absolute calibration methodとは 意味・読み方・使い方

Absolute values of velocities in both an LSAW and an LSSCW are found by an absolute calibration method using the standard sample.例文帳に追加

標準試料を用いた絶対校正法により、LSAWとLSSCWの両方の速度の絶対値を求める。 - 特許庁

ABSOLUTE LASER WAVELENGTH CALIBRATION METHOD USING LIGHT-ABSORPTION LINE OF CARBON ATOM AND MOLECULAR OXYGEN, AND LASER SYSTEM SUBJECT TO ABSOLUTE WAVELENGTH CALIBRATION例文帳に追加

炭素原子や分子酸素の光吸収線を使用するレ—ザ絶対波長較正方法及び絶対波長較正可能なレ—ザシステム - 特許庁

RADIOACTIVITY ABSOLUTE MEASUREMENT METHOD BY LIQUID SCINTILLATION, AND CALIBRATION METHOD OF RADIOACTIVITY MEASURING DEVICE例文帳に追加

液体シンチレーションによる放射能絶対測定方法、および、放射能測定装置の校正方法 - 特許庁

ABSOLUTE CALIBRATION METHOD, INFORMATION PROCESSOR, COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM, INSTRUMENTATION MEASURING METHOD AND OPTICAL MEMBER例文帳に追加

絶対校正方法、情報処理装置、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、計測測定方法、及び光学部材 - 特許庁

To provide an absolute calibration method capable of absolutely calibrating the inherent face precision error of a face to be inspected by using an interference measuring system.例文帳に追加

干渉計測システムを用い、被検面の固有面精度誤差を絶対校正することのできる絶対校正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a calibration method for a light quantity detector capable of measuring absolute luminous energy, and a luminous energy measuring instrument using the light quantity detector.例文帳に追加

絶対光量が測定できる光量検出器の校正方法とその光量検出器を用いた光量測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simpler and highly-accurate PL quantum yield measurement method on a light emitting material and its device with measurement time shortened and measurement accuracy enhanced by using an integrating sphere, and with a calibration method used with uncertain assumption excluded therefrom in absolute sensitivity calibration on the whole of a measuring instrument.例文帳に追加

積分球を使用することにより測定時間の短縮および測定精度の向上を図り、かつ測定装置全体の絶対感度校正において不確かな仮定を排除した校正方法を用いることにより、より簡便で高精度な発光材料のＰＬ量子収率測定方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EB mask, a beam dimension calibrator, and a beam dimension calibrating method which can calibrate with high accuracy dimensional errors between the dimension calibration in the x-axis direction and the dimensional calibration in the y-axis direction and the absolute dimension of an electron beam.例文帳に追加

本発明は、ｘ軸方向の寸法校正とｙ軸方向の寸法校正との寸法誤差と電子ビームの絶対的な寸法を高精度に校正できるＥＢマスクならびにビーム寸法校正装置およびビーム寸法校正方法を提供することを課題とする。 - 特許庁