クリアフィールドの英語

各制御要素に対して、当該制御要素により指定された第１オペランドデータ要素からのデータは、それのゼロクリアフィールドが設定されていない場合に関連付けされた結果のデータ要素位置にシャッフルされ、それのゼロクリアフィールドが設定されていない場合、関連付けされた結果のデータ要素位置にゼロが配置される。例文帳に追加

For each control element, data from a first operand data element designated by the individual control element are shuffled to an associated resultant data element position if its flush to zero field is not set and a zero is placed into the associated resultant data element position if its flush to zero field is not set. - 特許庁

各制御要素に対して、当該制御要素により指定された第１オペランドデータ要素からのデータは、それのゼロクリアフィールドが設定されていない場合に関連付けされた結果のデータ要素位置にシャッフルされ、それのゼロクリアフィールドが設定されていない場合、関連付けされた結果のデータ要素位置にゼロが配置される。例文帳に追加

For each control element, data from a first operand data element designated by the control element is shuffled to an associated resultant data element position if its flush-to-zero field is not set and a zero is placed into the associated resultant data element position if its flush-to-zero field is not set. - 特許庁

フォトマスクを用いて露光する時に、ローカルフレアが原因で発生するクリアフィールド領域とダークフィールド領域とのレジストパターンの寸法差を著しく小さくすることを目的とする。例文帳に追加

To significantly reduce the dimensional difference in a resist pattern between a clear field region and a dark field region caused by local flare on exposing using a photomask. - 特許庁

本発明のフォトマスクは、ローカルフレアの原因となるフォトマスク上のパターンのクリアフィールド領域１Ａにおける開口部を、フォトレジストが完全に解像することができる透過率を有する半透明膜１２で覆い、ダークフィールド領域１Ｂにおける開口部１４においては、半透明膜を形成しない構造とすることを特徴としている。例文帳に追加

The photomask is characterized in that an aperture in the clear field region 1A of a pattern on the photomask causing local flare is covered with a semitransparent film 12 having enough transmittance for complete resolution of a photoresist, while no semitransparent film is formed on an aperture 14 in the dark field region 1B. - 特許庁