUS
プラズマ処理方法、高速プラズマエッチング装置 - 特許庁 - WET-CLEANING APPARATUS AND WET-ETCHING METHOD
ウェット洗浄装置およびウェットエッチング方法 - 特許庁 - she soaked the etching in an acid bath
彼女は、酸性の浴室にエッチングを浸した - 日本語WordNet - Adding an oxidant to an etching gas mixture can increase the etching rate of silicon nitride (5) while reducing the etching rate of a conductive oxide (4), resulting in improved etching selectivity.
酸化剤をエッチングガス混合物に加えることは、窒化シリコン（５）のエッチング速度を高める一方で、導電性酸化物（４）のエッチング速度を下げ得、改良したエッチング選択性がもたらされる。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING MICROMACHINE AND ETCHING STOPPING LAYER
マイクロマシン製造方法及びエッチング停止層 - 特許庁 - A trench 7 is formed by dry etching.
次に、ドライエッチングにより溝７を形成する。 - 特許庁 - A first etching step employs an etching method in which an etching rate to at least a second film and a third film is high and etching is performed until at least a first film is exposed.
すなわち、第１のエッチング工程には、少なくとも第２の膜及び第３の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、少なくとも第１の膜を露出するまで行う。 - 特許庁 - Then, the groove 8 undergoes isotropic etching.
次に、溝８に対して等方性エッチングする。 - 特許庁 - ETCHANT AND ETCHING METHOD USING THE SAME
エッチング液およびそれを用いたエッチング方法 - 特許庁 - ION BEAM ETCHING DEVICE, METHOD AND CONTROLLER
イオンビームエッチング装置、方法及び制御装置 - 特許庁 - SINGLE-CRYSTAL SILICON ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING
プラズマエッチング用単結晶シリコン電極板 - 特許庁 - In order to determine an optimum addition ratio of ethyl alcohol in an etching gas of a plasma etching apparatus, ethyl alcohol addition ratio is found so as to make zero an isotropic etching rate to an etching mask.
プラズマエッチング装置のエッチングガス中のエチルアルコールの最適添加比率の決定のために、エッチングマスクに対する等方性エッチングレートを零にするエチルアルコール添加比率が求められる。 - 特許庁 - Then, quantity of the over-etching is fixed and the etching is performed while leaving the upper layer metal film by calculating and fixing etching time by film thickness of an insulation film and its etching rate.
そこで、絶縁膜の膜厚とそのエッチングレートよりエッチング時間を算出して固定にすることで、オーバーエッチングの量を一定にし、上層金属膜を残したままエッチングする。 - 特許庁 - LEADFRAME ETCHING METHOD AND APPARATUS THEREFOR
リードフレームのエッチング加工方法及びその装置 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING LAMINATE CONTAINING POLYIMIDE LAYER
ポリイミド層を含む積層体のエッチング方法 - 特許庁 - ELECTROSTATIC CHUCK, DEPOSITING METHOD AND ETCHING METHOD
静電チャック、成膜方法及びエッチング方法 - 特許庁 - METHOD FOR ETCHING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR
ＩＩＩ族窒化物半導体のエッチング方法 - 特許庁 - To provide an etching liquid and an etching method which can enhance an etching rate in the selective etching of a silicon nitride, and to provide a method for manufacturing an electronic component.
本発明は、窒化シリコンの選択的なエッチングにおいて、その窒化シリコンのエッチングレートを高めることができるエッチング液、エッチング方法および電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
