「sputtering」を含む例文一覧(6532)

＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 130 131 次へ＞
  • MANUFACTURING METHOD OF IZO SPUTTERING TARGET
    ＩＺＯスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • TARGET DEVICE AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
    ターゲット装置及びマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING APPARATUS USING IT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    スパッタリングターゲット及びその製造方法これを用いたスパッタ装置、半導体装置 - 特許庁
  • COPPER SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR TFT, COPPER FILM FOR TFT, AND SPUTTERING METHOD
    ＴＦＴ用銅スパッタリングターゲット材、ＴＦＴ用銅膜、及びスパッタリング方法 - 特許庁
  • CATHODE ELECTRODE DEVICE AND SPUTTERING DEVICE
    カソード電極装置及びスパッタリング装置 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET MATERIAL COMPOSED OF CERAMICS-METAL COMPOSITE MATERIAL, AND SPUTTERING TARGET
    セラミックス−金属複合材料からなるスパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット - 特許庁
  • METHOD OF SPUTTERING CHROMIUM FOR BLACK MATRIX
    ブラックマトリクス用クロムのスパッタリング方法 - 特許庁
  • SPUTTERING METHOD, SPUTTERING APPARATUS, PIEZOELECTRIC ELEMENT MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID SPRAY HEAD
    スパッタリング方法、スパッタリング装置、圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッド - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC ELEMENT FILM
    圧電素子膜製造用スパッタリング装置 - 特許庁
  • ELECTRON BEAM WELDING FOR SPUTTERING TARGET TILE
    スパッタリングターゲットタイルの電子ビーム溶接 - 特許庁
  • The foolish sputtering of those who don't know hatred.
    憎しみを知らぬ者どもの戯言だ! - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • SPUTTERING CLOTH HAVING STERILIZING AND ANTIMICROBIAL EFFECT
    殺菌、抗菌効果のあるスパッタリング布 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
    スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
    スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND CARRIER FOR TRANSPORTING SUBSTRATE
    スパッタ装置および基板搬送用キャリア - 特許庁
  • COIL FOR GENERATING PLASMA AND FOR SPUTTERING
    プラズマの発生及びスパッタのためのコイル - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
    スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
  • FILM DEPOSITION APPARATUS, AND REVERSE SPUTTERING METHOD
    成膜装置および逆スパッタリング方法 - 特許庁
  • FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING, AND ITS DEVICE
    スパッタによる成膜方法とその装置 - 特許庁
  • SPUTTERING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD
    スパッタリング装置及び薄膜形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
    円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
    スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁
  • HIGH-DENSITY SPUTTERING UTILIZING FRONT END OF SHEET PLASMA
    シートプラズマ先端利用高密度スパタリング - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME
    スパッタリング装置およびその制御方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET FEW IN GENERATION OF PARTICLE
    パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, WIRING FILM AND ELECTRONIC PART
    スパッタターゲット、配線膜および電子部品 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING INGOT FOR SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲット用インゴットの製造方法 - 特許庁
  • UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD
    アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置及び方法 - 特許庁
  • BACKING PLATE AND SPUTTERING TARGET ASSEMBLY
    バッキングプレート及びスパッタリングターゲット組立体 - 特許庁
  • OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
    酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット - 特許庁
  • TARGET ASSEMBLY UNIT AND SPUTTERING APPARATUS
    ターゲット組立ユニットおよびスパッタリング装置 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
    円筒形スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, WIRING FILM, AND ELECTRONIC PART
    スパッタターゲット、配線膜および電子部品 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME
    スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁
  • CASCADE CONTROL OF REACTIVE SPUTTERING DEVICE
    反応性スパッタリング装置のカスケ—ド制御 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
    スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET AND FORMATION OF THIN FILM
    スパッタリングターゲット及び薄膜形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING Ru SPUTTERING TARGET MATERIAL
    Ｒｕスパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING EQUIPMENT AND THIN FILM FORMATION
    スパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PREPARING ALRu SPUTTERING TARGET
    ＡｌＲｕスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • MAGNET UNIT AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
    磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
  • MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD
    マグネトロンスパッタリング成膜装置及び方法 - 特許庁
  • LOW VOLTAGE SPUTTERING FOR LARGE AREA SUBSTRATE
    大面積基板用の低電圧スパッタリング - 特許庁
  • SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
    スパッタリング装置及び薄膜製造方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET HARDLY CAUSING GENERATION OF PARTICLE
    パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット - 特許庁
  • METHOD OF PRODUCING Co BASED SPUTTERING TARGET
    Ｃｏ系スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • THIN FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM
    薄膜形成方法及びスパッタリング装置 - 特許庁
  • SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD
    スパッタリング装置及び薄膜形成方法 - 特許庁
  • ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET
    導電性フィルム、これを用いたスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁
  • MANUFACTURE OF COPPER SPUTTERING TARGET, AND ASSEMBLY OF COPPER SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE
    銅スパッタ・ターゲットの製造方法および銅スパッタ・ターゲットと裏当て板の組立体 - 特許庁
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 130 131 次へ＞

例文データの著作権について