「sputtering」を含む例文一覧(6532)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 130 131 次へ＞- FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING APPARATUS
成膜方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS
スパッタリング方法及び成膜装置 - 特許庁 - AC POWER SUPPLY FOR SPUTTERING APPARATUS
スパッタリング装置用の交流電源 - 特許庁 - Ti-Al ALLOY SPUTTERING TARGET
Ｔｉ−Ａｌ合金スパッタリングターゲット - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING
マグネトロンスパッタリング方法および装置 - 特許庁 - TARGET PROTECTING METHOD AND SPUTTERING DEVICE
ターゲット保護方法及びスパッタ装置 - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF FILM
スパッタリング装置及び成膜方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING TANTALUM SPUTTERING TARGET
タンタルスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING TARGET FOR SPUTTERING
スパッタリング用ターゲットの製造方法 - 特許庁 - Ta MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
マグネトロンスパッタリング装置用Ｔａ材 - 特許庁 - MoTi ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL
ＭｏＴｉ合金スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - POSITIONING DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS
位置調整装置およびスパッタ装置 - 特許庁 - OXIDE SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET
酸化物焼結体スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING DEVICE AND METHOD
スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL
スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット材用アルミニウム材の製造方法及びスパッタリングターゲット材用アルミニウム材 - 特許庁 - To provide a self-sputtering method capable of stable shift to self- sputtering.
セルフスパッタリングへ安定して移行可能なセルフスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND LAYOUT THEREFOR
スパッタリングターゲット及びその配置方法 - 特許庁 - OPPOSING TARGET SPUTTERING APPARATUS AND METHOD
対向ターゲットスパッタ装置及び方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING SPUTTERING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING SYSTEM
スパッタリング成膜方法、電子デバイスの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE MATERIAL
スパッタリングターゲットおよびバッキングプレート材 - 特許庁 - SPUTTERING METHOD, SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR
スパッタリング方法、スパッタリング装置及び電子写真感光体の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM-FORMING METHOD
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁 - To provide a sputtering target having excellent target strength, and a high sputtering rate.
ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET MATERIAL OF GLASSY CARBON
ガラス状炭素製スパッタリングターゲット材 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET SUPERIOR IN SPUTTERING CRACK RESISTANCE FOR FORMING PHASE-CHANGE MEMORY FILM
耐スパッタ割れ性に優れた相変化型メモリー膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SOLDER ALLOY FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME
スパッタリングターゲット製造用はんだ合金およびこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁 - MASK ARRANGING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS
マスク配設装置およびスパッタリング装置 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING In SPUTTERING TARGET
Ｉｎスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁 - To provide a sputtering apparatus capable of constantly controlling the film deposition rate without controlling the sputtering power, the sputtering gas partial pressure, the sputtering gas flow rate or the like.
スパッタ電力、スパッタガス分圧、スパッタガス流量等の制御を行うことなく成膜速度を一定に制御することを可能にしたスパッタ装置を提供する。 - 特許庁 - SPUTTERING USING COOLED TARGET
冷却したターゲットを用いたスパッタリング - 特許庁 - SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM WHICH ENABLES HIGH-SPEED SPUTTERING
高速スパッタリングが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD
スパッタリング装置、および成膜方法 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR SPUTTERING
スパッタリング装置およびスパッタリング方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR SPUTTERING
スパッタリング方法およびスパッタリング装置 - 特許庁 - To provide a high-quality titanium target for sputtering, generating no crack or break even in high-power sputtering (high-speed sputtering), and capable of stabilizing the sputtering characteristics.
ハイパワースパッタリング（高速スパッタリング）時においても亀裂や割れの発生がなく、スパッタリング特性を安定させ、高品質のスパッタリング用チタンターゲットを提供する。 - 特許庁 - ALUMINA SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION AND HIGH- FREQUENCY SPUTTERING DEVICE
アルミナ・スパッタリング・ターゲット及びその製造方法並びに高周波スパッタリング装置 - 特許庁 - ALUMINUM ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL
アルミニウム合金スパッタリングタ—ゲット材料 - 特許庁 - SOLDER ALLOY FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME
スパッタリングターゲット製造用はんだ合金、およびこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND FILM-FORMING METHOD
スパッタリングターゲットおよび成膜方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND CARRIER THEREFOR
スパッタ装置およびスパッタ装置用キャリア - 特許庁 - SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD
スパッタリング装置及び膜形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING DEPOSITED FILM BY SPUTTERING
スパッタによる堆積膜形成方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET HAVING HIGH MELTING POINT PHASE
高融点相を有するスパッタターゲット - 特許庁 - SPUTTERING APPARATUS AND ITS USE METHOD
スパッタリング装置及びその使用方法 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING TITANIUM MATERIAL FOR SPUTTERING
スパッタリング用チタン材の製造方法。 - 特許庁 - SUPERFINE CRYSTAL GRAIN COPPER SPUTTERING TARGET
超微細結晶粒銅スパッターターゲット - 特許庁 - MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD
モリブデン板材及びその製造方法 - 特許庁
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