「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 130 131 次へ＞- SPUTTERING TARGET FOR FORMING ALUMINUM-ALLOY FILM
アルミニウム合金膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SINTERING FURNACE FOR SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION OF ITO SPUTTERING TARGET USING THE SAME
スパッタリングタ—ゲット用焼結炉およびそれを用いたＩＴＯスパッタリングタ—ゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, WIRING FILM, AND ELECTRONIC PARTS
スパッタリングターゲット、配線膜および電子部品 - 特許庁 - ITO SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION
ＩＴＯスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD, AND DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL
スパッタリング装置及びスパッタリング方法、プラズマディスプレイパネルの製造装置及び製造方法 - 特許庁 - Ni-Mo BASED ALLOY SPUTTERING TARGET PLATE
Ｎｉ−Ｍｏ系合金スパッタリングターゲット板 - 特許庁 - ELASTOMER BONDING OF LARGE AREA SPUTTERING TARGET
大面積スパッタリングターゲットのエラストマー接着 - 特許庁 - FERROMAGNETIC SPUTTERING TARGET, MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
強磁性体スパッタリングターゲット、マグネトロンスパッタリング装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用タングステンターゲットの製造方法 - 特許庁 - Ir SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING Ir SPUTTERING TARGET
薄膜形成用Ｉｒスパッタリングターゲット材およびＩｒスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - Cr-Mn ALLOY SPUTTERING TARGET
Ｃｒ−Ｍｎ合金スパッタリング用ターゲット材 - 特許庁 - HIGH PURITY SR(X)BI(Y)TA(2)O(5+X+3Y/2) SPUTTERING TARGET MATERIAL
高純度ＳｒｘＢｉｙＴａ２Ｏ５＋ｘ＋３ｙ／２スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND OPTICAL MEMBER
反応性スパッタリング方法及び光学部材 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF THIN FILM
スパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁 - COOLED BACKING PLATE FOR SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET COMPRISING A PLURALITY OF BACKING PLATES
スパッタターゲットのための冷却されたバックプレートおよび複数のバックプレートから成るスパッタターゲット - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM
スパッタ装置及び光情報記録媒体 - 特許庁 - This RF sputtering device is a device for applying RF sputtering to a wafer 21.
本発明に係るＲＦスパッタ装置は、ウエハ２１にＲＦスパッタ処理を行う装置である。 - 特許庁 - To provide a sputtering target capable of suppressing the occurrence of abnormal discharge even if an IGZO sputtering target is used in DC sputtering.
ＩＧＺＯスパッタリングターゲットをＤＣスパッタリングで使用しても、異常放電の発生を抑制できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
スパッタリング成膜装置及び成膜方法 - 特許庁 - FORMING METHOD OF FORMED BODY FOR SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット用成型体の成型方法 - 特許庁 - Respective layers are formed by a sputtering method.
各めっき層ともスパッタリング法で形成する。 - 特許庁 - FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS FOR THIN FILM COMPOSITE MEMBRANE
複層膜用対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁 - Nb SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Ｎｂスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL DISK PROTECTIVE FILM
光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL DISK RECORDING FILM
光ディスク記録膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - BACKING PLATE, TARGET DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS
バッキングプレート、ターゲット装置及びスパッタリング装置 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL DISK AND SPUTTERING DEVICE
光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - OPTICAL DISK-SUPPLYING DEVICE TO SPUTTERING DEVICE
スパッターリング装置への光ディスク供給装置 - 特許庁 - SPUTTERING SOURCE, FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
スパッタ源、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁 - MAGNETIC CONTROL SPUTTERING TARGET STRUCTURE AND EQUIPMENT
磁気制御スパッタリング・ターゲット構造及び設備 - 特許庁 - EXTERNAL CATHODE ELECTRODE MOUNTED TYPE SPUTTERING SYSTEM
エクスターナル・カソード電極搭載型スパッタ装置 - 特許庁 - OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET
光情報記録媒体及びスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM
スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET OF ZnO AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
ＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - ITO SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET MATERIAL
ＩＴＯ焼結体及びスパッタリングターゲット材 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
スパッタ成膜方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - The sputtering apparatus includes the target structure.
当該ターゲット構造を有するスパッタリング装置。 - 特許庁 - ROTATING MAGNET, AND INLINE TYPE SPUTTERING SYSTEM
回転磁石およびインライン型スパッタリング装置 - 特許庁 - THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS
薄膜の製造方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD THEREFOR
真空スパッタリング装置とその蒸着方法 - 特許庁 - FLAT DISPLAY PANEL AND Cu-SPUTTERING TARGET
平面表示パネル及びＣｕスパッタリングターゲット - 特許庁 - Ta SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD
Ｔａスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR USE IN FORMING TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM
透明導電膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - POWER COUPLER FOR HIGH-POWER SPUTTERING
高電力スパッタリングのための電力結合器 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM PRODUCTION
情報記録媒体生産用のスパッタ装置 - 特許庁 - TANTALUM SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁 - FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING AND APPARATUS THEREFOR
ガスフロースパッタリング成膜方法及び装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK, AND SPUTTERING SYSTEM
光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM
光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - OXIDE SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET ASSEMBLY
酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 - 特許庁
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