はだかでんきゅうの英語

付加電装品箱９０の第１の面９７ａと第２の面９７ｂとには、付加電装箱９０内に付加基板９１を固定する止め具１００の屈曲部１０１と先端部１０２とを差し込むための穴部９６ａ，９６ｂがそれぞれ形成されている。例文帳に追加

Hole parts 96a and 96b for inserting the bent part 101 and the tip part 102 of the fixture 100 for fixing the additive substrate 91 into the additive electric equipment box 90 are formed on a first surface 97a and a second surface 97b of the additive electric equipment box 90, respectively. - 特許庁

電源供給装置５００は給電線１００から過電流遮断器６０を経て各分電路１０２Ａ〜１０２Ｃに電力を供給している。例文帳に追加

A power supply apparatus 500 supplies a power to each power distributing paths 102A to 102C via an overcurrent shut-off breaker 60 from a power feeding line 100. - 特許庁

供給電圧は、第１の動作周波数に対応する固定負荷電流を決定し、該固定負荷電流に対応する供給電圧を決定し、及び該供給電圧に基づき負荷に電力を供給することにより、低減されうる。例文帳に追加

The supply voltage may be reduced by determining a fixed load current that corresponds to a first operating frequency, determining a supply voltage that corresponds to the fixed load current, and then powering the load based on the supply voltage. - 特許庁

ウエハを静電吸着する静電吸着装置であって、ウエハ搬送手段からウエハを静電吸着させる手段へウエハを受け渡す時の静電吸着させる手段への印加電圧に対して、吸着動作が完了した後の印加電圧を少なくする。例文帳に追加

In the electrostatic adsorption device for electrostatically adsorbing a wafer, an application voltage after the completion of adsorbing operation is reduced relatively to an application voltage to a means for electrostatically adsorbing the wafer from a wafer conveying means at the time of delivering the wafer to the electrostatic adsorption means. - 特許庁

木割書は大工の秘伝・家伝であったが、江戸中期ころには木版本などで広く普及する。例文帳に追加

The kiwarisho was a trade secret and kaden (family tradition) of carpenters, but was spread widely by block book during the mid-Edo period.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

過電圧判定手段３９ｃ，４６ｃ，４０ｂ，４３ｂ，４２ｂにより過電圧であると判定されると、過電圧判定手段３９ｃ，４６ｃからの「Ｌ」レベルに切り換えられた過電圧信号ＶＳがマイコン３９ａ，４６ａの最優先割込みポートに夫々供給される。例文帳に追加

When overvoltage is judged by overvoltage judgement means 39c, 46c, 40b, 43b, 42b, an overvoltage signal VS switched to a "L" level from overvoltage judgement means 39c, 46c is respectively supplied to prime interruption port of microcomputers 39a, 46a. - 特許庁

荷電粒子照射装置１は、荷電粒子ビームを輸送する荷電粒子誘導手段１０６と、輸送されてきた荷電粒子ビームを整形して照射する荷電粒子照射手段１０９とを備えている。例文帳に追加

The charged particle irradiator 1 is equipped with a charged particle induction means 106 which transports a charged particle beam and a charged particle irradiation means 109 which shapes and applies the transported charged particle beam. - 特許庁

負荷電圧急変判断手段９、１０は、負荷電圧が急変すると推定されるときに積分要素４Ｃの積分値を、比例積分制御の追従性を高める方向に強制設定する。例文帳に追加

The load voltage quick change determining means 9, 10 is set forcibly, when sudden change of a load voltage is estimated, the integral value of an integral element 4C being in a direction which enhances the trackability of the proportional integral control. - 特許庁