「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 .... 130 131 次へ＞- PRODUCTION OF HIGHLY PURE RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND HIGHLY PURE RUTHENIUM SPUTTERING TARGET
高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及び高純度ルテニウムスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE, SPUTTERING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIN FILM WITH METAL BASE LAYER
スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 - 特許庁 - The chromium film 19B is formed by a sputtering method using a sputtering system 50.
クロム膜１９Ｂは、スパッタリング装置５０を用い、スパッタリング法によって形成する。 - 特許庁 - To provide a method for controlling ion density and sputtering rate in a sputtering system.
スパッタリングシステムにおいてイオン密度とスパッタ率を制御する方法を提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCED BY THE METHOD
スパッタリング装置及びスパッタリング方法、ならびにその方法で作製された電子デバイス - 特許庁 - To provide: a sputtering source which has a rotary cylindrical target and with which the film thickness of a thin film can be controlled with a good precision; a sputtering film deposition apparatus equipped with the sputtering source; and a sputtering film deposition method using the sputtering film deposition apparatus.
精度よく薄膜の膜厚を制御することができる、回転円筒ターゲットを備えたスパッタ源、該スパッタ源を備えたスパッタ成膜装置、および該スパッタ成膜装置を用いたスパッタ成膜方法を提供する。 - 特許庁 - DEVICE FOR SPUTTERING OR ARC VAPOR DEPOSITION
スパッタリングあるいはア—ク蒸着用の装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - To provide a method of welding sputtering target tiles to form a large sputtering target and a target assembly.
スパッタターゲットタイルを溶接して、大型スパッタターゲット及びターゲットアセンブリを提供する。 - 特許庁 - ECR SPUTTERING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
ＥＣＲスパッタ装置、および成膜方法 - 特許庁 - To provide an ECR sputtering system enhanced in sputtering efficiency and high in film deposition rate.
スパッタ効率を高め、成膜レートが大きいＥＣＲスパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR FORMING FILM BY SPUTTERING
スパッタリングによる成膜方法とその装置 - 特許庁 - RUTHENIUM SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ルテニウムスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION
スパッタリング用タ—ゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - To improve the efficiency of a sputtering target.
スパッタリングターゲットの効率を向上させる。 - 特許庁 - To realize an economical structure even in a sputtering apparatus equipped with a plurality of sputtering vaporization sources.
複数のスパッタ蒸発源を備えるスパッタ装置においても経済的な構成とする。 - 特許庁 - To provide a sputtering system configured to achieve uniform sputtering and deposition.
均一なスパッタリング及び蒸着効果を得ることができるスパッタリングシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide a sputtering apparatus capable of catching sputtering particles flying around a target.
ターゲットの周囲に飛行するスパッタリング粒子が捕獲されるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁 - SnO2-BASE SPUTTERING TARGET AND SPUTTER FILM
ＳｎＯ２系スパッタリングターゲットおよびスパッタ膜 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURE
スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND OXIDE SEMI-CONDUCTOR FILM
スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜 - 特許庁 - TITANIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
チタンスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁 - The sputtering face 2a of the target 2 for sputtering is provided with a raised region.
また、スパッタリング用ターゲット２のスパッタ面２ａには、盛り上げられた領域を備えている。 - 特許庁 - Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD
スパッタリング装置、スパッタリング方法及びこの方法をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁 - TANTALUM SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD
タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a magnetron sputtering apparatus of high use efficiency of a target and a magnetron sputtering method.
ターゲットの使用効率の高いマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を実現する。 - 特許庁 - A transparent conductive film is manufactured by performing sputtering using the manufactured sputtering target.
作製したスパッタリングターゲットを用いてスパッタリングを実施して、透明導電膜を作製する。 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD, SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT APPARATUS
成膜方法、スパッタリング装置、スパッタリングターゲットおよび有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁 - TWO-DIMENSIONAL MAGNETRON SCANNING FOR FLAT PANEL SPUTTERING
フラットパネルスパッタリングの二次元マグネトロン走査 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET HAVING PROLONGED LIFE
延長された寿命を有するスパッタターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR PHOTOMAGNETIC DISK RECORDING FILM
光磁気ディスク記録膜用スパッタリングターゲット - 特許庁 - POWER SOURCE, POWER SOURCE FOR SPATTERING, AND SPUTTERING SYSTEM
電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置 - 特許庁 - The protective film is produced by a sputtering method.
該保護膜は、スパッタリング法で製造される。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM FOR OPTICAL DISK
光ディスク保護膜形成スパッタリングターゲット - 特許庁 - The sputtering target is composed of an Nb material.
Ｎｂ材からなるスパッタリングターゲットである。 - 特許庁 - OXIDE SINTERED COMPACT, AND SPUTTERING TARGET
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM EQUIPPED WITH MAGNETRON AND TARGET
マグネトロンおよびターゲットを備えたスパッタ装置 - 特許庁 - POWER SOURCE, POWER SOURCE FOR SPUTTER AND SPUTTERING DEVICE
電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS THEREFOR
反応性スパッタリング法とその成膜装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET WITH REMAINED COBALT OXIDE
コバルト酸化物が残留したスパッタリングターゲット - 特許庁 - INORGANIC MEMBRANE, ITS MANUFACTURING METHOD, PIEZOELECTRIC ELEMENT, LIQUID DISCHARGER, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS
無機膜とその製造方法、圧電素子、液体吐出装置、スパッタリングターゲット、及びスパッタリング装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET
Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET
Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR SPUTTERING AND ITS MANUFACTURING METHOD
スパッタリング用基板およびその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND ANTIREFLECTION FILM
スパッタ成膜方法及び反射防止膜 - 特許庁
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