高い解像力を有し、ハーフトーン位相差シフトマスク適性（サイドロープ光耐性）が良好かつ疎密依存性が低減された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having high resolving power, good fitness for a halftone phase shift mask (side lobe light resistance) and lowered density dependency. - 特許庁

任意の空間上に配設した複数のマイクロホンの出力信号を通して合成するＢＦであって、不定項ＬＳＥ制御ＢＦとピーク固定付き不定項ＬＳＥ制御ＢＦとを用いて、パラメータの調整が不要であると同時に、サイドロープが二乗誤差の意味で最適なフィルタを設計する。例文帳に追加

A BF way which carries out compositions through the output signals from a plurality of microphones disposed at arbitrary space points, adopts an indefinite term LSE-controlled BF and an indefinite term LSE-controlled BF with peak fixing, thereby eliminating the need to adjust parameters and at the same time, designing a filter optimized for the side lobe in the sense of squared error. - 特許庁