「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 130 131 次へ＞- TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタ用ターゲット - 特許庁 - MOSAIC SPUTTERING TARGET
モザイク型スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING METHOD, AND OPTICAL MULTILAYER FILM
スパッタ装置、スパッタ方法、及び光学多層膜 - 特許庁 - MULTITARGET SPUTTERING APPARATUS
マルチターゲットスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING SYSTEM USING IT
スパッタリングターゲットとそれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING FILM FORMING DEVICE
スパッタリング成膜装置 - 特許庁 - DEPOSITION SOURCE AND SPUTTERING APPARATUS
成膜源、スパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, SUBSTRATE SUPPORTING DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング方法、基板保持装置、スパッタリング装置 - 特許庁 - POWER SOURCE, SOURCE FOR SPUTTERING, AND SPUTTERING DEVICE
電源、スパッタリング用電源及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING EQUIPMENT USING THE SAME
スパッタリングターゲットとそれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD
マグネトロンスパッタリング装置及びそのスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING CATHODE AND SPUTTERING APPARATUS USING THE SAME
スパッタリングカソード及びそれを用いたスパッタ装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE
マグネトロンスパッタリング方法とマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - TITANIUM TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用チタンターゲット - 特許庁 - ITO SPUTTERING TARGET
ＩＴＯスパッタリングターゲット - 特許庁 - ECR SPUTTERING APPARATUS
ＥＣＲスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MANUFACTURING METHOD, SPUTTERING TARGET CLEANING METHOD, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタリングターゲットの製造方法、スパッタリングターゲットの洗浄方法、スパッタリングターゲット及びスパッタリング装置 - 特許庁 - MULTIDIVIDED SPUTTERING TARGET
多分割スパッタリングタ—ゲット - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION APPARATUS AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM AND SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING
スパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法 - 特許庁 - ELECTRON-BEAM SPUTTERING DEVICE
電子ビームスパッタリング装置 - 特許庁 - Mo SPUTTERING TARGET MATERIAL
Ｍｏスパッタリングターゲット材 - 特許庁 - PENNING TYPE SPUTTERING SYSTEM
ペニング型スパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET ASSEMBLY
スパッタリングターゲット組立体 - 特許庁 - SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング成膜方法 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING DEVICE
反応性スパッタリング装置 - 特許庁 - STRUCTURE OF SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの構造 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING TARGET AND MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
マグネトロンスパッタリングターゲット及びマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁 - METHOD FOR SPUTTERING GLASS SUBSTRATE AND SPUTTERING SYSTEM
ガラス基板のスパッタリング方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET MEMBER
スパッタリング用ターゲットおよびスパッタリング用ターゲット部材 - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING APPARATUS
反応性スパッタリング装置 - 特許庁 - Al BASE SPUTTERING TARGET
Ａｌ系スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND METHOD
スパッタ装置及び方法 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND DEVICE
スパッタ方法及び装置 - 特許庁 - BACKING PLATE FOR SPUTTERING
スパッタリング用バッキングプレート - 特許庁 - REACTIVE SPUTTERING METHOD
反応性スパッタリング方法 - 特許庁 - COMPOSITE TYPE SPUTTERING SYSTEM AND COMPOSITE TYPE SPUTTERING METHOD
複合型スパッタ装置及び複合型スパッタ方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング方法と装置 - 特許庁 - END POINT DETECTION MECHANISM FOR SPUTTERING SOURCE, AND SPUTTERING APPARATUS
スパッタ源終端検出機構およびスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
スパッタリングターゲット及びこれを用いたスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET ASSEMBLED BODY
スパッタリングターゲット組立体 - 特許庁 - ECR SPUTTERING APPARATUS
ＥＣＲスパッタ処理装置 - 特許庁 - DEVICE FOR REACTION SPUTTERING
反応スパッタリング用デバイス - 特許庁 - SPUTTERING TARGET JOINED BODY
スパッタリングターゲット接合体 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタ装置及び方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲットの製造方法及びスパタリングターゲット - 特許庁 - CAROUSEL TYPE SPUTTERING SYSTEM
カルーセル型スパッタリング装置 - 特許庁 - CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
円筒形スパッタリングターゲット - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING FEED SOURCE
マグネトロンスパッタ供給源 - 特許庁
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