「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 130 131 次へ＞- HIGH FREQUENCY SPUTTERING DEVICE
高周波スパッタリング装置 - 特許庁 - METHOD AND EQUIPMENT FOR SPUTTERING
スパッタ方法及び装置 - 特許庁 - MAGNET ROTATING SPUTTERING SYSTEM
マグネット回転スパッタ装置 - 特許庁 - HIGH-STRENGTH SPUTTERING TARGET
高強度スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPLIT TYPE SPUTTERING TARGET
分割型スパッタリングターゲット - 特許庁 - LOW OXYGEN CONTAINING SPUTTERING TARGET
低酸素スパッタリングターゲット - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリングターゲットの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET
銅合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁 - MAGNETRON UNIT OF SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング装置のマグネトロンユニット及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING SYSTEM PROVIDED WITH THE TARGET
スパッタリングターゲットおよびそれを具備するスパッタリング装置 - 特許庁 - ARC INTERRUPTING CIRCUIT, POWER SUPPLY FOR SPUTTERING, AND SPUTTERING DEVICE
アーク遮断回路、スパッタ用電源及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS FOR USING THE SAME
スパッタリング方法及びそれを用いるスパッタリング装置 - 特許庁 - ION BEAM SPUTTERING APPARATUS, ION BEAM SPUTTERING METHOD, AND ION GUN
イオンビームスパッタ装置、イオンビームスパッタ方法及びイオンガン - 特許庁 - POWDER FOR SINTERING SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット焼結用粉末及びスパッタリングターゲット - 特許庁 - TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING, AND MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
マグネトロンスパッタリング用ターゲット及びマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL
焼結スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET WITH LOW OXYGEN CONTENT
低酸素スパッタリングターゲット - 特許庁 - MAGNETIC CIRCUIT FOR SPUTTERING APPARATUS
スパッタ装置用磁気回路 - 特許庁 - FORMATION OF SPUTTERING FILM
スパッター膜の形成方法 - 特許庁 - TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタリング用ターゲット - 特許庁 - POWER SOURCE DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング用電源装置 - 特許庁 - MAGNETIC CIRCUIT FOR SPUTTERING DEVICE
スパッタ装置用磁気回路 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND DEVICE
スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - SnO2-BASED SPUTTERING TARGET
ＳｎＯ２系スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTER SOURCE OF SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング装置のスパッタ源 - 特許庁 - FILM DEPOSITION SOURCE, AND SPUTTERING SYSTEM
成膜源、スパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND METHOD
スパッタリング装置及び方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND SYSTEM
スパッタリング方法及び装置 - 特許庁 - ROTARY ARM TYPE SPUTTERING DEVICE
回転アーム式スパッタ装置 - 特許庁 - NICKEL ALLOY SPUTTERING TARGET
ニッケル合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - MANGANESE ALLOY SPUTTERING TARGET
マンガン合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - HOLDER FOR SPUTTERING OF OPTICAL DISK SUBSTRATE AND SPUTTERING METHOD
光ディスク基板のスパッタ用ホルダ及びスパッタリング方法 - 特許庁 - ITO SPUTTERING TARGET MATERIAL
ＩＴＯスパッタリングタ—ゲット材 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET OBTAINED THEREFROM
スパッタリングターゲット材およびこれから得られるスパッタリングターゲット - 特許庁 - DC MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
直流マグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTER SOURCE OF SPUTTERING DEVICE
スパッタリング装置のスパッタ源 - 特許庁 - PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
プレーナーマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - BIAS SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND BIAS SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM
バイアススパッタ成膜方法及びバイアススパッタ成膜装置 - 特許庁 - ZnS POWDER FOR SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット用ＺｎＳ粉末及びスパッタリングターゲット - 特許庁 - TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタリング用ターゲット及びマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング装置および反応性スパッタリング方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング装置及び反応性スパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND METHOD
スパッタリング装置および方法 - 特許庁 - METHOD OF DESIGNING SPUTTERING SYSTEM
スパッタ装置の設計方法 - 特許庁 - FIXING DEVICE FOR SPUTTERING SOURCE
スパッタリング源用固定装置 - 特許庁 - Cu-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｃｕ系スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND DEVICE
スパッタリング方法とその装置 - 特許庁 - FACING TARGET SPUTTERING SYSTEM
対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
