ねつしーぶいでぃーそうちの英語

カーボンファイバの製造方法、基板カートリッジおよび熱ＣＶＤ装置例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCTION OF CARBON FIBER, SUBSTRATE CARTRIDGE, AND THERMAL CVD DEVICE - 特許庁

グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱ＣＶＤ装置例文帳に追加

THERMAL CVD APPARATUS FOR FORMING GRAPHITE NANOFIBER THIN FILM - 特許庁

グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱ＣＶＤ装置例文帳に追加

THERMAL CVD APPARATUS FOR FORMING GRAPHITE NANO-FIBER THIN FILM - 特許庁

熱ＣＶＤ装置および薄膜半導体素子の製造方法例文帳に追加

THERMAL CVD SYSTEM AND METHOD FOR FABRICATING THIN FILM SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

そして、熱ＣＶＤ法により６００℃程度でＣｏ膜３表面のうち、下部にＴｉ膜２の形成された部位のみにＣＮＴ４を形成する。例文帳に追加

Then, it employs the thermal CVD method to form CNT4 at about 600°C only at the portion with the Ti film 2 formed at the bottom on the surface of the Co film 3. - 特許庁

また，加熱処理装置５０には，隣り合う熱処理板の間の各区間のウェハＷの搬送を行う３つの搬送部材群Ｄ１〜Ｄ３が設けられる。例文帳に追加

In addition, the heat treatment apparatus 50 is provided with three conveyance member groups D1-D3 to convey wafers W among sections of adjoining heat treatment plates. - 特許庁

複数枚のウェーハを同時に高温で加熱処理可能な高温ＣＶＤ装置に関する。例文帳に追加

To obtain a high temperature CVD system in which a plurality of sheets of wafer can be heat treated simultaneously under a high temperature. - 特許庁

熱触媒体内蔵カソード型ＰＥＣＶＤ装置、それを用いて作製した光電変換装置並びにその製造方法、および熱触媒体内蔵カソード型ＰＥＣＶＤ法、それを用いるＣＶＤ装置、その方法により形成した膜並びにその膜を用いて形成したデバイス例文帳に追加

HEAT CATALYST-CONTAINING CATHODE TYPE PECVD APPARATUS, PHOTOELECTRIC TRANSDUCER MANUFACTURED BY USING THE SAME AS WELL AS ITS MANUFACTURING METHOD, HEAT CATALYST- CONTAINING CATHODE TYPE PECVD METHOD, CVD APPARATUS USING THE SAME, FILM FORMED BY THE SAME METHOD AND DEVICE FORMED BY USING THE SAME FILM - 特許庁