「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 130 131 次へ＞- RF SPUTTERING DEVICE
ＲＦスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET
スパッタリング用ターゲット - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
マグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - IONIZED SPUTTERING APPARATUS
イオン化スパッタ装置 - 特許庁 - METAL MASK FOR SPUTTERING
スパッタ用メタルマスク - 特許庁 - COPPER SPUTTERING TARGET
銅スパッタリングタ—ゲット - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD
スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁 - IN-LINE SPUTTERING APPARATUS
インラインスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD AND REACTIVE SPUTTERING SYSTEM
反応性スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - ION-BEAM SPUTTERING APPARATUS
イオンビームスパッタ装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタ方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
マグネトロンスパッター装置 - 特許庁 - PLASMA SPUTTERING SYSTEM
プラズマスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING SYSTEM
スパッタ成膜方法およびスパッタ装置 - 特許庁 - BIAS SPUTTERING APPARATUS
バイアススパッタリング装置 - 特許庁 - CATHODIC SPUTTERING APPARATUS
カソードスパッタリング装置 - 特許庁 - BIAS SPUTTERING DEVICE
バイアススパッタリング装置 - 特許庁 - TANTALUM SPUTTERING TARGET
タンタルスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING SOURCE, SPUTTERING FILM DEPOSITION APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ源、スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッターリングターゲット材 - 特許庁 - SELF-SPUTTERING METHOD
セルフスパッタリング方法 - 特許庁 - ION BEAM SPUTTERING APPARATUS
イオンビームスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING ELECTRODE AND SPUTTERING APPARATUS PROVIDED WITH THE SPUTTERING ELECTRODE
スパッタ電極及びスパッタ電極を備えたスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING METHOD
スパッタリング用ターゲット及びスパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリングターゲットの製造方法、スパッタリングターゲット、スパッタリング装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING EQUIPMENT
マグネトロンスパッター装置 - 特許庁 - ION BEAM SPUTTERING SYSTEM
イオンビームスパッタ装置 - 特許庁 - MULTICOLOR SPUTTERING APPARATUS
多色スパッタ塗装機 - 特許庁 - POWER SUPPLY, SPUTTERING POWER SUPPLY AND SPUTTERING APPARATUS
電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SOURCE AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
マグネトロンスパッタ源及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - ECR SPUTTERING APPARATUS
ＥＣＲスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION APPARATUS
スパッタ成膜装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET SYSTEM
スパッタリングターゲット装置 - 特許庁 - VANADIUM SPUTTERING TARGET
バナジウムスパッタリングターゲット - 特許庁 - POWER SOURCE, SPUTTERING POWER SOURCE, AND SPUTTERING DEVICE
電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE AND SPUTTERING APPARATUS
マグネトロンスパッタ電極及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING TREATMENT METHOD
スパッタリング装置及びスパッタリング処理方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD THEREOF
スパッタリング装置及びそのスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND ITS SPUTTERING DEVICE
スパッタリングタ—ゲットおよびそのスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
スパッタリングターゲット及びマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING CATHODE AND SPUTTERING APPARATUS
マグネトロンスパッタリングカソード及びスパッタリング装置 - 特許庁 - MAGNETIC CIRCUIT FOR SPUTTERING
スパッタ用磁気回路 - 特許庁 - TUBULAR SPUTTERING TARGET
管状のスパッタターゲット - 特許庁 - IN-LINE SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD
インラインスパッタリング装置及びスパッタリング方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法 - 特許庁 - DC SPUTTERING SYSTEM
ＤＣスパッタリング装置 - 特許庁
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