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源ちゃんの英語
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「源ちゃん」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1002件
多チャンネル直流電源例文帳に追加
MULTICHANNEL DC POWER SOURCE - 特許庁
出力保護機能付きの光源用多チャンネル型電源例文帳に追加
MULTIPLE CHANNEL LIGHT SOURCE POWER SUPPLY WITH OUTPUT PROTECTION FUNCTION - 特許庁
LD光源2には直列4チャンネルLD光源を使用する。例文帳に追加
A serial 4-channel LD light source is used as the LD light source 2. - 特許庁
極端紫外光源装置及びチャンバ装置例文帳に追加
EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE AND CHAMBER DEVICE USED IN THE DEVICE - 特許庁
「ちゃんこ」の語源には諸説様々な話があり、現在でも特定されていない。例文帳に追加
There are many views on the origin of the word "chanko," and it has not been identified now.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
乾性ガスをチャンバに供給するためにその源をチャンバに結合することができる。例文帳に追加
In order to feed a dry gas to the chamber, the source of that dry gas can be coupled to the chamber. - 特許庁
ワイヤレスシステムの電源制御装置、マルチチャンネルオーディオ装置、及びその電源制御方法例文帳に追加
WIRELESS SYSTEM POWER CONTROLLER, MULTI-CHANNEL AUDIO SYSTEM AND POWER CONTROL METHOD THEREFOR - 特許庁
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「源ちゃん」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1002件
基板処理用の装置は、チャンバ、高周波電源及び低周波電源を有する。例文帳に追加
An apparatus for processing a substrate has a chamber, a high frequency power source, and a low frequency power source. - 特許庁
EUV光源の複数の特性を同一チャンバーにて評価する光源特性評価装置例文帳に追加
LIGHT SOURCE CHARACTERISTIC EVALUATION DEVICE IN WHICH A PLURALITY OF EUV LIGHT SOURCES ARE EVALUATED WITH THE SAME CHAMBER - 特許庁
プロセスチャンバへのシリコン源の流量に対するプロセスチャンバへのハロゲン源の流量は、実質的に0.5〜3.0である。例文帳に追加
The flow rate of the halogen source to the process chamber with reference to the flow rate of the silicon source to the process chamber is substantially in the range between 0.5 and 3.0. - 特許庁
2つの音源から2つのチャンネルを通る音響伝送を指定する例文帳に追加
designating sound transmission from two sources through two channels発音を聞く - 日本語WordNet
真空チャンバを小型化する上で有利なアーク蒸発源を提供する。例文帳に追加
To provide an arc evaporation source which is advantageous for miniaturizing a vacuum chamber. - 特許庁
多孔質膜形成装置は、チャンバ2と電子ビーム源3とを備えている。例文帳に追加
The porous forming apparatus comprises a chamber 2 and an electron beam source 3. - 特許庁
基板処理チャンバ(10)内にはトロイダルプラズマ源(28)がある。例文帳に追加
A toroidal plasma source (28) is located within a substrate processing chamber (10). - 特許庁
遠隔の励起源を用いる堆積チャンバーのクリーニング技術例文帳に追加
CLEANING TECHNOLOGY OF DEPOSITION CHAMBER USING REMOTE EXCITATION SOURCE - 特許庁
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