ION BEAM SPUTTERING FILM FORMING DEVICE イオンビームスパッタ成膜装置 - 特許庁
TARGET HOLDER FOR MAGNETRON SPUTTERING マグネトロンスパッタ用ターゲットホルダー - 特許庁
FERROMAGNETIC MATERIAL SPUTTERING TARGET 強磁性材スパッタリングターゲット - 特許庁
PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM 平板マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING スパッタリング方法及び装置 - 特許庁
ION BEAM SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM イオン・ビ—ム・スパッタ付着システム - 特許庁
CATHODE FOR MAGNETRON SPUTTERING EQUIPMENT マグネトロンスパッタ装置用カソード - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING スパッタリング方法及び装置 - 特許庁
POWER CIRCUIT FOR SPUTTERING SYSTEM スパッタ装置用電源回路 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR THE SPUTTERING TARGET, AND ALUMINUM WIRING FILM AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SPUTTERING TARGET スパッタリングターゲットとその製造方法、およびそれを用いたAl配線膜と電子部品 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING マグネトロンスパッタ方法と装置 - 特許庁
FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS 対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD, AND PROGRAM FOR CONTROLLING SPUTTERING スパッタリング装置及び方法並びにスパッタリング制御用プログラム - 特許庁
BACKING PLATE FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS マグネトロンスパッタ装置用バッキングプレートおよびマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
CARRYING BOX OF SPUTTERING TARGET スパッタリングターゲット用運搬箱 - 特許庁
SPUTTERING METHOD, AND ITS DEVICE スパッタリング方法とその装置 - 特許庁
SPUTTERING METHOD AND APPARATUS スパッタ方法及びスパッタ装置 - 特許庁
SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING TARGET TO BE USED FOR THE METHOD スパッタリング方法およびそれに用いられるスパッタリングターゲット - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING スパッタリング方法とその装置 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD OF SPUTTERING スパッタリング装置および方法 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREOF スパッタリング装置とその方法 - 特許庁
SPUTTERING METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR スパッタ方法及びその装置 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING COATING FILM BY SPUTTERING スパッタリング装置及びスパッタリングによる被膜の形成方法 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS, DEVICE FOR TRANSFERRING MAGNET MEMBER, AND SPUTTERING METHOD スパッタリング装置、磁石部材移送装置、及びスパッタリング方法 - 特許庁
The inorganic coating layer is a sputtering film formed by a sputtering process. 無機コート層はスパッタ法で形成されたスパッタ膜である。 - 特許庁
SPACER FOR SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING APPARATUS USING IT スパッタリング装置用スペーサ及びこれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁
SPUTTERING FILM FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS スパッタ成膜方法、電子素子の製造方法、スパッタ装置 - 特許庁
POWER SUPPLY CIRCUIT FOR SPUTTERING APPARATUS スパッタ装置用電源回路 - 特許庁
ROTARY MAGNET TYPE SPUTTERING SYSTEM 回転マグネット式スパッタ装置 - 特許庁
BACKING PLATE AND SPUTTERING APPARATUS バッキングプレート及びスパッタ装置 - 特許庁
To provide a sputtering target capable of improving the using efficiency of a conductive target at a sputtering process, a sputtering chamber including the sputtering target and a sputtering method. スパッタ工程において導電性ターゲットの使用効率を向上できるスパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁
FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING スパッタリングによる成膜方法 - 特許庁
ZINC OXIDE BASED SPUTTERING TARGET 酸化亜鉛系スパッタリングターゲット - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING スパッタ方法及びスパッタ装置 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING スパッタ装置及びスパッタ方法 - 特許庁
SPUTTERING TREATING METHOD AND DEVICE スパッタリング処理方法と装置 - 特許庁
SPUTTERING DEVICE AND METHOD スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM マグネトロンスパッタリング成膜装置 - 特許庁