「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 130 131 次へ＞- TUBULAR CATHODE FOR USE IN SPUTTERING PROCESS
スパッタリング法に用いる筒状カソード - 特許庁 - SPUTTERING TARGET BASED ON TITANIUM DIOXIDE
二酸化チタンを基礎とするスパッタターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND OPTICAL RECORDING MEDIUM
スパッタリングターゲット及び光記録媒体 - 特許庁 - OPTICAL RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET
光記録媒体及びスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD FOR THE TARGET
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - ELECTRIC DISCHARGE RETAINING METHOD FOR SPUTTERING PROCESS
スパッタ法における放電維持方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ARRANGING METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲット及びその配置方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR THE PREPARATION THEREOF
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS APPLYING SPUTTERING PROCESS
スパッタ処理応用のプラズマ処理装置 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
スパッタリング装置及び基板処理装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND CATHODE THEREFOR
マグネトロンスパッタリング装置及びそのカソード - 特許庁 - SPIRAL TUBE AND ITS SPUTTERING METHOD
スパイラルチューブ及びそのスパッタリング方法 - 特許庁 - FILM THICKNESS PREDICTING METHOD IN SPUTTERING
スパッタリングにおける膜厚予測方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SPUTTERING DEVICE
基板処理装置及びスパッタリング装置 - 特許庁 - To provide a sputtering system which need not transport a substrate for pre-sputtering to the sputtering system every time when the pre-sputtering is performed, and can shorten the time before starting the pre-sputtering.
プリスパッタリング処理を行なう度に、プリスパッタ用基板をスパッタリング装置に搬送する必要がなく、プリスパッタリング処理を開始するまでにかかる時間を短縮することができるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET WITH LESS PARTICLE GENERATION
パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND DEVICE THEREFOR
反応性スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET
磁気記録媒体およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM, METHOD FOR FORMING THIN FILM BY SPUTTERING, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISK-SHAPED RECORDING MEDIUM USING THE SPUTTERING SYSTEM
スパッタリング装置、スパッタリングによる薄膜形成方法および当該装置を用いたディスク状記録媒体の製造方法 - 特許庁 - SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS
基材の支持装置及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND MAGNETIC CIRCUIT FOR THE SAME
スパッタリング装置およびその磁気回路 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION
スパッタリングタ—ゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS FOR MAGNETIC POWDER COATING
磁性粉末コーティング用スパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM FORMATION METHOD
スパッタ装置及び薄膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING DEVICE AND LIQUID-SPOUTING HEAD
スパッタリングターゲットとその製造方法及びスパッタリング装置並びに液体噴射ヘッド - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, BARRIER FILM AND ELECTRONIC PARTS
スパッタターゲット、バリア膜および電子部品 - 特許庁 - JOINING METHOD OF TARGET PLATE FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲット板の接合方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD OF GRINDING
スパッタリングターゲット及びその研削方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND TARGET ASSEMBLY
スパッタリングターゲット及びターゲット組み立て体 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREFOR
スパッタリング装置及びそのメンテナンス方法 - 特許庁 - THIN FILM FOR WIRING AND SPUTTERING TARGET
配線用薄膜およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - SINTERED COMPACT FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR USING THE SAME
スパッタリング装置及びその使用方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER, AND SPUTTERING APPARATUS
スタンパの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
スパッタリング用ターゲット材料の検査方法及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及び薄膜形成方法 - 特許庁 - To provide an Ag-based alloy sputtering target with which pre-sputtering time is shortened.
プリスパッタ時間の短縮されたＡｇ基合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
スパッタリングターゲット及び透明導電膜 - 特許庁 - TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM AND SPUTTERING TARGET
透明導電膜およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM
スパッタリングターゲット及び透明導電膜 - 特許庁 - METHOD AND EQUIPMENT FOR REACTIVE SPUTTERING
反応性スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタターゲット材料、磁気記録媒体及びスパッタターゲット材料の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD
スパッタリング用ターゲットとその製造方法 - 特許庁 - INLINE TYPE SPUTTERING METHOD AND DEVICE
インライン型スパッタリング方法および装置 - 特許庁 - TARGET ELECTRODE FOR MAGNETRON TYPE ION SPUTTERING
マグネトロン型イオンスパッタ用ターゲット電極 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
