おおぐす３ちょうめの英語

銅からなる中心相１と、中心相１の表面の５０％以上を覆うタングステン相２とからなる粒塊３を１個以上含み、粒塊３の表面の９０％以上が銅または銅合金（銅被覆相４）で覆われている複合金属粉末粒子５からなることを特徴とするタングステン−銅複合粉末。例文帳に追加

The tungsten-copper composite powder is composed of composite metal powder particles 5 comprising one or more particulates 3 each consisting of a central phase 1 composed of copper and a tungsten phase 2 covering ≥50% of the surface of the central phase 1, and in which ≥90% of the surface in each particulate 3 is covered with copper or a copper alloy (copper covering phase 4). - 特許庁

合成樹脂基板１，２の表面に形成した電極３，４を絶縁保護膜５，６で覆うようにした液晶装置において、膜厚４００オングストローム以下の絶縁保護膜５ａ，６ａを複数層積層して所定膜厚の絶縁保護膜５，６を形成したことを特徴とする。例文帳に追加

In the liquid crystal device provided with electrodes 3, 4, formed on surfaces of synthetic resin substrates 1, 2 and covered with insulation protective layers 5, 6, the insulation protective layers 5, 6 with specified layer thickness are formed by laminating plural layers of insulation protective layers 5a, 6a with ≤400 Å layer thickness. - 特許庁

汚染物質の粒子の除去のために基板を洗浄液で洗浄する方法であって、前記洗浄液として、電気陰性度が前記汚染物質よりも大きく、分子容積が１３０Å^３以下である鎖状のハイドロフルオロカーボンおよびハイドロフルオロエーテルから選ばれる溶剤を用いることを特徴とする洗浄方法。例文帳に追加

The cleaning method for the substrate by using a cleaning solution so as to remove particles of a contaminant is characterized by using, as the cleaning solution, a solvent that is selected from among chain hydrofluorocarbon and hydrofluoroether each having an electrically negative level larger than the contaminant and a molecular volume of ≤130 Å^3. - 特許庁