スピンドライの英語

従来のスピンドライヤーを改良し、ワークの汚染や欠損などの発生を抑制することができる新規の乾燥装置を提供する。例文帳に追加

To provide a dryer in which occurrence of contamination or chipping of a work can be suppressed. - 特許庁

ウェーハ等の基板を乾燥させるスピンドライヤー方法および装置において、短時間で効率良く基板を乾燥させること。例文帳に追加

To efficiently dry a substrate, such as a wafer, in a short time by a vacuum spin dryer method for drying the substrate and a vacuum spin dryer device. - 特許庁

ＳＣ１処理およびスピンドライは、ＳＰＭ処理時よりも低温な環境下で実行されるので、基板上保持部３によってウエハＷを強固に保持しても、基板上保持部３の変形を生じない。例文帳に追加

Since the SC1 processing and spin-dry processing are executed in an environment with a temperature lower than that in the SPM processing, the deformation of the substrate upper part holding section 3 can be prevented even if the wafer W is firmly held by the substrate upper part holding section 3. - 特許庁

スピンドライヤの内部にわたって圧力勾配を加えることにより、流体をシールドシステムに沿って所望の方向に移動させる空気流を形成することができる。例文帳に追加

By adding a pressure gradient across the interior of the spin dryer to create an air flow which encourages the fluid to travel along the shielding system in the desired direction. - 特許庁

スピンドライヤの内部にわたって圧力勾配を加えることにより、流体をシールドシステムに沿って所望の方向に移動させる空気流を形成することができる。例文帳に追加

A pressure gradient is applied across the interior of the spin-dryer to create an air flow which encourages fluid to travel along the shield system in a desired direction. - 特許庁

半導体ウエハー表面にパーティクルの付着無く、半導体ウエハー及び収納カセットにウォーターマークが発生せず、スピンドライヤーを使用せず乾燥装置内で静止状態で迅速に半導体ウエハーを乾燥する方法及びその乾燥装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and apparatus for drying rapidly a semiconductor wafer in a resting state in a drying apparatus without using a spin dryer and without particles adhesion on the surface of the semiconductor wafer and a water mark generation on the semiconductor wafer and a holding cassette. - 特許庁