プレートステージの英語

ステッパープレートステージを備えた露光装置、及びそれを用いた電気光学装置用基板や電気光学装置の製造方法であって、ステッパープレートステージの主表面に、厚さ１５０μｍ以下の反射抑制部材、例えば、光吸収膜及び反射防止膜を形成することを特徴とする。例文帳に追加

The exposure device equipped with a stepper plate stage, and the methods of manufacturing the substrate for the electrooptical device using the same and the electrooptical device are characterized in that a reflection suppressing member of ≤150 μm in thickness, e.g. a light absorbing film and an antireflective film are formed on a main surface of the stepper plate stage. - 特許庁

プレートＰを保持するプレートステージＰＳＴは、プレートＰを保持する基板テーブル１４と基板テーブル１４を保持する移動テーブル１５とを含んで構成される。例文帳に追加

A plate stage PST for holding a plate P includes a substrate table 14 for holding the plate P, and a mobile table 15 for holding the substrate table 14. - 特許庁

露光装置１は、照明装置ＩＬと、マスクＭを支持するマスクステージ３と、照明視野絞り位置変更ユニット３０と、投影光学ユニット４０と、プレートＰを支持するプレートステージ４とを備える。例文帳に追加

The exposure system 1 is provided with an illuminating device IL, a mask stage 3 to support a mask M, an illuminating field stop position changing unit 30, a projection optical unit 40, and a plate stage 4 to support a plate P. - 特許庁

チャックプレートステージと、その面に配置されたチャックプレートとからなるチャック台において、該チャックプレートの少なくとも絶縁性基板が接触する面に、帯電防止層が形成され、該帯電防止層が炭化珪素（ＳｉＣ）からなることを特徴とするチャック台。例文帳に追加

The chuck table 10 comprising a chucking plate stage 2 and a chucking plate arranged on its surface has an antistatic layer formed on the surface of the chuck plate 3 that at least an insulating substrate comes into contact with, the antistatic layer being made of silicon carbide (SiC). - 特許庁

本体構造体7上のレーザ干渉計支持台と投影光学系6の傾き量を傾斜角計１７(ａ),１７(ｂ),１７(ｃ)により計測して、該計測結果からマスクステージ4とプレートステージ5の相対位置誤差を補正する。例文帳に追加

Tilt amounts of a laser interferometer support base on the body structure 7 and the projection optical system 6 are measured by tilt angle meters 17(a), 17(b), 17(c), and relative position error of the mask stage 4 and the plate stage 5 is corrected from the measurement results. - 特許庁