rare gas atomとは 意味・読み方・使い方

The rare gas plasma includes rare gases having an amount of atom closest to that of the metal atom for composing the metal film 103.例文帳に追加

希ガスプラズマは金属膜１０３を構成する金属原子の原子量に最も近い原子量を有する希ガスを含む。 - 特許庁

Further, the CVD or PVD of the FSG film is continued so that rare gas atoms can be taken into the film and a rare gas atom containing layer 3 is formed.例文帳に追加

さらに、希ガス原子が膜中に取り込まれるようにＦＳＧ膜のＣＶＤあるいはＰＶＤを続けて、希ガス原子含有層３を形成する。 - 特許庁

Next, the rare gas atom containing layer 3 and the FSG film 2 are etched in this order while using a resist 4, which is formed on the rare gas atom containing layer 3, for a mask.例文帳に追加

次に、希ガス原子含有層３上に形成したレジスト４をマスクに用いて、希ガス原子含有層３及びＦＳＧ膜２をこの順にエッチングする。 - 特許庁

Next, the copper film 7 and the barrier metal 6 are ground and removed in this order by a CMP method until the upper surface of the rare gas atom containing layer 3 is exposed.例文帳に追加

次に、ＣＭＰ法により、希ガス原子含有層３の上面が露出するまで銅膜７及びバリアメタル６をこの順に研磨除去する。 - 特許庁

In order to enhance an effect by only a modification by a plasma processing and only a modification by a thermal annealing processing, a plasma based on a processing gas containing a rare gas and an oxygen atom is used, and a modification processing which combines the plasma processing with the thermal annealing processing is performed on the insulating film, to modify the insulating film.例文帳に追加

プラズマ処理による改質のみ、熱アニール処理のみによる改質による効果を向上する為に、希ガスと酸素原子を含む処理ガスに基ずくプラズマを用いて、絶縁膜にプラズマ処理と熱アニール処理を組み合わせた改質処理を施すことで、該絶縁膜を改質する。 - 特許庁

This manufacturing method includes the steps of: preparing a mixture powder of an R-Co alloy powder which is an alloy powder of Co and R that is a rare-earth metal and a Ta powder so that the composition of the target comprises 5-10 atom% R, 5-10 atom% Ta and the balance Co with unavoidable impurities by a ratio; and hot-pressing the mixture powder in a vacuum or an inert-gas atmosphere.例文帳に追加

希土類金属をＲとしてＲ：５〜１０原子％、Ｔａ：５〜１０原子％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなるターゲット組成となる割合で、ＣｏとＲとの合金粉末であるＲ−Ｃｏ合金粉と、Ｔａ粉と、の混合粉末を作製する工程と、該混合粉末を真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程と、を有している。 - 特許庁