「sputtering」を含む例文一覧(6532)

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  • ION BEAM SPUTTERING FILM FORMING DEVICE
    イオンビームスパッタ成膜装置 - 特許庁
  • TARGET HOLDER FOR MAGNETRON SPUTTERING
    マグネトロンスパッタ用ターゲットホルダー - 特許庁
  • FERROMAGNETIC MATERIAL SPUTTERING TARGET
    強磁性材スパッタリングターゲット - 特許庁
  • PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
    平板マグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
    スパッタリング方法及び装置 - 特許庁
  • ION BEAM SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM
    イオン・ビ—ム・スパッタ付着システム - 特許庁
  • CATHODE FOR MAGNETRON SPUTTERING EQUIPMENT
    マグネトロンスパッタ装置用カソード - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
    スパッタリング方法及び装置 - 特許庁
  • POWER CIRCUIT FOR SPUTTERING SYSTEM
    スパッタ装置用電源回路 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR THE SPUTTERING TARGET, AND ALUMINUM WIRING FILM AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲットとその製造方法、およびそれを用いたAl配線膜と電子部品 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING
    マグネトロンスパッタ方法と装置 - 特許庁
  • FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS
    対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET, PREPARING METHOD THEREFOR AND SPUTTERING METHOD
    スパッタリングターゲット及びその調製方法ならびにスパッタ方法 - 特許庁
  • SINGLE SUBSTRATE TYPE MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
    枚葉式マグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
  • POWER SUPPLY FOR ELECTRICAL DISCHARGE, POWER SUPPLY FOR SPUTTERING, AND SPUTTERING DEVICE
    放電用電源、スパッタリング用電源及びスパッタリング装置 - 特許庁
  • SPUTTERING DEVICE CAPABLE OF EASILY JOINING SPUTTERING TARGET MATERIAL
    スパッタリングターゲット材料の簡易接合可能なスパッタリング装置 - 特許庁
  • CYLINDRICAL MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM
    円筒状マグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
  • REACTIVE SPUTTERING APPARATUS, AND REACTIVE SPUTTERING METHOD
    反応性スパッタリング装置および反応性スパッタリングの方法 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
    スパッタ装置、スパッタ法及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
  • MAGNETIC CIRCUIT FOR SPUTTERING EQUIPMENT
    スパッタリング装置用磁気回路 - 特許庁
  • SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING METHOD, AND ORGANIC EL ELEMENT
    スパッタリング装置及びスパッタリング方法並びに有機EL素子 - 特許庁
  • SPUTTERING TARGET COOLING STRUCTURE
    スパッタリングターゲット冷却構造 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND METHOD, AND PROGRAM FOR CONTROLLING SPUTTERING
    スパッタリング装置及び方法並びにスパッタリング制御用プログラム - 特許庁
  • BACKING PLATE FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
    マグネトロンスパッタ装置用バッキングプレートおよびマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
  • CARRYING BOX OF SPUTTERING TARGET
    スパッタリングターゲット用運搬箱 - 特許庁
  • SPUTTERING METHOD, AND ITS DEVICE
    スパッタリング方法とその装置 - 特許庁
  • SPUTTERING METHOD AND APPARATUS
    スパッタ方法及びスパッタ装置 - 特許庁
  • SPUTTERING METHOD AND SPUTTERING TARGET TO BE USED FOR THE METHOD
    スパッタリング方法およびそれに用いられるスパッタリングターゲット - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
    スパッタリング方法とその装置 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD OF SPUTTERING
    スパッタリング装置および方法 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND METHOD THEREOF
    スパッタリング装置とその方法 - 特許庁
  • SPUTTERING METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR
    スパッタ方法及びその装置 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING COATING FILM BY SPUTTERING
    スパッタリング装置及びスパッタリングによる被膜の形成方法 - 特許庁
  • SPUTTERING APPARATUS, DEVICE FOR TRANSFERRING MAGNET MEMBER, AND SPUTTERING METHOD
    スパッタリング装置、磁石部材移送装置、及びスパッタリング方法 - 特許庁
  • The inorganic coating layer is a sputtering film formed by a sputtering process.
    無機コート層はスパッタ法で形成されたスパッタ膜である。 - 特許庁
  • SPACER FOR SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING APPARATUS USING IT
    スパッタリング装置用スペーサ及びこれを用いたスパッタリング装置 - 特許庁
  • SPUTTERING FILM FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS
    スパッタ成膜方法、電子素子の製造方法、スパッタ装置 - 特許庁
  • POWER SUPPLY CIRCUIT FOR SPUTTERING APPARATUS
    スパッタ装置用電源回路 - 特許庁
  • ROTARY MAGNET TYPE SPUTTERING SYSTEM
    回転マグネット式スパッタ装置 - 特許庁
  • BACKING PLATE AND SPUTTERING APPARATUS
    バッキングプレート及びスパッタ装置 - 特許庁
  • To provide a sputtering target capable of improving the using efficiency of a conductive target at a sputtering process, a sputtering chamber including the sputtering target and a sputtering method.
    スパッタ工程において導電性ターゲットの使用効率を向上できるスパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁
  • FILM FORMING METHOD BY SPUTTERING
    スパッタリングによる成膜方法 - 特許庁
  • ZINC OXIDE BASED SPUTTERING TARGET
    酸化亜鉛系スパッタリングターゲット - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING
    スパッタ方法及びスパッタ装置 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING
    スパッタ装置及びスパッタ方法 - 特許庁
  • SPUTTERING TREATING METHOD AND DEVICE
    スパッタリング処理方法と装置 - 特許庁
  • SPUTTERING DEVICE AND METHOD
    スパッタ装置およびスパッタ方法 - 特許庁
  • MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM
    マグネトロンスパッタリング成膜装置 - 特許庁
  • LASER BEAM PROCESSING SPUTTERING ADHESION PREVENTION
    レーザ加工スパッタ付着防止 - 特許庁
  • PLANETARY SPUTTERING APPARATUS
    プラネタリー方式のスパッタリング装置 - 特許庁
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