ウエットクリーニングの英語

プラズマクリーニング方法及びウエットクリーニング方法例文帳に追加

PLASMA-CLEANING METHOD AND WET CLEANING METHOD - 特許庁

これにより、例えばドライクリーニングでは除去し得ない金属酸化膜の付着を防止し、ウエットクリーニング作業の頻度を少なくする。例文帳に追加

Deposition of a metal oxide film which cannot be removed by the dry cleaning or the like is prevented, and the frequency of the wet cleaning work is reduced. - 特許庁

これにより、エッチングチャンバ１５ａ内に残留する反応生成物の量を低減し、ウエットクリーニングサイクルを延長する。例文帳に追加

Thus, it is possible to reduce the amounts of the reaction products remaining in the etching chambers 15a, and to extend a wet cleaning cycle. - 特許庁

シャワープレートに付着する反応生成物が減少するため、パーティクルの発生の抑制、エッチング性能の経時変化の抑制、ウエットクリーニング周期が長くなることによる稼働率が向上する等の効果がある。例文帳に追加

Since the reactive product that sticks to the shower plate reduces, such effects are provided as the suppression of occurrence of particles, the suppression of secular change of etching performance, and an improvement in operating rate due to the elongation of a wet-cleaning cycle. - 特許庁

シャワーヘッドの表面に成膜付着防止膜を形成してウエットクリーニング作業の頻度を少なくすることができる成膜処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a film treatment apparatus which can reduce the frequency of the wet cleaning work by forming a film deposition preventive film on a surface of a shower head. - 特許庁

ウエットクリーニング後の処理室再組み立ての不都合、あるいは反応生成物の堆積、部品の削れ等の処理室の状況を診断することのできる半導体処理装置及び半導体処理装置の診断方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor processing apparatus and a diagnostic method for the semiconductor processing apparatus capable of diagnosing a defect of reassembling of a process chamber after wet cleaning or a state of the process chamber such as deposition of reaction products and shaved components. - 特許庁

ガス分散板に堆積する反応生成物を重点的に除去することができるクリーニング手段を設け、所定枚数の成膜ごとに行っているガス分散板のウエットクリーニングの回数を減少させ、装置の稼働率を大幅に向上させることができる化学的気相成長装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a chemical vapor deposition device provided with a clean ing means capable of importantly removing reaction products deposited on a gas dispersion board and capable of reducing the frequency of wet cleaning for the gas dispersion board executed per film formation of the prescribed number and remarkably improving the working ratio of the device. - 特許庁