「second-layer」を含む例文一覧(21457)

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  • The lead-out wiring layer 12 comprises a main conductor layer 6, a first barrier metal layer 5 covering the bottom face and the side face of the main conductor layer 6, and a second barrier metal layer 7 covering the upper surface of the main conductor layer 6.
    引出配線層12は、主導体層6と、この主導体層6の底面および側面を覆う第1バリアメタル層5と、上記主導体層6の上面を覆う第2バリアメタル層7とを備えている。 - 特許庁
  • The magnetoresistance effect element has an underlying layer 12 composed of a Cr/Ag layer under the first half metal ferromagnetic layer 13, and has an antioxidation layer 16 composed of an Ag/Ru layer on the second half metal ferromagnetic layer 15.
    第1のハーフメタル強磁性体層13の下に、Cr/Ag層から成る下地層12を有し、第2のハーフメタル強磁性体層15の上に、Ag/Ru層から成る酸化防止層16を有している。 - 特許庁
  • The inner layer 12B and the inner layer 15B have the hardness higher than the outer layer 12A and the outer layer 15A so that they suppress the deformation of the first shield layer 12 and the second shield layer 15.
    内側層12Bおよび内側層15Bは、外側層12Aおよび外側層15Aよりも高い硬度を有しており、第1シールド層12および第2シールド層15の変形を抑制するようになっている。 - 特許庁
  • The member for the speaker has a first external layer, an intermediate layer having a punched section in a prescribed shape, and a second external layer.
    本発明のスピーカー用部材は、第1の外層と、所定の形状の打ち抜き部を有する中間層と、第2の外層とを有する。 - 特許庁
  • The background, characters and patterns are displayed by the light emitting layer 10, the first mixed layer 11 and the second mixed layer 12 by the light emission of the light emitting diode 3.
    発光ダイオード3の発光にて発光層10、第1の混合層11および第2の混合層12にて背景、文字、模様を表示する。 - 特許庁
  • A passivation layer 21 is formed on the second SOG layer 16, and an opening 22 is made in the layer 21 to expose the pad 20.
    第2の有機SOG層16上にパッシベーション層21が配設され、層21にパッド20が露出する開孔22が形成される。 - 特許庁
  • In a method for manufacturing a semiconductor light emitting device, at least a first conductivity type semiconductor layer, an activity layer and a second conductivity type semiconductor layer are laminated on a substrate.
    基板上に、少なくとも、第1の導電型の半導体層と活性層と第2の導電型の半導体層を積層する。 - 特許庁
  • A substrate 1 has a structure in which a first substrate layer 11, an insulator layer 12, and a second substrate layer 13 are stacked in this order.
    基板1は、第1基板層11、絶縁層12及び第2基板層13を、この順序で積層した構造を含んでいる。 - 特許庁
  • A direction toward the second n-type diffusion layer 22 from the first n-type diffusion layer 21 is a crystal orientation <100> of the p-type silicon layer 20.
    第1N型拡散層21から第2N型拡散層22へ向かう方向は、P型シリコン層20の結晶方位<100>である。 - 特許庁
  • To provide a method for inspecting a sample with a first layer having a known reflection characteristic and a second layer formed on the first layer.
    既知の反射特性を有する第1層と、第1層上に形成された第2層を有するサンプルの検査方法を提供する。 - 特許庁
  • The circuit board 100 comprises a substrate 1, first interconnection layer 2, the insulation layer 3, filling material 4, second interconnection layer 5, and via-hole 6.
    回路基板100は、基材1、第1の配線層2、絶縁層3、充填材4、第2の配線層5、及びビアホール6を備える。 - 特許庁
  • The organic EL device 40 includes a first charge injection layer 23, an organic layer 24 and a second charge injection layer 25.
    本発明の有機EL素子40は、第一の電荷注入層23と、有機層24と、第二の電荷注入層25を有している。 - 特許庁
  • To provide a method for inspection of a sample including the first layer equipped with known reflectance property, and the second layer formed on the above first layer.
    既知の反射特性を有する第1層と、第1層上に形成された第2層を有するサンプルの検査方法を提供する。 - 特許庁
  • In the liquid crystal display element, each liquid crystal layer of the first layer and the second layer has a thicker peripheral part than the center part.
    また、液晶表示素子では、第一の層及び第二の層の液晶層は、周辺部の厚さが中心部の厚さよりも厚い。 - 特許庁
  • The interlayer film 1 for laminated glass is provided with: a first layer 2; and a second layer 3 laminated on either side 2a of the first layer 2.
    第1の層2と、第1の層2の一方の面2aに積層された第2の層3とを備える合わせガラス用中間膜1。 - 特許庁
  • The plurality of the memory elements are each an element in which a first conductive layer, an organic compound layer and a second conductive layer are sequentially laminated.
    複数の記憶素子の各々は、第1の導電層と、有機化合物層と、第2の導電層が順に積層された素子である。 - 特許庁
  • The multilayer polyimide tubular object of the present invention is equipped with a first polyimide resin layer, a second polyimide resin layer and a mixed polyimide resin layer.
    本発明に係る多層ポリイミド管状物は、第1ポリイミド樹脂層、第2ポリイミド樹脂層、及びポリイミド樹脂混在層を備える。 - 特許庁
  • The polyimide lamination 14 includes a first polyimide layer 14A and a second polyimide layer 14B, formed on the first polyimide layer 14A.
    ポリイミド積層14は、第1ポリイミド層14Aと、第1ポリイミド層14A上に形成された第2ポリイミド層14Bとを備える。 - 特許庁
  • Subsequently, the same resist as the first resist layer is applied to the first resist layer 12a by a spin coating method to form a second resist layer 12b.
    次に、第一レジスト層12aの上に第一レジスト層と同レジストをスピンコート法により塗布して第二レジスト層12bを形成する。 - 特許庁
  • An interlayer insulating layer 2 consisting of a resin is formed on a copper foil 1 and a second conductive layer 3 is formed on the layer 2 using a conductive paste.
    銅箔1に樹脂による層間絶縁層2を形成し、その上に導電ペーストにより第2導電層3を形成する。 - 特許庁
  • The second collector layer 40 is provided contiguously to the first collector layer 30 and doped lighter than the first collector layer.
    第2コレクタ層40は、第1コレクタ層30に隣接し、且つ第1コレクタ層のドーピング濃度よりも低いドーピング濃度を有している。 - 特許庁
  • In a laser element part 10A, a light control layer 22 is formed between a first n-type clad layer 21 and a second n-type clad layer 23.
    レーザ素子部10Aでは第1n型クラッド層21と第2n型クラッド層23との間に光コントロール層22が形成されている。 - 特許庁
  • The semiconductor laser element 10 includes a first conductivity type clad layer 11, a second conductivity type clad layer 15, and an active layer 13.
    半導体レーザ素子10は、第1導電型クラッド層11と、第2導電型クラッド層15と、活性層13と、を備えている。 - 特許庁
  • The light-emitting device includes: a light-emitting structure including a first semiconductor layer, an active layer on the first semiconductor layer, and a second semiconductor layer on the active layer; an adhesive layer arranged at least on a top surface of the first semiconductor layer; a first electrode extending from a top surface of the first semiconductor to a top surface of the adhesive layer; and a second electrode arranged on the second semiconductor layer.
    本発明に従う発光素子は、第1半導体層、第1半導体層の上に活性層、及び上記活性層の上に第2半導体層を含む発光構造物と、少なくとも第1半導体層の上面に配置された接合層と、第1半導体層の上面から接合層の上面まで延びた第1電極と、第2半導体層の上に配置された第2電極と、を含む。 - 特許庁
  • A second layer 26 is formed of silicon oxide on a top surface of the first layer 24 formed in the first layer-forming step.
    第1層形成工程によって形成された第1層24の上面に酸化シリコンで形成される第2層26を形成する。 - 特許庁
  • A second insulating layer 38 coats a portion not coated with the Pd electrode 36 of the single-layer adhesive layer 34 and the terrace 30.
    第2の絶縁膜38が単層密着層34のPd電極36で覆われていない部分及びテラス部30を覆っている。 - 特許庁
  • A belt edge cushion rubber layer 31 is provided at both ends in the tire width direction between the second belt layer 13 and the third belt layer 15.
    ベルトエッジクッションゴム層31は、第二ベルト層13と第三ベルト層15との間のタイヤ幅方向両端部に設けられている。 - 特許庁
  • A resin layer 3 including a compound having a flux function covers a second insulative layer 23 and is provided on a solder layer 26.
    フラックス機能を有する化合物を含む樹脂層3は、第二絶縁層23を被覆するとともに、半田層26上に設けられている。 - 特許庁
  • A first layer 2 comprising a material different from diamond is provided on a diamond substrate 1, and a second layer 5 is provided on the first layer 2.
    ダイヤモンド基体1上に、ダイヤモンドとは異なる材料からなる第一層2を設け、その第一層2上に第二層5を設ける。 - 特許庁
  • A semiconductor light-emitting element includes a substrate layer, a first semiconductor layer, a light-emitting part, and a second semiconductor layer.
    実施形態によれば、下地層と、第1半導体層と、発光部と、第2半導体層と、を備えた半導体発光素子が提供される。 - 特許庁
  • An epitaxial layer 30 including an AlGaInP active layer, and a second wafer 23 which transmits the light from the active layer, are laminated.
    AlGaInP活性層を含むエピタキシャル層30と、その活性層からの光を透過する第2のウェハ23とが積層されている。 - 特許庁
  • A space between the first abrasive grain layer 24A, the second abrasive grain layer 24B, and the third abrasive grain layer 24C becomes a deeper and wide main discharge passage 34.
    第一砥粒層24A,第二砥粒層24B,第三砥粒層24Cの間はより深く幅広の主排出路34をなす。 - 特許庁
  • Information is recorded while both the first recording/reproducing layer 14 and a second recording/reproducing layer 34 perform tracking control by using the servo layer 18.
    第1、第2記録再生層14、34は、共にサーボ層18を利用してトラッキング制御を行いながら情報が記録される。 - 特許庁
  • The reference resistance layer 22 and a second output conductive layer 34 are extended in parallel, and parts of them are conducted by a connection layer 36.
    また、参照抵抗層22と第2の出力導電層34とが平行に延び、その一部が接続層36で導通されている。 - 特許庁
  • According to the present invention, the strained Si layer has the same crystal orientation as either of a regrown semiconductor layer or the second semiconductor layer.
    本発明によれば、歪みSi層は、再成長半導体層または第2の半導体層のいずれかと同じ結晶方位を有する。 - 特許庁
  • Second metallic layers 60 (Ti layer 61/Au layer 62) are formed on the first metallic layers 50 and the insulating body layer 40.
    次に、第1金属層50上及び絶縁体層40上に第2金属層60(Ti層61/Au層62)を形成する。 - 特許庁
  • The spacer layer includes copper current confined paths extending between the first magnetic layer and the second magnetic layer in the matrix of magnesium oxide.
    スペーサ層は、第1の磁性層と第2の磁性層との間に延在する銅電流狭窄を酸化マグネシウムの母材中に含む。 - 特許庁
  • A rubber sheet 20 constituting a rubber dam 10 has an outer skin rubber layer 22, a first reinforcing rubber layer 24, and a second reinforcing rubber layer 26.
    ゴム堰10を構成するゴムシート20は、外皮ゴム層22、第1補強ゴム層24および第2補強ゴム層26を有する。 - 特許庁
  • A first semiconductor layer 20, an active layer 30, and a second semiconductor layer 40 are successively laminated on the one surface of a board 10.
    基板10の一面に、第1の半導体層20,活性層30および第2の半導体層40が順に積層されている。 - 特許庁
  • The second capacitor conductive layer 116 is arranged through a first capacitor insulating layer to the first capacitor conductive layer 114.
    第2キャパシタ導電層116は、第1キャパシタ導電層114に対して第1キャパシタ絶縁層124を介して配置される。 - 特許庁
  • The temperature of the substrate is set higher than that when forming the first layer, a second layer 5 composed of InP being formed, with an active layer 7 being formed thereon.
    基板温度を第1の層の形成時よりも高くし、InPからなる第2の層を形成し、その上に、活性層を形成する。 - 特許庁
  • The second insulation layer covers at least the first insulation layer provided on the side face of the semiconductor layer on which the gate electrode is superimposed.
    第2絶縁層は、少なくともゲート電極が重畳する領域の半導体層の側面に設けられた第1絶縁層を覆う。 - 特許庁
  • The active layer 4 is formed by alternately stacking an InN layer 4a with a first thickness and a GaN layer 4b with a second thickness.
    活性層4は第1の厚さのInN層4aと第2の厚さのGaN層4bとを交互に積層して形成されている。 - 特許庁
  • The lens sheet 17 used for backlight includes a base film 21, a first prism layer 22, a second prism layer 23 and a filler layer 24.
    バックライトに用いられるレンズシート17は、ベースフィルム21と、第1プリズム層22と、第2プリズム層23と、充填層24とを備える。 - 特許庁
  • The connecting shield layer 1 comprises a first layer 10a formed of a superconductive material and a second layer 10b formed of a normal material.
    接続用シールド層1は、超電導材料から形成される第一層10aと、常電導材料から形成される第二層10bとからなる。 - 特許庁
  • Consequently, in the nMOS region there is formed a second gate electrode G2, composed of the metal layer 4 and an alloy layer 7 of the conductive layer 6.
    これにより、nMOS領域では、金属層4と導電層6の合金層7からなる第2ゲート電極G2が形成される。 - 特許庁
  • Here, the second clad layer 4B has a smaller refractive index than either of the first clad layer 4A and the third clad layer 4C.
    ここで、第2クラッド層4Bの屈折率は、第1クラッド層4A及び第3クラッド層4Cの屈折率のいずれよりも小さい。 - 特許庁
  • A bottomed via hole is formed by forming a recess into an interlayer insulating layer 3 until a first layer 2 is partially exposed and a second layer 4.
    層間絶縁層3に窪みを設けて第1層2を部分的に露出させ,第2層4を形成して有底ビアホール5とする。 - 特許庁
  • In addition, a second nitrogen-enriched layer having higher nitrogen content than the first nitrogen-enriched layer is formed on a surface layer part of each ball 4.
    さらに、玉4の表層部には第1の窒素富化層よりも窒素含有量の多い第2の窒素富化層が形成されている。 - 特許庁
  • This manufacturing method for the gas seal material includes a process of putting the polyamide film layer between the first rubber layer and the second rubber layer.
    また、第一ゴム層と第二ゴム層との間にポリアミド系フィルム層を挟む工程を含むガス用シール材の製造方法である。 - 特許庁
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