「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 130 131 次へ＞- FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING METHOD
スパッタリング法による成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE HAVING DEFLECTING SYSTEM
偏向器を有するスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタ装置および成膜方法 - 特許庁 - DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM
成膜方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - DC POWER UNIT FOR SPUTTERING
スパッタリング用直流電源装置 - 特許庁 - SPUTTERING CATHODE BY MAGNETRON PRINCIPLE
マグネトロン原理によるスパッタリングカソ—ド - 特許庁 - ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET
ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲット - 特許庁 - to discuss a matter with spluttering violence―with sputtering vehemence
口角泡を飛ばして論ずる - 斎藤和英大辞典 - ROLL COATER TYPE CONTINUOUS SPUTTERING APPARATUS
ロールコーター式連続スパッタリング装置 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING DEVICE FOR FERROMAGNETIC SUBSTANCE
強磁性体のマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING CATHODE FOR COATING PROCESS
コーティングプロセスのためのスパッタ陰極 - 特許庁 - FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM
成膜方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD
スパッタリング装置および製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION
スパッタタ—ゲット及びその製造方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING METHOD WITH MULTIPLEX MAGNETIC POLES
多重磁極マグネトロンスパッタ方法 - 特許庁 - SPUTTERING CATHODE AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリングカソード及び成膜方法 - 特許庁 - TARGET UNIT FOR SPUTTERING FILM DEPOSITION
スパッタリング成膜用のターゲットユニット - 特許庁 - TESTING METHOD OF TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲットの検査方法 - 特許庁 - BACK FACE COOLING GAS FOR SELF-SPUTTERING
セルフスパッタリング用裏面冷却ガス - 特許庁 - Ti-W TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用Ｔｉ−Ｗターゲット - 特許庁 - CONTROL METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING
反応性スパッタリングの制御方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND WATER COOLED CATHODE
スパッタリング装置および水冷カソード - 特許庁 - WIRING STRUCTURE AND SPUTTERING TARGET
配線構造およびスパッタリングターゲット - 特許庁 - MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
マグネトロンスパッタ装置用磁石ユニット - 特許庁 - WIRING, ELECTRODE, AND SPUTTERING TARGET
配線・電極及びスパッタリングターゲット - 特許庁 - Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET
Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
スパッタリング用分割ターゲット装置、及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁 - To provide a magnetron sputtering system, and to provide a magnetron sputtering method.
マグネトロンスパッタリング装置及びそのマグネトロンスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF THIN FILM DEPOSITION BY MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM FREE FROM SPUTTERING CRACK
スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM CAPABLE OF DIRECT CURRENT SPUTTERING
直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - To provide a sputtering target suppressing the generation of nodules during sputtering.
スパッタ時のノジュールの発生を抑制できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND RECORDING MATERIAL OF HARD DISK FORMED FROM THE SPUTTERING TARGET
スパッタターゲットおよびスパッタターゲットから形成されるハードディスクの記録材 - 特許庁 - RUTHENIUM TARGET FOR SPUTTERING, AND METHOD OF PRODUCING RUTHENIUM TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用ルテニウムターゲット及びスパッタリング用ルテニウムターゲットの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, JOINT TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
スパッタリングターゲット、並びに接合型スパッタリングターゲット及びその作製方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM CAPABLE OF DIRECT CURRENT SPUTTERING
直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR DEPOSIT OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM FREE FROM SPUTTERING CRACK
スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME
スパッタリング用分割ターゲット装置及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF OPTICAL LOGGING PROTECTION FILM CAPABLE OF DC SPUTTERING
直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM FREE FROM SPUTTERING CRACK
スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - ION-BEAM SPUTTERING APPARATUS AND ION-BEAM SPUTTERING METHOD USING THE SAME
イオンビームスパッタリング装置および該装置を用いたイオンビームスパッタリング方法 - 特許庁 - MAGNETRON SPUTTERING CATHODE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE
マグネトロンスパッタカソード、マグネトロンスパッタ装置及び磁性デバイスの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - MAGNETIC FIELD GENERATOR FOR SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング装置の磁界発生装置 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置及び成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
スパッタ装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
スパッタリングのための方法及び装置 - 特許庁
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「斎藤和英大辞典」斎藤秀三郎著、日外アソシエーツ辞書編集部編
