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スペック再作成の英語
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プロセスにクリティカルとなるパターンを事前に抽出し、修正することにより、マスクの再作成をすることなく、短期間にOPC又はプロセス近接効果補正(PPC)後にプロセススペックを達成できるマスクデータの検証、補正方法等を提供する。例文帳に追加
To provide validation and correction methods and the like for mask data for ensuring the process spec after OPC or process proximity effect correction (PPC) in a short period of time without reproducing a mask by preliminarily extracting a pattern which becomes critical in a process and correcting the pattern. - 特許庁
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