total reflection X-ray fluorescence methodとは 意味・読み方・使い方

TOTAL REFLECTION X-RAY FLUORESCENCE ANALYSIS METHOD AND ANALYSIS APPARATUS例文帳に追加

全反射蛍光Ｘ線分析方法および分析装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR TOTAL REFLECTION X-RAY FLUORESCENCE ANALYSIS例文帳に追加

全反射蛍光Ｘ線分析方法および装置 - 特許庁

SPECIMEN DRIP SUBSTRATE FOR TOTAL-REFLECTION FLUORESCENCE X-RAY ANALYSIS, TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYZER, AND TOTAL REFLECTION FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS METHOD例文帳に追加

全反射蛍光Ｘ線分析用試料点滴基板および全反射蛍光Ｘ線分析装置ならびに全反射蛍光Ｘ線分析方法 - 特許庁

To provide a total reflection fluorescence X-ray analyzer which can significantly improve the utilization efficiency and the measuring limit of X rays by using a secondary target method ideal for the analysis of light elements.例文帳に追加

軽元素分析に好適な２次ターゲット法を用いて、Ｘ線の利用効率および測定限界を大幅に向上できる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for simply and precisely determining sufficiency/insufficiency of minerals based on a detection result using a total reflection X-ray fluorescence analyser; and to provide a method for simply detecting harmful heavy metals accumulated in a human body.例文帳に追加

本発明は、全反射蛍光Ｘ線分析装置を用いた検査結果に基づいて、ミネラルの充足、不足を簡便に、正確に判別する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new total reflection X-ray fluorescence analysis method and a device for it capable of achieving an ultramicroanalysis with excellent energy resolution and detection efficiency.例文帳に追加

エネルギー分解能および検出効率ともに優れた、超微量分析を実現することのできる、新しい全反射蛍光Ｘ線分析法およびその装置を提供する。 - 特許庁

Before the metal impurities 16 existing on the surface of the silicon substrate 13 are quantitatively analyzed by a total reflection X-ray fluorescence method, hydrofluoric acid vapor is brought into contact with the surface of the substrate 13 for one to ten minutes.例文帳に追加

シリコン基板１３表面に存在する金属不純物１６を全反射蛍光Ｘ線分析法により定量分析する前に基板１３表面にフッ化水素酸蒸気を１〜１０分間接触させる。 - 特許庁